JPS60243221A

JPS60243221A - 再溶融化処理装置のト−チ移動方法

Info

Publication number: JPS60243221A
Application number: JP7068084A
Authority: JP
Inventors: Norihiko Saga; 佐賀　紀彦; Akitaka Inao; 稲生　昭孝; Tatsushi Fujii; 藤井　堅司
Original assignee: Honda Motor Co Ltd
Current assignee: Honda Motor Co Ltd
Priority date: 1984-04-09
Filing date: 1984-04-09
Publication date: 1985-12-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（技術分野）本発明は、カムシャフトにおける複数のカム部の各カム
面等を効率よく硬化処理する再溶融化処理装置のトーチ
移動方法区間する。

（背景技術）カムシャフトにおけるカム部のカム面の表面硬化処理と
して再溶融化処理（リメルト処理）が実用に供されてい
る。ところでカムシャフトは、例えば４気筒エンジンで
は少なくとも８個、６気筒エンジンでは少なくとも１２
個のカム部を有する。このような複数のカム部を宥する
カムシャフトに再溶融化処理を施すときには、従来各カ
ム部のそれぞれに処理トーチを配設し、又はスペース或
いは各カム部の回転角の位相ずれを考慮することにより
カム部をグループ分けし各グループに対応する複数の処
理トーチを配設するようにしていた．そして、カムシャ
フトを回転させて上記各カム部を再溶融化処理し、次い
でカムシャフトを交換し、他のカムシャフトに対して同
様な処理を行い、これを反復するように構成されていた
。

上記従来のカムシャフトの再溶融化処理装置によれば、
多数の処理トーチを必要とし、装置の複雑化、大型化、
コストアップ等の問題を招来する。

また、近年エンジンは軽量化、コンパクト化が図られる
ことから、カムシャフトにおける各カム部の離間距離も
小さくなる傾向にあるため、各カム部のそれぞれに対応
して処−トーチを並設することは実際上困難である。

（発明の目的）本発明は、上記問題に鑑みて成されたもので、その目的
とする処は、多気筒エンジンのカムシャフトにおける複
数のカム部等の如く複数の被処理部を有する部材を効率
よく合理的に再溶融化処理することを企図し、これによ
って作業の省略化。

装置の低コスト化及び小型化、メンテナンスの容易化を
図ることにある。

（発明の構成）本発明は、軸方向に離間させて複数の被処理部を備える
被処理物を回転させつつ、処理トーチで上記被処理部を
再溶融化処理する方法において、処理トーチを１個又は
２個とし、この処理トーチを、制御手段からの制御信号
に基づいて、上記被処理物の軸方向に移動させ、上記複
数の被処理部に順次に臨ませて各被処理部を再溶融化処
理し、この再溶融化処理に係る処理トーチの移動を各被
処理物について反復するように構成したことを、その要
旨とする。

（実施例）以下に本発明の好適一実施例を添付図面に基づいて説明
する。

先ず本発明に係る再溶融化処理装置の全体的装置構成を
第１図、第２図、第３図に従い説明する。°第１図は正
面図、第２図は平面図、第３図は側面図である。

第２図、第３図において、（１）は予熱部であり、予熱
部（１）にはワークチャック（２）を回転軸に設けたモ
ータ（３）と、センタ（４）を備えた軸方向押付シリン
ダ（５）とが、一定の距離をあけて基台（６）のテーブ
ル（７）上に配設されている。ワークチャック（２）と
センタ（４）との間には、これらによって支持される、
再溶融化処理される前段階のカムシャフト（８）が配置
され、モータ（３）の作動によって回転されながら高周
波加熱コイル（８）によって加熱される。

予熱されたカムシャフト（８）は、上方に配設されたロ
ーグー（１０）によってテーブル（７）の奥側に位置す
る隣接された処理部（１１）に移される。

処理部（１１）は再溶融化処理を行うステーションであ
る。処理部（１１）においても、カムシャフト（８）を
支持固定するためのワークチャック（１２）を減速機構
（１３）を介して備えるモータ（１４）と、センタ（１
５）を備える軸方向押付シリンダ（１Ｂ）とを配設して
いる。この場合軸方向押付シリンダ（１Ｂ）はテーブル
（７）上の支持枠台（１７）に架設されたガイドバー（
１？ａ）　、　（１？ａ）に案内され、第１図中左方向
に移動し得る。これにより各種の長さ寸法のカムシャフ
トに対応させることができる。

上記チャック（１２）とセンタ（１５）で支持されるカ
ムシャフト（８）の、テーブル（７）奥側における斜め
上方には、門型の支持枠（１日）を設ける。この支持枠
（１８）の第１図中における左右の縦枠部（１８ａ）。

