JPS60237094A - 新規な除草性ホスホン酸及びホスフイン酸誘導体 - Google Patents
新規な除草性ホスホン酸及びホスフイン酸誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な除草性ホスポン酸及びポスフィン酸誘導
体、その塩、その製造方法、有効成分として該化合物を
含有する組成物並びに雑草の選択的な防除の為のそれら
の使用法に関する。
体、その塩、その製造方法、有効成分として該化合物を
含有する組成物並びに雑草の選択的な防除の為のそれら
の使用法に関する。
本発明の新規なホスホン酸及びボスフィン酸誘導体は次
式■: (式中、 Xは水素原子または塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 R1及びR2は各々独立に水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、炭素原子数3ないし4のアルケニル
基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、炭素原子数
1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々未置
換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原
子数1ないし4の710アルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルコキシ基、ニトロ基及びシアノ基から選
ばれる同一または異なる1個または2個の基で置換され
たフェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアル
キル基もしくはナフチル基を表わし、Aは1個もしくは
2個の炭素原子数1ないし2のアルキル基及び/または
1個もしくは2個のフェニル基で置換された炭素原子数
1ないし3のアルキル鎖を表わし、 ただしnが0を表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされる。
式■: (式中、 Xは水素原子または塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 R1及びR2は各々独立に水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、炭素原子数3ないし4のアルケニル
基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、炭素原子数
1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々未置
換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原
子数1ないし4の710アルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルコキシ基、ニトロ基及びシアノ基から選
ばれる同一または異なる1個または2個の基で置換され
たフェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアル
キル基もしくはナフチル基を表わし、Aは1個もしくは
2個の炭素原子数1ないし2のアルキル基及び/または
1個もしくは2個のフェニル基で置換された炭素原子数
1ないし3のアルキル鎖を表わし、 ただしnが0を表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされる。
上記の定義において、ハロゲンはフッ素原子、塩素原子
、臭素原子またはヨウ素原子を表わすが、塩素原子及び
臭素原子が奸才しい。
、臭素原子またはヨウ素原子を表わすが、塩素原子及び
臭素原子が奸才しい。
アルキル基それ自体またはアルキルエステルの部分とし
てのアルキル基は直鎖または分枝鎖であり、示された数
の炭素原子を有する。その様なアルキル基の代表例とし
て、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル基及び
インブチル基が皐げられる。
てのアルキル基は直鎖または分枝鎖であり、示された数
の炭素原子を有する。その様なアルキル基の代表例とし
て、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル基及び
インブチル基が皐げられる。
上記の定義において炭素原子数6ないし4のアルケニル
基または炭素原子数3ないし4のアルキニル基としての
l(l及びR2は同様に直鎖または分枝鎖である。アル
ケニル基は特に2−プロペニル基(アリル基)、2−メ
チル−2−プロペニル基(メタリル基)、1−メチル−
2−プロペニル基、2−ブテニル基及ヒ3−7’テニル
基を表わし、アルキニル基は特に2−プロピニル基(プ
ロパルギル基)、2−ブチニル基及び3−ブチニル基を
表わす。l’(I及びR2として好ましいアルケニル基
はアリル基、メタリル基または2−ブテニル基であり、
R1及びR2として好ましいアルキニル基はプロパルギ
ル基及び2−ブチニル基である。
基または炭素原子数3ないし4のアルキニル基としての
l(l及びR2は同様に直鎖または分枝鎖である。アル
ケニル基は特に2−プロペニル基(アリル基)、2−メ
チル−2−プロペニル基(メタリル基)、1−メチル−
2−プロペニル基、2−ブテニル基及ヒ3−7’テニル
基を表わし、アルキニル基は特に2−プロピニル基(プ
ロパルギル基)、2−ブチニル基及び3−ブチニル基を
表わす。l’(I及びR2として好ましいアルケニル基
はアリル基、メタリル基または2−ブテニル基であり、
R1及びR2として好ましいアルキニル基はプロパルギ
ル基及び2−ブチニル基である。
式■のホスホン酸及びホスフィン酸は新規であり、良好
な選択的除草性を示す。該化合物は種々の有用植物、例
えば穀物、とうもろこし、稲及び大豆の栽培における単
子葉及び特に双子葉の雑草の発芽前及び発芽後の防除に
適している。
な選択的除草性を示す。該化合物は種々の有用植物、例
えば穀物、とうもろこし、稲及び大豆の栽培における単
子葉及び特に双子葉の雑草の発芽前及び発芽後の防除に
適している。
特に有利な式■のホスホン酸及びホスフィン酸誘導体は
下記の化合物である。
下記の化合物である。
上記式■中、Xが水素原子を表わすホスホン酸またはホ
スフィン酸誘導体。
スフィン酸誘導体。
上紀式■中、Xが水素原子を表わし、nが1を表わすホ
スホン酸誘導体。
スホン酸誘導体。
上記式■中、Xが水素原子を表わし、nが0を表わし、
R2が炭素原子数1ないし4のアルキル基または未置換
もしくはハロゲン原子、炭素原 ]子数1ないし4のア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ない
し4の710アルコキシ基、ニトロ基もしくはシアノ基
で置換されたフェニル基を表わすホスフィン酸誘導体。
R2が炭素原子数1ないし4のアルキル基または未置換
もしくはハロゲン原子、炭素原 ]子数1ないし4のア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ない
し4の710アルコキシ基、ニトロ基もしくはシアノ基
で置換されたフェニル基を表わすホスフィン酸誘導体。
好ましい個々の化合物を下記lこ示す。
O,O−ジエチルホスホニルメチル2−ニトロ−5−(
2−クロロ−4−) IJ フルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; メチル−〇−エチルホスフィニルメチル2−ニトロ−5
−(2−/’ロロー4− トリフルオロメチルフェノキ
シ)ベンゾエート; ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5−(2−
クロロ−4−トIJフルオロメチルフェノキシ)ベンゾ
エート; ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5−(2−
クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾエ
ートのイソプロピルアミン塩; 0.0−ジイソプロピルホスホニルメチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; 0、O−ジメチルホスホニルメチル2−ニドo−5−(
2−クロロ−4−) IJ フルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; 0.0−ジ−n−ブチルホスホニルメチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; メチル−〇−イソプロピルホスフィニルメチル2−ニト
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエート;エチル−〇−エチルホスフィニル
メチル2−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トIJフル
オロメチルフェノキシ)ベンゾエート; 0.0−ジメチルホスホニルエチル2−ニトロ−5−(
2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベン
ゾエート; ジヒドロキシホスホニルエチル2−ニトロ−s −(,
