JPS6024329A - 連続式直火型加熱炉 - Google Patents
連続式直火型加熱炉Info
- Publication number
- JPS6024329A JPS6024329A JP13195383A JP13195383A JPS6024329A JP S6024329 A JPS6024329 A JP S6024329A JP 13195383 A JP13195383 A JP 13195383A JP 13195383 A JP13195383 A JP 13195383A JP S6024329 A JPS6024329 A JP S6024329A
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- JP
- Japan
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- furnace
- heating furnace
- direct
- fired heating
- soaking
- Prior art date
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はＣＡＬ、ＣＧＬ等の薄鋼板の連続式直火型加
熱炉に関し、特に直火加熱炉とラジアントチューブ方式
等の間接加熱炉から成る連続式直火型加熱炉に関する。
熱炉に関し、特に直火加熱炉とラジアントチューブ方式
等の間接加熱炉から成る連続式直火型加熱炉に関する。
第１図に連続式直火型加熱炉を採用した薄鋼板の連続焼
鈍設備の一例を示す。図中（１］は入側設備、（２）は
直火加熱炉、（３）はラジアントチューブ式の均熱炉、
（４）はガスジェット冷却設備、（５）は冷却帯、（６
）は過時効炉、（７）は出側設備である。第２図はこの
直火加熱炉（２）と均熱炉（３）部分の拡大図でｈ’）
炉内の全体的なガス流れを矢印で示している。即ち、均
熱炉（３）へ供給されたＨ、 十Ｎ２’（Ｈ２濃度５〜
２５％）等の雰囲気ガスは直火加熱炉（２）へ流れ、直
火加熱炉（２）内の燃焼ガスと混合し、直火加熱炉（２
）の排ガスポート又はこれと連結している予熱炉の排ガ
スポート（８）から炉外へ導かれ、レキュペレータ（図
示せず）を介して煙突（図示せず）へ導かれる構成とな
っている。
鈍設備の一例を示す。図中（１］は入側設備、（２）は
直火加熱炉、（３）はラジアントチューブ式の均熱炉、
（４）はガスジェット冷却設備、（５）は冷却帯、（６
）は過時効炉、（７）は出側設備である。第２図はこの
直火加熱炉（２）と均熱炉（３）部分の拡大図でｈ’）
炉内の全体的なガス流れを矢印で示している。即ち、均
熱炉（３）へ供給されたＨ、 十Ｎ２’（Ｈ２濃度５〜
２５％）等の雰囲気ガスは直火加熱炉（２）へ流れ、直
火加熱炉（２）内の燃焼ガスと混合し、直火加熱炉（２
）の排ガスポート又はこれと連結している予熱炉の排ガ
スポート（８）から炉外へ導かれ、レキュペレータ（図
示せず）を介して煙突（図示せず）へ導かれる構成とな
っている。
このような構成は連続式直火加熱炉を採用しているほと
んどのＣＡＬ、ＣＧＬの連続加熱・均熱設備に共通であ
る。
んどのＣＡＬ、ＣＧＬの連続加熱・均熱設備に共通であ
る。
一方均熱炉（３）においては炉内を還元性雰囲気とし、
その露点と受入空気防止のための炉内圧のコントロール
を供給ガス量と前記排ガスポート（８）に設けられたダ
ンパ（９）によシ行っている。また直火加熱炉において
も侵入空気を防止するために炉内圧をコントロールする
必要がアリ、この場合にも同一のダンパ（９）を使用し
ている。
その露点と受入空気防止のための炉内圧のコントロール
を供給ガス量と前記排ガスポート（８）に設けられたダ