（１８ａ）の間には上下に離間してガイドバー（Ｉｌｌ
）。

（１８）を架設する。ガイドバー（’１９）、（１９）
は、再溶融化処理用のプラズマトーチ（Ｔ１）のベース
（２ｏ）の上下の部分に挿通され、トーチ（Ｔ１）が第
１図中左右方向へ移動するのを保障する。上記上下のガ
イドバー（ｉｌｌ）、（ｌｌａ’）の間には送りネジ（
２１）を回転自在に横架し、この送りネジ（２１）は上
記ベース（２０）に螺合している。送りネジ（２１）は
、第１図中左側の縦枠部（１８ａ）外方のトーチ移動用
モータ（２２）に伝動機構（２３）を介して連結され、
この皐−タ（２２）によって正逆回転駆動される。

またベース（２０）には、プラズマトーチ（Ｔ１）を保
持するホルダ（２４）を、上下動し得るように設けてい
る。従ってベース（２０）内にはホルダ（２４）を上下
動せしめるモータ（２０ａ）が設けられる。ホルダ（２
４）に保持されたプラズマトーチ（Ｔ１）はその先部を
下方向に向け、ワークチャック（１２）とセンタ（１５
）との間に配設されたカムシャフト（８）の上側にてそ
の長袖が上下方向になる如く配設される。

プラズマトーチ（Ｔ１）の先部には第５図に示すような
ノズル部（２５）が設けられる。ノズル部（２５）では
シールドキャップ（２６）内にチップ（２７）を配設し
、それらの間にシールドガスのための通路（２８）を形
成している。チップ（２７）の中心には作動ガス通路（
２？ａ）を形成し、その周囲には冷却通路（２８）が形
成される。（３０）はタングステン等の電極である。ま
たシールドキャップ（２６）には金属粉未導入管（３１
）、（３１）を、その軸線の延長線が通路（２？ａ）の
延長線と交叉する如く挿通固着している。斯かるノズル
部（２５）の電極（３０）による放電と作動ガスのプラ
ズマ化でカムシャフト（８）のカム部（８７１）。

の外表面に溶融池を形成する一方、金属粉未導入管（３
１＞、（３１）からの金属粉末の供給で再溶融化処理を
行う。第４図において、（３２）はプラズマ電源であり
、プラズマトーチ（Ｔ１）の電極（３０）に対して所要
の電力を供給する。また（３３）は粉末供給装置であり
、振動“装置（３４）で振動を加えながら、管路（３５
）、（３ｉ５）を介して上記金属粉未導入管（３１）。

（３１）に対して金属粉末を供給する。管路（３５）。

（３５）の途中には粉末の供給について確認を行う検出
装置（３Ｂ）が配設されている。

第４図において、（３７）は制御装置である。制御装置
（３７）はコンピュータからなり、予め組み込まれたプ
ログラムに従って、前述したワーク回転用モータ（１４
）と、トーチ（Ｔ＋）を横方向に移動させるモータ（２
２）と、トーチ（ＴＩ）を上下方向に移動させるベース
（２０）内のモータ（２０ａ）とに対して動作を指示す
る制御信号を付与する。この制御信号はパルス信号であ
る。従って上記各モータにはパルスモータが使用される
。また、別の方式として、エンコーダ等の位置検出器の
サーボモータによるフィードバック制御を行う方法でも
よい。また同時に、プラズマ電源（３２）、粉末供給装
置（３３）、振動装置（３４）に対しても作動のために
駆動信号を付与する。　。

一方、ベース（２０）と一体となった取付台（３８）に
固設された（３９）はカム部検出器であり、この検出器
（３８）によって各カム部の位置及び各カム部における
カム面の位置が検出され、その検出信号が制御装置（３
７）に送られる。

次にカムシャフト（８）の処理方法及びプラズマトーチ
（Ｔ１）の制御方法を説明する。

予熱部（１）で予熱したカムシャフト（８）をローグー
（１０）で移し、アークチャック（１２）とセンタ（１
５）との間に配置固定する。続いて、モータ（２２）に
よる送りネジ（２１）の作用でベース（２０）を横方向
に移動させ、且つホルダ（２４）をベース（２０）内の
モータ（２０＆）で下動させる二こうして待機状態にあ
ったトーチ（Ｔ１）を、第４図に示される如く、カムシ
ャフト（８）の左端の第１のカム部（８−１）に対して
、そのノズル部（２５）がカム面との間に所定のクリア
ランスを保持して配置する。