2−クロロ−4−) IJフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートのイソプロピルアミン塩; 0、O−’)メチルホスホニルプロピル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4)IJフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエート; ジヒドロキシホスホニルプロピル2−ニトロ−5−(2
−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾ
エートのイソプロピルアミン塩。
2−クロロ−4−) IJ フルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; メチル−〇−エチルホスフィニルメチル2−ニトロ−5
−(2−/’ロロー4− トリフルオロメチルフェノキ
シ)ベンゾエート; ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5−(2−
クロロ−4−トIJフルオロメチルフェノキシ)ベンゾ
エート; ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5−(2−
クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾエ
ートのイソプロピルアミン塩; 0.0−ジイソプロピルホスホニルメチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; 0、O−ジメチルホスホニルメチル2−ニドo−5−(
2−クロロ−4−) IJ フルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; 0.0−ジ−n−ブチルホスホニルメチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエート; メチル−〇−イソプロピルホスフィニルメチル2−ニト
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエート;エチル−〇−エチルホスフィニル
メチル2−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トIJフル
オロメチルフェノキシ)ベンゾエート; 0.0−ジメチルホスホニルエチル2−ニトロ−5−(
2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベン
ゾエート; ジヒドロキシホスホニルエチル2−ニトロ−s −(,
2−クロロ−4−) IJフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートのイソプロピルアミン塩; 0、O−’)メチルホスホニルプロピル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4)IJフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエート; ジヒドロキシホスホニルプロピル2−ニトロ−5−(2
−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾ
エートのイソプロピルアミン塩。
類似の化学構造を有する除草性化合物が公知である。2
−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)安息香酸は合衆国特許第!1928416
号により公知である。
−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)安息香酸は合衆国特許第!1928416
号により公知である。
該安息香酸は除草作用を示すが、かなり強い植物毒性を
有する。また、除草作用を示す2−ニトロ−5−(2−
90ロー4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾエ
ートは合衆国特許第3941850号に記載されている
。ヨーロッパ特許公告第73040号公報には除草性ホ
スホニルメチル及びホスフィニルメチルα−〔4−(2
゜4−ジクロロフェノキシ)フェノキシフプロピオネー
ト、α−[4−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)
フェノキシフプロピオネート及びα−(4−(s−トリ
フルオロメチルピリジル−2−オキシ)フェノキシフプ
ロピオネートが記載されている。さらに、ヨーロッパ特
許公告第78536号公報には、例えば除草性2−ニト
ロ−5−(2−/lロロー4−) 1フルオロメチルフ
エノキシ)フェノキシメチルホスホン酸及び2−ニトロ
−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)フェノキシメチルホスフィン醗及びそれらのエステ
ルが記載されている。これらの化合物はほとんど光分な
作用を示さないか、示してもいくつかの場合のみに限ら
れている。
有する。また、除草作用を示す2−ニトロ−5−(2−
90ロー4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾエ
ートは合衆国特許第3941850号に記載されている
。ヨーロッパ特許公告第73040号公報には除草性ホ
スホニルメチル及びホスフィニルメチルα−〔4−(2
゜4−ジクロロフェノキシ)フェノキシフプロピオネー
ト、α−[4−(4−トリフルオロメチルフェノキシ)
フェノキシフプロピオネート及びα−(4−(s−トリ
フルオロメチルピリジル−2−オキシ)フェノキシフプ
ロピオネートが記載されている。さらに、ヨーロッパ特
許公告第78536号公報には、例えば除草性2−ニト
ロ−5−(2−/lロロー4−) 1フルオロメチルフ
エノキシ)フェノキシメチルホスホン酸及び2−ニトロ
−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)フェノキシメチルホスフィン醗及びそれらのエステ
ルが記載されている。これらの化合物はほとんど光分な
作用を示さないか、示してもいくつかの場合のみに限ら
れている。
新規な式■のホスホン酸及びホスフィン酸誘導体は次式
■: (式中、Xは水素原子または塩素原子を表わし、Yは水
酸基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基またはハロ
ゲン原子を表わす)で表わされる2−ニトロ−5−(2
−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−安息
香酸またはその酸ハライドまたはその反応性エステルを
、不活性有機溶媒中、所望により等モル量の塩基または
組合剤の存在F、−20℃ないし反応混合物の沸点の範
囲の温度にて次式l: 1 R1 (式中、A、n、R’及びR2は前記式■で定義した意
味を表わす)で表わされるホスフィン酸またはホスホン
酸誘導体と反応させ、その縮合生成物を反応混合物から
単離することにより製造される。
■: (式中、Xは水素原子または塩素原子を表わし、Yは水
酸基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基またはハロ
ゲン原子を表わす)で表わされる2−ニトロ−5−(2
−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−安息
香酸またはその酸ハライドまたはその反応性エステルを
、不活性有機溶媒中、所望により等モル量の塩基または
組合剤の存在F、−20℃ないし反応混合物の沸点の範
囲の温度にて次式l: 1 R1 (式中、A、n、R’及びR2は前記式■で定義した意
味を表わす)で表わされるホスフィン酸またはホスホン
酸誘導体と反応させ、その縮合生成物を反応混合物から
単離することにより製造される。
反応は不活性溶媒中で有利に実施される。適する不活性
溶媒はベンゼン、トルエンまたはキシレンの様な芳香族
炭化水素並びにジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
及びジオキサンの様なエーテル類である。特に、反応混
合物から除去すべき水が生じる反応の場合は芳香族炭化
水素が適当である。
溶媒はベンゼン、トルエンまたはキシレンの様な芳香族
炭化水素並びにジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
及びジオキサンの様なエーテル類である。特に、反応混
合物から除去すべき水が生じる反応の場合は芳香族炭化
水素が適当である。
反応温度は広い範囲で変化させ得る。適する反応温度は
例えば−20℃ないし反応混合物の還流温度の範囲内で
ある。室温(20℃)ないし70℃の範囲内の温度で反
応を実施するのが好ましい。
例えば−20℃ないし反応混合物の還流温度の範囲内で
ある。室温(20℃)ないし70℃の範囲内の温度で反
応を実施するのが好ましい。
Yが水酸基を表わす式■の化合物は無水塩化亜鉛もしく
は濃硫酸の存在下で、才たは触媒量の硫酸もしくはP−
トルエンスルホン酸の様な強酸の存在下、還流温度で、
溶媒としてベンゼン、トルエンまたはキシレンの様な芳
香族炭化水素中、生じる水を共沸により除去しながら反
応させるのが好ましい。さらに、N、N−ジシクロへキ
シルカルボジイミドの様な縮合剤の存在下で反応させる
のが有利である。
は濃硫酸の存在下で、才たは触媒量の硫酸もしくはP−