ンパ（９）によシ行っている。また直火加熱炉において
も侵入空気を防止するために炉内圧をコントロールする
必要がアリ、この場合にも同一のダンパ（９）を使用し
ている。
しかし、このようにダンパ（９）を共用していることか
ら、次のような種々の問題が生ずることが実験、研究の
結果明らかとなってきた。
ら、次のような種々の問題が生ずることが実験、研究の
結果明らかとなってきた。
■通板種類（鋼種、版厚、板巾）の変更時に直火加熱炉
（２）の燃焼量を変化させた時に、排ガスポート（８）
から排出される総排ガス量が変動し、これは、直火加熱
炉（２）内の炉圧のみ外らず、均熱炉（３）内の炉圧を
も変動する。
（２）の燃焼量を変化させた時に、排ガスポート（８）
から排出される総排ガス量が変動し、これは、直火加熱
炉（２）内の炉圧のみ外らず、均熱炉（３）内の炉圧を
も変動する。
■■の際に、ダンパ（９）調整を行うが、追従遅ｆＬを
生じて、直火加熱炉（２）側の燃焼ガスが均熱炉（３）
内へ逆流を生ずる場合があジ、均熱炉内の還元雰囲気を
乱す恐れがある。
生じて、直火加熱炉（２）側の燃焼ガスが均熱炉（３）
内へ逆流を生ずる場合があジ、均熱炉内の還元雰囲気を
乱す恐れがある。
実際に逆流を生ずると露点が上がり、露点を所定値以下
にもどすのに長時間を要する。
にもどすのに長時間を要する。
■定常時においても、均熱炉（３）からの雰囲気ガス（
通常５００〜２０００ Ｎｍ３／Ａｒ 、炉容積で異る
）の温度は、均熱炉温（均熱条件によって異々るが、７
００℃〜８５０℃）に近く、直火加熱炉内の燃焼ガス温
度とくらべはるかに低い。このようなガスが直火加熱炉
内へ侵入すると直火加熱炉内の燃焼ガス温度を著しく低
下させ、加熱能力を低下させる。
通常５００〜２０００ Ｎｍ３／Ａｒ 、炉容積で異る
）の温度は、均熱炉温（均熱条件によって異々るが、７
００℃〜８５０℃）に近く、直火加熱炉内の燃焼ガス温
度とくらべはるかに低い。このようなガスが直火加熱炉
内へ侵入すると直火加熱炉内の燃焼ガス温度を著しく低
下させ、加熱能力を低下させる。
因に、雰囲気ガス量が直火加熱炉燃焼ガス量の１７１Ｏ
程度であっても、加熱能力としては、約３０％低下する
。
程度であっても、加熱能力としては、約３０％低下する
。
θ）また、直火加熱炉において鋼板の無酸化加熱を行う
ような場合、直火加熱炉内の燃焼ガス組成および燃焼ガ
スの流れを適正に維持する必要があるが、均熱炉からの
雰囲気ガスが直火加熱炉へ侵入すると、これらを犬きぐ
損い、無酸化加熱を行うことが出来なくなる場ｅがある
。
ような場合、直火加熱炉内の燃焼ガス組成および燃焼ガ
スの流れを適正に維持する必要があるが、均熱炉からの
雰囲気ガスが直火加熱炉へ侵入すると、これらを犬きぐ
損い、無酸化加熱を行うことが出来なくなる場ｅがある
。
本発明は上記した従来技術における炉内ガスの流れに関
わる諸問題を解決するためになされたもので、均熱炉に
炉内雰囲気ガスの排出手段を設けることによシ均熱炉と
直火加熱炉とを炉内ガスの流れの点において完全に独立
させたものである。
わる諸問題を解決するためになされたもので、均熱炉に
炉内雰囲気ガスの排出手段を設けることによシ均熱炉と
直火加熱炉とを炉内ガスの流れの点において完全に独立
させたものである。
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第３図において、均熱炉（３）に炉内雰囲気ガスの排出
手段である排ガスポートα０が設けられており、ここか
ら雰囲気ガスを放出できるようになっている。この排ガ
スポートα０）の位置は均熱炉（３）の任意位置とする
。まｌこ排ガスポートα１にはダンパα℃が装着され、
これにより均熱炉（３）の炉内圧を直火加熱炉（２）と
は独立してコントロールできる構成となっている。