斯かる′状態において、トーチ（Ｔ１）のノズル部（２
５）によってカムシャフト（８）のカム部（８−１）の
カム面に、既述した通り第５図に示す如く再溶融化処理
を施す。この場合において、カムシャフト（８）はモー
タ（１４）によって減速機構（１３）を介し低速で回転
させる一方、トーチ（Ｔ１）はその先部をカム面との間
で一定のクリアランスを保持すべくカム部（８−１）の
高さ変化に対応させながら上下動させると共に、カム部
（Ｓ−ｔ＞めカム面の幅の間においてトーチ（Ｔ１）を
横方向に往復動させる。トーチ（Ｔ１）の上下動はベー
ス（２０）内のモータ（２０ａ）によって、またその往
復動はモータ（２２）によって、それぞれ制御装置（３
７）による制御の下で行われる。

この結果１．第６図に示すように、トーチ（Ｔ１）はカ
ム面上において、蛇行軌跡（＾）を描きなか、９再溶融
化処理を行うことになる。

上記の如くして、カム部（８−１）の再溶融化処理が終
了した後には、隣りのカム部（８−２）にトーチ（Ｔ１
）を移動させ、前記と同様な溶融処理を行う。

以後、第７図に示されるようにトーチ（丁１）を、カム
部（８−２）〜（８−８）について順次に送り、各カム
部で再溶融化処理を施し、処理を完了した後にトーチ待
機位置に移動させ、待機させるように制御する。斯くし
て、カムシャフトを交換し、新たなカムシャフトに対し
て前記と同様な処理を施す。

以上においてトーチ（Ｔ１）の横方向の移動は、寝制御
装置（３７）から与えられるパルス信号によって、モー
タ（２２）を動作させることにより行われる。

上記再溶融化処理装置によれば、一つのトーチ（Ｔ１）
によって複数のカム部についての再溶融化処理を行うこ
とができるため、装置全体を簡易且つ小型に形成するこ
とができる。

次に他の変更実施例として、第１図乃至第４図に示す如
く、前記トーチ（Ｔ１）に対して、他のトーチ（Ｔ２）
を右側位置に設けるように構成することができる。トー
チ（Ｔ９）について、　（２４°）はホルダ、（２０°
）はベースである。ベース（２０°）は前記ガイドバー
（ｉｌｌ）、（ｔｓ）に嵌挿され、且つ送りネジ（２１
’）に螺合している。よってモータ　（２２’）によっ
てトーチ（Ｔ９）も独自に移動し得るように構成される
。トーチ（丁９）に係るその他の構成は、前記トーチ（
Ｔ１）と同様である。ただし、トーチ（Ｔ９）の、モー
タ　（２２°）による横方向の移動及びベース（２０’
）内のモータによる上下方向の移動は制御装置（３７）
の制御の下に行われる。

カムシャフト（８）における各カム部（８−１）〜（８
−１１）は、第９′図に示される如く、（８−１）と（
８−４）　、　（８−２）と（８−８）　、　（８−３
）と（８−７）　、　（８−５）と（８−８）がそれぞ
れほぼ−位相となる。また各対におけるカム部は十分な
離間距離を有している。

そこで、トーチ（Ｔ１）についてはカム部（８−１）。

（８−２）　、　（８−３）　、　（８−５）を、トー
チ（Ｔ９）についてはカム（８−４）、（８−８）、（
８−７）、（８−８）をそれぞれ受け持たせ、第８図に
示す如く、各トーチを同時に移動させながら、再溶融化
処理を行わせるように制御する。

斯くすれば、トーチ（Ｔ１）　、　（Ｔ９）は干渉する
ことなく、各トーチが再溶融化処理の１／２を負担する
ため処理時間が１／２となる。また各トーチ（Ｔｉ）。

（Ｔ９）はほぼ同位相のカム部を同時に再溶融化処理で
きるようにしたため、各再溶融化処理においては同一の
プログラムによってトーチの上下動、横方向の往復動を
制御することができ、制御が簡易である。