トルエンスルホン酸の様な強酸の存在下、還流温度で、
溶媒としてベンゼン、トルエンまたはキシレンの様な芳
香族炭化水素中、生じる水を共沸により除去しながら反
応させるのが好ましい。さらに、N、N−ジシクロへキ
シルカルボジイミドの様な縮合剤の存在下で反応させる
のが有利である。
Yが炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表わす弐■
の化合物は、還流温度で、上記のうちいずれかの溶媒中
、触媒量の硫酸またはp−トルエンスルホン酸の様な強
酸の存在下で反応させるのが有利である。
の化合物は、還流温度で、上記のうちいずれかの溶媒中
、触媒量の硫酸またはp−トルエンスルホン酸の様な強
酸の存在下で反応させるのが有利である。
Yがハロゲン原子を表わす弐■の化合物の為には、酸ク
ロライド(Y = (1)を用いるのが特に好ましい。
ロライド(Y = (1)を用いるのが特に好ましい。
この反応は、酸受容体として少なくとも等量の塩基の存
在下で反応させるのが有利である。適する塩基はアルカ
リ金属の炭酸塩及び炭酸水素塩並びにアルカリ土類全域
の炭酸塩及び炭酸水素塩の様な無機塩基、並びに第三ア
ミン、例えばトリエチルアミン及びピリジンの様な有機
塩基である。
在下で反応させるのが有利である。適する塩基はアルカ
リ金属の炭酸塩及び炭酸水素塩並びにアルカリ土類全域
の炭酸塩及び炭酸水素塩の様な無機塩基、並びに第三ア
ミン、例えばトリエチルアミン及びピリジンの様な有機
塩基である。
2−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)安息香酸及びその誘導体は例えば合象国
特許第5979457号及び第5928416号及びド
イツ特許公開第3784635号公報に記載されている
。
ルフェノキシ)安息香酸及びその誘導体は例えば合象国
特許第5979457号及び第5928416号及びド
イツ特許公開第3784635号公報に記載されている
。
該安息香酸及びその誘導体は5−ヒドロキシ−2−ニト
ロ安息香酸誘導体を不活性有機溶媒中、塩基の存在下で
1,2−ジクロロ−4−トリフルオロメチルベンゼンと
反応させることにより製造される。
ロ安息香酸誘導体を不活性有機溶媒中、塩基の存在下で
1,2−ジクロロ−4−トリフルオロメチルベンゼンと
反応させることにより製造される。
弐Iの出発物質の大部分及びその製造方法は既に文献に
記載さねている。まだ公仰でない式■の化合物も類似方
法により製造され得る。例えば、Aが未置換才たは1個
もしくは2個の炭素原子数1ないし2のアルキル基もし
くは1個もしくは2個のフェニル基で置換されたメチレ
ン基を表わす式lの化合物は、ホスホネートまたはホス
ホニットを反応式2に従って適当なカルボニル化合物と
反応させることにより得るのが特に適している。
記載さねている。まだ公仰でない式■の化合物も類似方
法により製造され得る。例えば、Aが未置換才たは1個
もしくは2個の炭素原子数1ないし2のアルキル基もし
くは1個もしくは2個のフェニル基で置換されたメチレ
ン基を表わす式lの化合物は、ホスホネートまたはホス
ホニットを反応式2に従って適当なカルボニル化合物と
反応させることにより得るのが特に適している。
(式中、R3及びR4は各々独立に水素原子、炭素原子
数1ないし2のアルキル基またはフェニル基を表わし、
そしてR,、It2及びnは式■で定 (義した意味を
表わす。) このタイプの反応は” Organic Phosph
orusCompounds ” (John Wi
Iey & 5ons、 ニューヨーク)、第6巻、第
26頁及び第7巻、第30頁、並びにJ、Gen、Ch
em、46.1819(1946)に記載されている。
数1ないし2のアルキル基またはフェニル基を表わし、
そしてR,、It2及びnは式■で定 (義した意味を
表わす。) このタイプの反応は” Organic Phosph
orusCompounds ” (John Wi
Iey & 5ons、 ニューヨーク)、第6巻、第
26頁及び第7巻、第30頁、並びにJ、Gen、Ch
em、46.1819(1946)に記載されている。
Aが炭素原子数1ないし2のアルキル基及びフェニル基
が選ばれろ基によりモノもしくはジ置換された1、2−
エチレン基もしくは1,3−プロピレン基を表わす弐l
の化合物は、反応式3に従ってホスホネートまたはホス
ホニットをビニルカルボキシレートに判別するか、また
は反応式4に従ってホスホネートまたはホスホニラトラ
アリルカルボキシレートに判別し、続いて得られた2−
アシルオキシエチルもしくは3−アシルオキシプロピル
ホスホネートもしくはホスホニットを加水分解またはア
ルコーリシスすることにより製造され得る。
が選ばれろ基によりモノもしくはジ置換された1、2−
エチレン基もしくは1,3−プロピレン基を表わす弐l
の化合物は、反応式3に従ってホスホネートまたはホス
ホニットをビニルカルボキシレートに判別するか、また
は反応式4に従ってホスホネートまたはホスホニラトラ
アリルカルボキシレートに判別し、続いて得られた2−
アシルオキシエチルもしくは3−アシルオキシプロピル
ホスホネートもしくはホスホニットを加水分解またはア
ルコーリシスすることにより製造され得る。
(式中、R+ R4R,R,及びR,は水素原子、炭素
原子数1ないし2のアルキル基またはフェニル基を表わ
すが、これらのうち水素原子以外の基を意味する置換基
は各化合物につき2個以下であり、R,、R,及びnは
式■で定義した意味を表わし、Acはカルボン酸好まし
くは酢酸のアシル基を表わし、Rは水素原子、ナトリウ
ム、カリウムもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす。)該反応は、”Organic Phos
−hnrus Compounds”(Jnhn Wi
ley & 5ons、ニューヨーク)第6巻第34頁
及び第7巻第28頁、並びにJ、 Amer、 Che
m、Snc、77、 b 225(1955)及び同書
81. 6275 (1959)に記載されている。
原子数1ないし2のアルキル基またはフェニル基を表わ
すが、これらのうち水素原子以外の基を意味する置換基
は各化合物につき2個以下であり、R,、R,及びnは
式■で定義した意味を表わし、Acはカルボン酸好まし
くは酢酸のアシル基を表わし、Rは水素原子、ナトリウ
ム、カリウムもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす。)該反応は、”Organic Phos
−hnrus Compounds”(Jnhn Wi
ley & 5ons、ニューヨーク)第6巻第34頁
及び第7巻第28頁、並びにJ、 Amer、 Che
m、Snc、77、 b 225(1955)及び同書
81. 6275 (1959)に記載されている。
さらに、Aが未置換または炭素原子数1ないし2のアル
キル基もしくはフェニル基で七ノーもしくは置換された
1、2−エチレン基または1.3−プロピレン基を表わ
す式Iの化合物は、反応式5に従ってホスフィツト及び
ホスホニットを対応するカルボン酸の2−ハロエチルも
しくは3−ハロプロピルエステルとミカエリスーアルブ
ソブ(Michaelis−Arbusov)反応によ
り反応させ、続いて対応する2−アシルオキシエチルも
しくはう一アシルオキシプロピルホスホネートもしくは
ホスホニットを加水分解またはアルコーリシスすること
により製造され得る。
キル基もしくはフェニル基で七ノーもしくは置換された
1、2−エチレン基または1.3−プロピレン基を表わ
す式Iの化合物は、反応式5に従ってホスフィツト及び
ホスホニットを対応するカルボン酸の2−ハロエチルも
しくは3−ハロプロピルエステルとミカエリスーアルブ
ソブ(Michaelis−Arbusov)反応によ
り反応させ、続いて対応する2−アシルオキシエチルも
しくはう一アシルオキシプロピルホスホネートもしくは
ホスホニットを加水分解またはアルコーリシスすること
により製造され得る。
”’In”2 L’ln Rt
(式中、R,、R,及び11は式■で定義した意味を表
わし、Aは炭素原子数1ないし2のアルキル基またはフ
ェニル基でモノもしくはジ置換された1、2−エチレン
または1,3−プロピレン基を表わし、Acはカルボン
酸のアシル基を表わし、Rは水素原子、ナトリウム、カ
リウムまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す。)該反応は”Organic Phosphoru
s Cnmpounds”5oC17B、 6025
(1956)に記載さねでいる。さらに関連事項がドイ
ツ特許公開第2313255号に記載されている。
わし、Aは炭素原子数1ないし2のアルキル基またはフ
ェニル基でモノもしくはジ置換された1、2−エチレン
または1,3−プロピレン基を表わし、Acはカルボン
酸のアシル基を表わし、Rは水素原子、ナトリウム、カ
リウムまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す。)該反応は”Organic Phosphoru
s Cnmpounds”5oC17B、 6025
(1956)に記載さねでいる。さらに関連事項がドイ
ツ特許公開第2313255号に記載されている。
本発明はまた、農薬組成物の製造方法に関する。
製剤、即ち式■の化合物および適当な場合には固体また
は液体の補助剤を含む組成物は、公知の方法により、例
えば有効成分を溶媒、固体担体および適当な場合には表