（発明の効果）以上の説明で明らかなように本発明によれば、１個又は
２個の処理トーチを使用し、これらのトーチで複数の被
処理部を再溶融化処理するようにしたため、装置全体の
構成が簡易且つコンパクトになり、メンテナンス上も都
合が良く、稼動率も向上する。また制御装置に組み込ま
れたプログラムに従って制御手段からのパルス信号に基
づいて処理トーチの位置決めを行うようにしたため、機
種変更の際の制御動作の変更を容易に行い得る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る再溶融化処理装置の正面図、第２
図は同装置の平面図、第３図は同装置の側面図、第４図
は同装置の制御系に係る構成図、第５図はプラズマトー
チのノズル部の拡大縦断面図、第６図はトーチの処理軌
跡を示す図、第７図は単一トーチにおける移動工程を示
す図、第８図は２個のトーチによる場合の移動工程を示
す図、第９図はカムシャフトの側面図（Ａ）及び各カム
部のトップ位置を示す図（Ｂ）である・図面中、（１）は予熱部、（３）、（１４）、（２２）
、（２２°）はモータ、（８）はカムシャフト、（８−
１）〜（８−８）はカム部、（ｌＯ）はローグー、（１
１）は再溶融化処理部、（１８）は支持枠、（１８）は
ガイドバー、　（２０）。（２０°）はプラズマトーチのベース、（２１）、（２
１’）は送りネジ、（２４）　、　（２４°）はプラズ
マトーチのホルダ、（２５）はノズル部、（３７）は制
御装置、（Ｔ１）。（Ｔ９）はプラズマトーチである。特許出願人　本田技研工業株式会社代理人　弁理士　下　１）容一部間　弁理士　大　橋　邦　部同　弁理士　小　山　有手続補正書（自船昭和６０年６月１９日特許庁長官　志賀　学　殿１、事件の表示特願昭５９−０７０６８０号２、発明の名称再溶融化処理装置のトーチ移動方法３、補正をする者事件との関係　特許出願人（５３２，）　本田技研工業株式会社４、代理人東京都港区麻布台２丁目４番５号〒１０６メソニツク３９森ビル２階５、補正命令の口付　自　発６、補正の対象明細書の発明の名称の欄および特許請求の範囲の欄７、
補正の内容（１、発明の名称を「再溶融硬化処理装置のトーチ移動
方法」と訂正する。（２、特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。（３、発明の詳細な説明の欄を以下の通り訂正する。ａ、第２頁第６行目乃至第７行目、同頁第１０行目、同
頁第１５行目、第３頁第１行目、同頁第４行目２同頁第
１７行目、第４頁第４行目、同頁第８行目、同頁第９行
目、同頁第１５行目、第５頁第５行目、同頁第１２行目
、第６頁第７行目乃至第８行目、第７頁第１８行目乃至
第１９行目、第９頁第２０行目乃至第１０頁第１行目、
同頁第１２行目乃至第１３行目、同頁第１４行目、同頁
第１９行目、第１１頁第７行目、同頁第８行目乃至第９
行目、第１２頁第１３行目、同頁第１６行目、同頁第１
８行目、同頁第１９行目、第１３頁第６行目、同頁第１
５行目、第１４頁第６行目にｒ再溶融化第理Ｊとあるを
「再溶融硬化処理」に訂正する。ｂ、第１０頁第１６行目に「溶融処理」とあるをｒ溶融
硬化処理」に訂正する。別紙「２、特許請求の範囲（１）軸方向に離間させて複数の被処理部を備える被処
理物を回転させつつ、処理トーチ！上記被処理部を再溶
融硬化処理する方法において。上記処理トーチを少なくとも１個とし、　・　・この処
理トーチを、制御ｉ段からの制御信号に基づいて、上記
被処理物の軸方向に移動させ、上記複数の彼処、環部に
順次臨ませて各被処理部を再溶融硬化処理し、上記再溶融硬化処理に係る上記処理トーチの移動を各被
処理物について反復する。　゛ように構成したことを特
徴とする再溶融硬化処理装置のトーチ移動方法。（２）前記処理トーチを２（１１とし、各処理トーチを
、制御手段から制御信号に基づいて、上記被処理物の軸
方向に独立に移動させ、上記複数の被処理部について同
相の被処理部に順次臨ませるようにしたことを特徴とす
る特許

Claims

【特許請求の範囲】

（１）軸方向に離間させて複数の被処理部を備える被処
理物を回転させつつ、処理トーチで上記被処理部を再溶
融化処理する方法において、上記処理トーチを少なくと
も１個とし、この処理トーチを、制御手段からの制御信
号に基づいて、上記被処理物の軸方向に移動させ、上記
複数の被処理部に順次臨ませて各被処理部を再溶融化処
理し、上記再溶融化処理に係る上記処理トーチの移動を各被処
理物について反復する、ように構成したことを特徴とする再溶融化処理装置のト
ーチ移動方法。
（２）前記処理トーチを２個とし、各処理トーチを、制
御手段から制御信号に基づいて、上記被処理物の軸方向
に独立に移動させ、上記複数の被処理部について同相の
被処理部に順次臨ませるようにしたことを特徴とする特
許項記載の再溶融化処理装置のトーチ移動方法。