面活性化合物(界面活性剤)のような増量剤と均一に混
合および/または摩砕することにより、製造される。
は液体の補助剤を含む組成物は、公知の方法により、例
えば有効成分を溶媒、固体担体および適当な場合には表
面活性化合物(界面活性剤)のような増量剤と均一に混
合および/または摩砕することにより、製造される。
適当な溶媒は次のものである:芳香族炭化水素、好まし
くは炭素原子数8ないし120部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン;ジブチルフタレートまたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート;シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素;エタノ
ール、エチレンクリコール、エチレングリコールモノメ
チルまたはモノエチルエーテルのようなアルコールおよ
びグリコール並びにそれらのエーテルおよびエステル;
シクロヘキサノンのようなケトン;N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルム
アミドのような強極性溶媒;並びにエポキシ化ココナツ
ツ油または大豆油のようなエポキシ化植物油;または水
。
くは炭素原子数8ないし120部分、例えばキシレン混
合物または置換ナフタレン;ジブチルフタレートまたは
ジオクチルフタレートのようなフタレート;シクロヘキ
サンまたはパラフィンのような脂肪族炭化水素;エタノ
ール、エチレンクリコール、エチレングリコールモノメ
チルまたはモノエチルエーテルのようなアルコールおよ
びグリコール並びにそれらのエーテルおよびエステル;
シクロヘキサノンのようなケトン;N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルム
アミドのような強極性溶媒;並びにエポキシ化ココナツ
ツ油または大豆油のようなエポキシ化植物油;または水
。
例えば粉剤および分散性粉床に使用できる固体担体は通
常、方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのような天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セピオライトまたはベントナイトであり;そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常に多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。
常、方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまた
はアタパルジャイトのような天然鉱物充填剤である。物
性を改良するために、高分散ケイ酸または高分散吸収性
ポリマーを加えることも可能である。適当な粒状化吸収
性担体は多孔性型のもので、例えば軽石、破砕レンガ、
セピオライトまたはベントナイトであり;そして適当な
非吸収性担体は方解石または砂のような物質である。更
に非常に多くの予備粒状化した無機質および有機質の物
質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸、が使用し得
る。
製剤化すべき式■の化合物の性質によるが、適当な表面
活性化合物は良好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および/またはアニオン性界
面活性剤である。
活性化合物は良好な乳化性、分散性および湿潤性を有す
る非イオン性、カオチン性および/またはアニオン性界
面活性剤である。
゛界面活性剤”の用語は界面活性剤の混合物をも含むも
のと理解されたい。
のと理解されたい。
適当なアニオン性界面活性剤は、水溶性布ケンおよび水
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。
溶性合成表面活性化合物の両者であり得る。
適当な石鹸は高級脂肪@ (C,o” C22)のアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または
置換のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステア
リン酸、或いは例えばココナツツ油または獣脂から慴ら
れる天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩で
ある。脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または非置換または
置換のアンモニウム塩、例えばオレイン酸またはステア
リン酸、或いは例えばココナツツ油または獣脂から慴ら
れる天然脂肪酸混合物のナトリウムまたはカリウム塩で
ある。脂肪酸メチルタウリン塩もまた用い得る。
しかしながら、いわゆる合成界面活性剤、特に脂肪族ス
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が史に頻繁に使用される。
ルホネート、脂肪族サルフェート、スルホン化ベンズイ
ミダゾール誘導体またはアルキルアリールスルホネート
、が史に頻繁に使用される。
脂肪族スルホネートまたはサルフェートは通常アルカリ
金属塩、アルカリ土類金属塩或いは非置換または置換の
アンモニウム塩の形態にあり、そしてアシル基のアルキ
ル部分をも含む炭素原子数8ないし22のアルキル基を
含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサルフェート
または天然脂肪酸から倚られる脂肪族アルコールサルフ
ェートの混合物のすl−IJウムまたはカルシウム塩で
ある。これらの化合物には硫酸エステルの塩および脂肪
族アルコール/エチレンオキシド付加物のスルホン酸の
塩も含まれる。
金属塩、アルカリ土類金属塩或いは非置換または置換の
アンモニウム塩の形態にあり、そしてアシル基のアルキ
ル部分をも含む炭素原子数8ないし22のアルキル基を
含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサルフェート
または天然脂肪酸から倚られる脂肪族アルコールサルフ
ェートの混合物のすl−IJウムまたはカルシウム塩で
ある。これらの化合物には硫酸エステルの塩および脂肪
族アルコール/エチレンオキシド付加物のスルホン酸の
塩も含まれる。
スルホン化ベンズイミダゾール誘導体は、好ましくは二
つのスルホン酸基と8ないし22個の炭素原子を含む一
つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネート
の例は、ナフタレンスルホン酸/ホルムアルデヒド縮合
生成物のす−と− トリウム、カルラムまたはトリエタノールアミン塩であ
る。対応するホスフェート、例えば4ないし14モルの
エチレン オキシド を含むp−ノニルフェノール付加
物のリン酸エステルの堪、もまた適当である。
つのスルホン酸基と8ないし22個の炭素原子を含む一
つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネート
の例は、ナフタレンスルホン酸/ホルムアルデヒド縮合
生成物のす−と− トリウム、カルラムまたはトリエタノールアミン塩であ
る。対応するホスフェート、例えば4ないし14モルの
エチレン オキシド を含むp−ノニルフェノール付加
物のリン酸エステルの堪、もまた適当である。
非イオン性界面活性剤は、好ましくは脂肪族または脂環
式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸およびア
ルキルフェノールのポリグリコール エーテル誘導体で
あり、該誘導体は3ないし301固のグリコール エー
テル基、テ(脂肪族)炭化水素部分に8ないし20個の
炭素原子、そしてアルキルフェノールのアルキル部分に
6ないし18個の炭素原子を含む。
式アルコール、または飽和または不飽和脂肪酸およびア
ルキルフェノールのポリグリコール エーテル誘導体で
あり、該誘導体は3ないし301固のグリコール エー
テル基、テ(脂肪族)炭化水素部分に8ないし20個の
炭素原子、そしてアルキルフェノールのアルキル部分に
6ないし18個の炭素原子を含む。
他の適当な非イオン性界面活性剤は、ポリエチレン オ
キシドとポリプロピレン グリコール、エチレンジアミ
ンポリプロピレン グリコールおよびアルキル鎖中に1
ないし10個の炭素原子を含むアルキルポリプロピlノ
ン グリコールとの水浴性付加物であり、その付加物は
20ないし250個のエチレン グリコール エーテル
基および10ないし100個のプロピレン グリコール
エーテル基を含む。これらの化合物は通常プロピレン
グリコール単位当り1ないし5個のエチレングリコー
ル巣位を含む。
キシドとポリプロピレン グリコール、エチレンジアミ
ンポリプロピレン グリコールおよびアルキル鎖中に1
ないし10個の炭素原子を含むアルキルポリプロピlノ
ン グリコールとの水浴性付加物であり、その付加物は
20ないし250個のエチレン グリコール エーテル
基および10ないし100個のプロピレン グリコール
エーテル基を含む。これらの化合物は通常プロピレン
グリコール単位当り1ないし5個のエチレングリコー
ル巣位を含む。
非イオン性界面活性剤の代表的例は、ノニルフェノール
−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコール
エーテル、ポリプロピレン/ポリエチレン オキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、
ポリエチレン グリコールおよびオクチルフェノキシエ
トキシエタノールである。ポリオキシエチレンソルビタ
ントリオレートの様なポリオキシエチレン ソルビタン
トリオレートの様なポリオキシエチレン ソルビタン
の脂肪酸エステルもまた適当な非イオン性界面活性剤で
ある。
−ポリエトキシエタノール、ヒマシ油ポリグリコール
エーテル、ポリプロピレン/ポリエチレン オキシド付
加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、
ポリエチレン グリコールおよびオクチルフェノキシエ
トキシエタノールである。ポリオキシエチレンソルビタ
ントリオレートの様なポリオキシエチレン ソルビタン
トリオレートの様なポリオキシエチレン ソルビタン
の脂肪酸エステルもまた適当な非イオン性界面活性剤で
ある。
カチオン性界面活性剤は、好ましくはN−置換基として
少なくとも一つの炭素原子数8ないし22のアルキル基
と、他の置換基として低級非置換またはハロゲン化アル
キル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基と
を含む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはハ
ロゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態に
あり、例エバステアリルトリメチルアンモニウム クロ
リドまたはベンジル ジー(2−クロロエチル)エチル
アンモニウム プロミドである。
少なくとも一つの炭素原子数8ないし22のアルキル基
と、他の置換基として低級非置換またはハロゲン化アル
キル基、ベンジル基または低級ヒドロキシアルキル基と
を含む第四アンモニウム塩である。該塩は好ましくはハ
ロゲン化物、メチル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態に
あり、例エバステアリルトリメチルアンモニウム クロ
リドまたはベンジル ジー(2−クロロエチル)エチル
アンモニウム プロミドである。
製剤業界で慣用の界面活性剤は例えば下記の刊行物に記
載されている:″″″マクカツチヤンズデタージエンツ
ンド エマルジファイアーズ アニュアル(Me Cu
tcheon’s Detergentsand Em
ulsifiers Annual)”、フック出版社
、リッジウッド、ニューシャーシー州、1981年;バ
ー、シュタッヒx (H,S t ache)、 ”テ
ンジッドータツシェンブーフ(Ten5 id −Ta
shenbuch)”。
載されている:″″″マクカツチヤンズデタージエンツ
ンド エマルジファイアーズ アニュアル(Me Cu
tcheon’s Detergentsand Em
ulsifiers Annual)”、フック出版社
、リッジウッド、ニューシャーシー州、1981年;バ
ー、シュタッヒx (H,S t ache)、 ”テ
ンジッドータツシェンブーフ(Ten5 id −Ta
shenbuch)”。
第2版、シー、ハンザ−フエルラーク(C0Hanse
r Verlag)、ミx−二−/ ヒオヨU’j 4
エンナ、1981年;エム、およびジェー、アッシx
(M、and J、 Ash)、 ” エンサイクロペ
ディア オブ サーファクタンツ(Encyclnpe
diaof 5urfactants)”、第1−1巻
、ケミカル出版社、ニューヨーク、1980〜1981
年。
r Verlag)、ミx−二−/ ヒオヨU’j 4
エンナ、1981年;エム、およびジェー、アッシx
(M、and J、 Ash)、 ” エンサイクロペ
ディア オブ サーファクタンツ(Encyclnpe
diaof 5urfactants)”、第1−1巻
、ケミカル出版社、ニューヨーク、1980〜1981
年。
除草剤組成物は通常、式■の化合物[1,1ないし99
%、好ましくは0.1ないし95%、固体または液体補
助剤1ないし999%、および界面活性剤口ないし25
%、好ましくは01ないし25%を含む。
%、好ましくは0.1ないし95%、固体または液体補
助剤1ないし999%、および界面活性剤口ないし25
%、好ましくは01ないし25%を含む。
好ましい製剤としては特に下記の成分よりなるものが挙
げられる(%は重量百分率を示す、、):溶液 有効成分:5ないし95%、好ましくは10ないし80
% 溶 媒=95ないし5%、好ましくは90ないし10% 界面活性剤:1ないし50%、好ましくは2ないし20
% 乳剤原液 有効成分:10ないし50%、好ましくは10ないし4
0% 界面活性剤:5ないし30%、奸才しくは10ないし2
0% 液体担体:20ないし95%、好ましくは40ないし8
0% 粉 剤 有効成分:0,5ないし10%、好ましくは2ない、し
8% 固体担体:995ないし90%、好ましくは98ないし
92% 懸濁原液 有効成分:5ないし75%、好ましくは10ないし50
% 水 =94ないし25%、好ましくは90ないし30% 界面活性剤=1ないし40%、好ましくは2ないし3a
% 水利剤 有効成分=0.5ないし90%、好ましくは1ないし8
0% 界面活性剤:α5ないし20%、好ましくは1ないし1
5% 固体担体:5ないし90%、奸才しくは30ないし70
% 粒 剤 有効成分:15ないし50%、好ましくは3ないし15
% 固体担体:99.5ないし70%、好ましくは97ない
し85% 市販品は好ましくは濃厚物として製剤化されれが、消費
者は通常希釈製剤を使用する。製剤は0.001にのよ
うな低濃度に希釈することができる。
げられる(%は重量百分率を示す、、):溶液 有効成分:5ないし95%、好ましくは10ないし80
% 溶 媒=95ないし5%、好ましくは90ないし10% 界面活性剤:1ないし50%、好ましくは2ないし20
% 乳剤原液 有効成分:10ないし50%、好ましくは10ないし4
0% 界面活性剤:5ないし30%、奸才しくは10ないし2
0% 液体担体:20ないし95%、好ましくは40ないし8
0% 粉 剤 有効成分:0,5ないし10%、好ましくは2ない、し
8% 固体担体:995ないし90%、好ましくは98ないし
92% 懸濁原液 有効成分:5ないし75%、好ましくは10ないし50
% 水 =94ないし25%、好ましくは90ないし30% 界面活性剤=1ないし40%、好ましくは2ないし3a
% 水利剤 有効成分=0.5ないし90%、好ましくは1ないし8
0% 界面活性剤:α5ないし20%、好ましくは1ないし1
5% 固体担体:5ないし90%、奸才しくは30ないし70
% 粒 剤 有効成分:15ないし50%、好ましくは3ないし15
% 固体担体:99.5ないし70%、好ましくは97ない
し85% 市販品は好ましくは濃厚物として製剤化されれが、消費
者は通常希釈製剤を使用する。製剤は0.001にのよ
うな低濃度に希釈することができる。
この組成物はまた他の成分例えば安定剤、消泡剤、粘度
調節剤、結合剤、粘着伺与剤並びに肥料、または特別な
効果のための他の有効成分を含有してもよい。
調節剤、結合剤、粘着伺与剤並びに肥料、または特別な
効果のための他の有効成分を含有してもよい。
上記のような農薬組成物は本発明の目的を構成する。
下記の実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かしながら本発明はこれらの実施例により限定されるも
のではない。
かしながら本発明はこれらの実施例により限定されるも
のではない。
実施例1:0.O−ジエチルホスホニルメチル2−ニト
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエートの製造反応容器にヒドロキシメチル
−〇、0−ジエチルホスホネート4.4 f (α02
6Wll)、トリエチルアミン57m/((1026モ
ル)、4−ピペリジノピリジンα3f及びテトラヒドロ
フラン10〇−を入れる。室温で攪拌しながら、テトラ
ヒドロフラン50−中の2−ニトロ−5−(2−クロロ
−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾイルクロ
ライド10 f ((1026モル)の溶液を反応混合
物にゆっくり滴下する。反応は発熱性であり、トリエチ
ルアンモニウム塩酸塩が沈殿する。バッチを37℃で1
時間、続いて70℃で1時間攪拌し、その後放冷する。
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエートの製造反応容器にヒドロキシメチル
−〇、0−ジエチルホスホネート4.4 f (α02
6Wll)、トリエチルアミン57m/((1026モ
ル)、4−ピペリジノピリジンα3f及びテトラヒドロ
フラン10〇−を入れる。室温で攪拌しながら、テトラ
ヒドロフラン50−中の2−ニトロ−5−(2−クロロ
−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゾイルクロ
ライド10 f ((1026モル)の溶液を反応混合
物にゆっくり滴下する。反応は発熱性であり、トリエチ
ルアンモニウム塩酸塩が沈殿する。バッチを37℃で1
時間、続いて70℃で1時間攪拌し、その後放冷する。
塩を吸引濾過により除去した後、U液をロータリーエバ
ポレーターで濃縮し、続いて高度減圧状態で乾燥する。
ポレーターで濃縮し、続いて高度減圧状態で乾燥する。
残留した油状物質162グをシリカゲルのクロマトグラ
フィーにかけ、CH,Cl 7M e 0H(95:5
)溶液で展開する。
フィーにかけ、CH,Cl 7M e 0H(95:5
)溶液で展開する。
収量=1t4y(理論量の85%)、油状物質。
20゜
nD、1.5236゜
実施例2:メチルー〇−エチルホスフィニルメチル2−
ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゾエート反応容itこヒドロキシメチル
メチル−〇−エチルホスフィネート10f!(α072
m/)、トリエチルアミン10wLl(0,072モル
)、4−ピペリジノピリジンα5f及びトルエン150
−を入れる。攪拌しながら、トルエン50d中の2−ニ
トロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ベンゾイルクロライド27.59(0,072
モル)の溶液を反応混合物に滴下する。
ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゾエート反応容itこヒドロキシメチル
メチル−〇−エチルホスフィネート10f!(α072
m/)、トリエチルアミン10wLl(0,072モル
)、4−ピペリジノピリジンα5f及びトルエン150
−を入れる。攪拌しながら、トルエン50d中の2−ニ
トロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ベンゾイルクロライド27.59(0,072
モル)の溶液を反応混合物に滴下する。
温度が50℃に一ヒ昇し、トリエチルアミン塩酸塩が沈
殿する。バッチを50℃で1時間、続いて70℃で1時
間攪拌し、その後冷却する。沈殿を吸引1過により除去
した後、P液をロータリーエバポレーターで濃縮する。
殿する。バッチを50℃で1時間、続いて70℃で1時
間攪拌し、その後冷却する。沈殿を吸引1過により除去
した後、P液をロータリーエバポレーターで濃縮する。
残留した油状物質57fを高度真空状態で50℃で乾燥
した後、シリカゲルのクロマトグラフィーにかけ、CH
2CJI /MeOH(95: 5 )溶液で展開する
。
した後、シリカゲルのクロマトグラフィーにかけ、CH
2CJI /MeOH(95: 5 )溶液で展開する
。
収量= 26.12(理論量の75%) * n2B=
1.5550゜実施例3ニジヒドロキシホスホニルメチ
ル2−ニトロ−5−(2−クロロ−4−1−IJフルオ
ロメチルフェノキシ)ベンゾエートの製造反応容器に0
,0−ジイソプロピルホスホニルメチル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエート5 f ((LOO95モル)及びクロロ
ホルム100WLlを入わる。室温で攪拌しながらトリ
メチルブロモシラン175m (10278モル)を反
応混合物に加える。バッチを70℃で2時間、続いて室
温で1晩攪拌する。その後クロロホルムをロータリーエ
バポレーターで留去し、残留した油状物質を高度減圧状
態で乾燥する。この油状物質をエタノール中で攪拌し、
その黄色溶液を再びロータリーエバポレーターで濃縮し
、続いて0.2mbar 、 50 ℃で乾燥する。得
られた遊離酸をエタノール中で2.5当量のイソプロピ
ルアミンを添加することによりその塩に添加する。
1.5550゜実施例3ニジヒドロキシホスホニルメチ
ル2−ニトロ−5−(2−クロロ−4−1−IJフルオ
ロメチルフェノキシ)ベンゾエートの製造反応容器に0
,0−ジイソプロピルホスホニルメチル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエート5 f ((LOO95モル)及びクロロ
ホルム100WLlを入わる。室温で攪拌しながらトリ
メチルブロモシラン175m (10278モル)を反
応混合物に加える。バッチを70℃で2時間、続いて室
温で1晩攪拌する。その後クロロホルムをロータリーエ
バポレーターで留去し、残留した油状物質を高度減圧状
態で乾燥する。この油状物質をエタノール中で攪拌し、
その黄色溶液を再びロータリーエバポレーターで濃縮し
、続いて0.2mbar 、 50 ℃で乾燥する。得
られた遊離酸をエタノール中で2.5当量のイソプロピ
ルアミンを添加することによりその塩に添加する。
収量:2.1p、融点105℃(分解、96〜100℃
で半融) 上記の実施例と同様の方法により下記の化合物が得られ
る。
で半融) 上記の実施例と同様の方法により下記の化合物が得られ
る。
配合例
実施例4:
式■で表わされる液状有効成分の配合例(蟹は重量%を
表わす) a)乳剤原液 a) b) c) 第1表の化合物 20%40%50% ド1ンルベンセンスルホン酸カルシウム 5% 8%
5.8%シクロへキサノン −15%20% キシレン混合物 70%25%2oに 乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度のエマ
ルジョンを製造することができる。
表わす) a)乳剤原液 a) b) c) 第1表の化合物 20%40%50% ド1ンルベンセンスルホン酸カルシウム 5% 8%
5.8%シクロへキサノン −15%20% キシレン混合物 70%25%2oに 乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度のエマ
ルジョンを製造することができる。
b)溶液剤 a) b) 。) d)
第1表の化合物 aoH1o%5%95%エチレンクリ
コールモノメチルエーテル 20% −−−ポリエナレ
ングリコール(MW、4oo) −70% −−N−メ
チル−2−ピロリドン −20%−−エポキシ化ココナ
ツト油 −−1%5%石油留出物(沸点範囲160−1
90℃) −−94% −こわらの浴液は微小筒状で施
用するのに適する。
コールモノメチルエーテル 20% −−−ポリエナレ
ングリコール(MW、4oo) −70% −−N−メ
チル−2−ピロリドン −20%−−エポキシ化ココナ
ツト油 −−1%5%石油留出物(沸点範囲160−1
90℃) −−94% −こわらの浴液は微小筒状で施
用するのに適する。
C) 粒 剤 a) b)
第1表の化合物 5%10%
カオリン 94% −
高分散性ケイ酸 1% −
アタパルジャイト −90%
有効成分を塩化メチレンに溶解し、この溶液を担体に噴
霧し、続いて溶媒を減圧留去する。
霧し、続いて溶媒を減圧留去する。
d) 粉 剤 a) b)
第1表の化合物 2% 5%
高分散性ケイ酸 1% 5%
タルク 97% −
カオリン − 90%
有効成分と担体とを均一に混合することにより、そのま
ま使用することのできる粉剤が得られる。
ま使用することのできる粉剤が得られる。
実施例5:
式■で表わされる固形有効成分の配合例(%は重量によ
る) a)水利剤 a) b) 第1の化合物 20% 60π リグノスルホン酸ナトリウム 5% 5%ラウリル硫酸
ナトリウム 3% − ジイソブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム −6%
高分散性ケイ酸 5% 27% カオリン 67% − 有効成分を助剤とともに十分に混合した後、該混合物を
適当なミルで良く磨砕すると、水で希釈して所望の濃度
の懸濁液を得ることのできる水利剤が得られる。
る) a)水利剤 a) b) 第1の化合物 20% 60π リグノスルホン酸ナトリウム 5% 5%ラウリル硫酸
ナトリウム 3% − ジイソブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム −6%
高分散性ケイ酸 5% 27% カオリン 67% − 有効成分を助剤とともに十分に混合した後、該混合物を
適当なミルで良く磨砕すると、水で希釈して所望の濃度
の懸濁液を得ることのできる水利剤が得られる。
b)乳剤原液
第1表の化合物 10%
ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 5%ヒマシ油
ホリグリコールエーテル (エチレンオキシド36モル) 4% シクロへキサノン 0% キシレン混合物 、。% この乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度の
エマルジョンを伺ることができる。
ホリグリコールエーテル (エチレンオキシド36モル) 4% シクロへキサノン 0% キシレン混合物 、。% この乳剤原液を水で希釈することにより、所望の濃度の
エマルジョンを伺ることができる。
C) 粉 剤 a) b)
第1表の化合物 5% 8%
タルク 95% −
カオリン − 92%
有効成分を担体とともlこ混合し、適当なミル中でこの
混合物を磨砕することにより、そのまま使用することの
できる粉剤を得た。
混合物を磨砕することにより、そのまま使用することの
できる粉剤を得た。
d)押出し粒剤
第1表の化合物 10%
リグノスルホン酸ナトリウム 2%
カルボキシメチルセルロース 1%
カオリン 87%
有効成分を助剤とともに混合及び磨砕し、続いてこの混
合物を水で湿めらす。混合物を押出し、空気流中で乾燥
させる。
合物を水で湿めらす。混合物を押出し、空気流中で乾燥
させる。
e)被接粒剤
第1表の化合物 5%
ポリエチレングリコール(MW、2oo) s%カカオ
ン 94% 細かく粉砕した有効成分を、ミキサー中で、ポリエチレ
ングリコールで湿めらせたカオリンに均一に施用する。
ン 94% 細かく粉砕した有効成分を、ミキサー中で、ポリエチレ
ングリコールで湿めらせたカオリンに均一に施用する。
この方法により非粉塵性被接粒剤が傅られる。
f)懸濁原液
第1表の化合物 40%
エチレングリコール 10%
リグノスルホン酸ナトリウム 10%
カルボキシメチルセルロース 1%
37%ホルムアルデヒド水溶液 a2π75%水性エマ
ルジョン形シリコンオイル 0.8%水 32% 細かく粉砕した有効成分を助剤とともに均一 (に混合
し、水で希釈することにより所望の濃度の懸濁液を得る
ことのできる懸濁性濃厚物が得られる。
ルジョン形シリコンオイル 0.8%水 32% 細かく粉砕した有効成分を助剤とともに均一 (に混合
し、水で希釈することにより所望の濃度の懸濁液を得る
ことのできる懸濁性濃厚物が得られる。
生物学的実施例
温室内で種々の植物試験を行なうことにより選択的除草
袢を調べる。これらの試験において、化合物105の有
効性をヨーロッパ特許願第73040号により公知の次
式: で表わされる0、0 ジイソプロピルホスホニルメチル
4−(5−)リフルオロメチルピリジル−2−オキシ)
フェノキシプロピオネートと比較する。
袢を調べる。これらの試験において、化合物105の有
効性をヨーロッパ特許願第73040号により公知の次
式: で表わされる0、0 ジイソプロピルホスホニルメチル
4−(5−)リフルオロメチルピリジル−2−オキシ)
フェノキシプロピオネートと比較する。
実施例6二発芽前作用
温室内の直径11.の植木鉢に、1鉢にっき12−30
の植物が生育するように植物の種子を播く。播種後直ち
に、乳剤原液を水で希釈して得られる試験化合物の水性
乳剤を土壌表面に噴霧する。種々の濃度の製剤を施用し
、有効成分の量を1ヘクタール当りの勾として算出する
。その後、植木鉢を温室内で22−25℃相対温度50
〜70%に保ち1.定期的に潅水する。3週間後に試験
を評価する。植物の状態は下記の基準に従って評価され
ろ。
の植物が生育するように植物の種子を播く。播種後直ち
に、乳剤原液を水で希釈して得られる試験化合物の水性
乳剤を土壌表面に噴霧する。種々の濃度の製剤を施用し
、有効成分の量を1ヘクタール当りの勾として算出する
。その後、植木鉢を温室内で22−25℃相対温度50
〜70%に保ち1.定期的に潅水する。3週間後に試験
を評価する。植物の状態は下記の基準に従って評価され
ろ。
1 植物が発芽しないか、または枯死する。
2〜3非常に重大な損傷
4 重大な損傷
5 中程度の損傷、生育の阻害
6 損傷、植物は回復可能
7〜B軽微な損傷
9 通常の生付、未処理植物と同程度
結果を第2表に示す。
第2表
実施例7:発芽後試験
温室内の植木鉢の種から、棹々の栽培植物を4〜6葉期
に達するまで生肯する。試験化合物の水性乳剤を1ヘク
タール当たり125〜1000fの濃度で植物に噴霧す
る。植物を最適条件の採光、温度(22〜25℃)及び
相対湿度(50〜70%)に保ち、潅水する。15日後
lこ、発芽前試験の基準に従って試験の評価を行なう。
に達するまで生肯する。試験化合物の水性乳剤を1ヘク
タール当たり125〜1000fの濃度で植物に噴霧す
る。植物を最適条件の採光、温度(22〜25℃)及び
相対湿度(50〜70%)に保ち、潅水する。15日後
lこ、発芽前試験の基準に従って試験の評価を行なう。
結果を第3表に示す。
第3表:
実施例8:稲の試験
さらに、下記の雑草と共に水中で生育させた若い稲を用
いて該化合物の発芽後作用を試験する。
いて該化合物の発芽後作用を試験する。
25日齢の稲植物を温室内の方形の大型石綿セメント容
器に移植する。稲作で生じる雑草、即ちエキツクロア(
Echinochlna)、シルプス(5cirpus
)、モノジャリア(MnnochaBa)及びサジタリ
ア(Sagi ttaria )の種を稲の列の間に播
く。容器は充分に潅水し、約25℃の温度及び高湿に保
つ。12日後、雑草が発芽し2〜5葉期に達したら、各
容器中の土壌を2.5 crnの高さまで水で榎う。そ
して、試験化合物の乳剤原液を稲の列間にピペットで滴
下する。乳剤原液は希釈され、各々2p’、/及び’/
Kg / h aの4 施用率になる様に施用されろ。4週間後に試験を評価す
る。植物の成長は発芽前試験と同じ基準に従って評価す
る。結果を第4表に示す。
器に移植する。稲作で生じる雑草、即ちエキツクロア(
Echinochlna)、シルプス(5cirpus
)、モノジャリア(MnnochaBa)及びサジタリ
ア(Sagi ttaria )の種を稲の列の間に播
く。容器は充分に潅水し、約25℃の温度及び高湿に保
つ。12日後、雑草が発芽し2〜5葉期に達したら、各
容器中の土壌を2.5 crnの高さまで水で榎う。そ
して、試験化合物の乳剤原液を稲の列間にピペットで滴
下する。乳剤原液は希釈され、各々2p’、/及び’/
Kg / h aの4 施用率になる様に施用されろ。4週間後に試験を評価す
る。植物の成長は発芽前試験と同じ基準に従って評価す
る。結果を第4表に示す。
第4表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次式■: (式中、 Xは水素原子または塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 R1及びWは各々独立に水素原子、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、炭素原子数3ないし4のアルケニル基
、炭素原子数6ないし4のアルキニル基、炭素原子数1
ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし40ア
ルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原
子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々未置換
もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子
数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4
のハロアルコキシ基、ニトロ基及びシアノ基から選ばれ
る同一または異なる111I!jまたは2個の基で置換
されたフェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4の
アルキル基もしくはナフチル基を表わし、 Aは1個もしくは2個の炭素原子数1ないし2のアルキ
ル基及び/または1個もしくは2個のフェニル基で置換
された炭素原子数1ないし3のアルキル鎖を表わし、 ただしnが0を表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされる新規なホスホン酸またはホス
フィン酸誘導体。 (2)上記式I中、Xが水素原子を表わす特許請求の範
囲第1項記載のホスホン酸またはホスフィン酸誘導体。 (3)上記式I中、Xが水素原子を表わし、nが1を表
わす特許請求の範囲第1項記載のホスホン酸誘導体。 (4)上記式■中、Xが水素原子を表わし、nが0を表
わし、R2が炭素原子数1ないし4のアルキル基または
未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1な
いし4のハロアルコキシ基、ニトロ基もしくはシアン基
で置換されたフェニル基を表わす特許請求の範囲第1項
記載のホスフィン酸誘導体。 (510,0−ジエチルホスホニルメチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 +61 メfルー〇−エチルホスフィニルメチル2−ニ
トロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロ−メチルフ
ェノキシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 (7)ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5−
(2−クロロ−4−1−IJフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 (8) ジヒドロキシホスホニルメチル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートのイソプロピルアミン塩である特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 (910,0−ジイソプロピルホスホニルメチル2−ニ
トロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 αQ0.0−ジメチルホスホニルメチル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の化合物
。 Oη 0.0−ジ−n−ブチルホスホニルメチル2−ニ
トロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 02 メチル−〇−イソプロピルホスフィニルメチル2
−ニトロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項
記載の化合物。 03 エチル−〇−エチルホスフィニルメチル2−ニト
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 α4)0,0−ジメチルホスホニルエチル2−ニトロ−
5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の化合
物。 (ト) ジヒドロキシホスホニルエチル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートのイソプロピルアミン塩である特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 (f9 o、o−ジメチルホスホニルプロピル2−ニト
ロ−5−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゾエートである特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 aη ジヒドロキシホスホニルプロピル2−ニトロ−5
−(2−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゾエートのイソプロピルアミンである特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 (ト)次式l: 入 (式中、Xは水素原子または塩素原子を表わし、Yは水
酸基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基またはハロ
ゲン原子を表わす)で表わされる2−ニトロ−5−(2
−クロロ−4−) IJフルオロメチルフェノキシ)安
息香酸またはその酸ハライドまたはその反応性エステル
を、不活性有機溶媒中、所望により等モル量の塩基また
は縮合剤の存在下、−20℃ないし反応混合物の沸点の
範囲の温間にて次式■: HO−A−P(Q R2(璽) OR’ (式中、A、n、R’及びR2は後記式■で定義する意
味を表わす)で表わされるホスフィン酸またはホスホン
酸誘導体と反応させ、その縮合生成物を反応混合物から
単離することを特徴とする次式I: 1 (式中、 Xは水素原子または塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 R1及びR2は各々独立に水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、炭素原子数3ないし4のアルケニル
基、炭素原子数5ないし4のアルキニル基、炭素原子数
1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4の
アルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々未置
換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原
子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし
4のハロアルコキシ基、ニトロ基及ヒシアノ基から選ば
れる同一または異なる1個または2個の基で置換された
フェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基もしくはナフチル基を表わし、 Aは1個もしくは2個の炭素原子#11ないし2のアル
キル基及び/または1個もしくは2個のフェニル基で置
換された炭素原子数1 1ないし3のアルキル鎖を表わ
し、 ただしnが0を表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされるホスホン識またはホスフィン
酸誘導体の製造方法。 翰 上記式中、Yが水酸基を表わし、反応を硫酸の存在
下、または水分離器甲で、または縮合剤の存在下で実施
することを特徴とする特許請求の範囲第18項記載の方
法。 翰 上記式中、Yがハロゲン原子を表わし、反応を等モ
ル量の塩基の存在下で実施することを特徴とする特許請
求の範囲第18項記載の方法。 (21) 上記式中、Yが炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基を表わし、不活性有機溶媒中、所望により触媒
量の塩基または酸の存在下で煮沸することにより縮合さ
せることを特徴とする特許悄求の範囲第18項記載の方
法。 (支)有効成分として次式■: (式中、 Xは水素原子才たは塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 ]’(1及びR2は各々独立に水素原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基、炭素原子数6ないし4のアルケ
ニル基、炭素原子数3ないし4のアルキニル基、炭素原
子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし
4のアルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々
未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭
素原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1な
いし4のハロアルコキシ基、ニトロ基及びシアン基から
選ばれる同一または異なる1個または2個の基で置換さ
れたフェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のア
ルキル基もしくはナフチル基を表わし、 Aは1個もしくは2個の炭素原子数1ないし2のアルキ
ル基及び/または1個もしくは2個のフェニル基で置換
された炭素原子数1ないし3のアルキル鎖を表わし、 ただしnが0を表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされる新規なホスホン酸またはホス
フィン酸誘導体を不活性助剤と共に含有する除草性組成
物。 の 除草剤として有効量の次式I: (式中、 Xは水素原子下たは塩素原子を表わし、nは0または1
を表わし、 1(1及びR2は各々独立に水素原子、炭素原子数1な
いし4のアルキル基、炭素原子数3ないし4のアルケニ
ル基、炭素原子数6ないし4のアルキニル基、炭素原子
数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ないし4
のアルコキシ−炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭
素原子数1ないし4のシアノアルキル基、または各々未
置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素
原子数1ないし4のハロアルキル基、炭素原子数1ない
し4のハロアルコキシ基、ニトロ基及びシアン基から選
ばれる同一または異なる1個または2個の基で置換され
たフェニル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアル
キル基もしくはナフチル基を表わし、 Aは1個もしくは2個の炭素原子数1ないし2のアルキ
ル基及び/または1個もしくは2個のフェニル基で置換
された炭素原子数1ないし3のアルキル鎖を表わし、 ただしnがOを表わすときR2は水素原子を表わさない
ものとする)で表わされるホスホン酸またはホスフィン
酸誘導体を植物またはその生背地に施用することを特徴
とする、有用植物の栽培において雑−を選択的に防除す
る方法。 @ 穀物、とうもろこし、稲及び大豆の栽培において雑
草を選択的に防除することを特徴とする特許請求の範囲
第23項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH194684 | 1984-04-17 | ||
| CH1946/84-0 | 1984-04-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60237094A true JPS60237094A (ja) | 1985-11-25 |
Family
ID=4222289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60082127A Pending JPS60237094A (ja) | 1984-04-17 | 1985-04-17 | 新規な除草性ホスホン酸及びホスフイン酸誘導体 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4640701A (ja) |
| EP (1) | EP0165203B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60237094A (ja) |
| AU (1) | AU575931B2 (ja) |
| BR (1) | BR8501805A (ja) |
| CA (1) | CA1252114A (ja) |
| DE (1) | DE3564945D1 (ja) |
| IL (1) | IL74918A0 (ja) |
| NZ (1) | NZ211816A (ja) |
| PH (1) | PH22905A (ja) |
| ZA (1) | ZA852822B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016210778A (ja) * | 2015-05-11 | 2016-12-15 | 学校法人神奈川大学 | 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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