手段である排ガスポートα０が設けられており、ここか
ら雰囲気ガスを放出できるようになっている。この排ガ
スポートα０）の位置は均熱炉（３）の任意位置とする
。まｌこ排ガスポートα１にはダンパα℃が装着され、
これにより均熱炉（３）の炉内圧を直火加熱炉（２）と
は独立してコントロールできる構成となっている。
該排ガスポートαＱは図示しないレキュペレータ及び煙
突に接続している。なお図中囚）はストリップである。
突に接続している。なお図中囚）はストリップである。
第３図の実施例では直火加熱炉（２）と均熱炉（３）と
の境には単純な断熱材壁α◆を設けているたけであるが
、たとえば直火炉で無酸化加熱を行う場合等ニジ厳密な
シールを必要とする場合には何らかのシール装置を設け
るのが望ましい。
の境には単純な断熱材壁α◆を設けているたけであるが
、たとえば直火炉で無酸化加熱を行う場合等ニジ厳密な
シールを必要とする場合には何らかのシール装置を設け
るのが望ましい。
たとえばＭ４図に直火加熱炉（２）と均熱炉（３）との
間にシールロール（ロ）を設置し７た例を示す。
間にシールロール（ロ）を設置し７た例を示す。
塘た第５図にラビリンスシール壁α１を装着した例を示
す。
す。
第６図に示す実施例は直火加熱炉（２）と均熱炉（３）
との間に中間室■を設け、直火加熱炉（２）と均熱炉（
３）との境目に夫々シール装置（２１）（ハ）を設けて
２段シールを行う構成としている。そして更にこの中間
案（イ）に所定温度（均熱炉温）の還元性雰囲気ガスに
）を供給して均熱炉（３）及び直火加熱炉（２）の炉圧
よシ若干高＜ １．ておき、均熱炉（３）と直火加熱炉
（２）の炉内ガスの分離を完全にしている。
との間に中間室■を設け、直火加熱炉（２）と均熱炉（
３）との境目に夫々シール装置（２１）（ハ）を設けて
２段シールを行う構成としている。そして更にこの中間
案（イ）に所定温度（均熱炉温）の還元性雰囲気ガスに
）を供給して均熱炉（３）及び直火加熱炉（２）の炉圧
よシ若干高＜ １．ておき、均熱炉（３）と直火加熱炉
（２）の炉内ガスの分離を完全にしている。
またこの実施例では中間室■にも排ガスポート（ハ）と
ダンパ（ハ）とを設け、中間室翰の内圧のコントロール
を容易にしている。
ダンパ（ハ）とを設け、中間室翰の内圧のコントロール
を容易にしている。
なお中間室翰と直火加熱炉（２）あるいは均熱炉（３）
とのシールは必ずしも完全に行われるとは考えにくく、
とくに直火加熱炉から出てくるストリップ（３）表面に
随伴されてくる燃焼ガスの侵入は防止しきれない可能性
がある。そして若干でも侵入して来た燃焼ガスは、方向
を変えるロール表面を酸化させる恐れがある。
とのシールは必ずしも完全に行われるとは考えにくく、
とくに直火加熱炉から出てくるストリップ（３）表面に
随伴されてくる燃焼ガスの侵入は防止しきれない可能性
がある。そして若干でも侵入して来た燃焼ガスは、方向
を変えるロール表面を酸化させる恐れがある。
従って、この中間室（ホ）に供給される雰囲気ガスとし
ては、中間室翰内のロール保護（ロール表面の酸化防止
）の目的から還元性の高いガスを使用することが好まし
い。そのため均熱炉（３）で使用後の雰囲気ガスを吸引
してブロワ−で加圧して中間室−へ送る方法も考えられ
るが、この場合、露点の高いすなわち水分の多いガスと
々っていることが予想され、好ましくない。
ては、中間室翰内のロール保護（ロール表面の酸化防止
）の目的から還元性の高いガスを使用することが好まし
い。そのため均熱炉（３）で使用後の雰囲気ガスを吸引
してブロワ−で加圧して中間室−へ送る方法も考えられ
るが、この場合、露点の高いすなわち水分の多いガスと
々っていることが予想され、好ましくない。
したがって通常均熱炉（３）の雰囲気ガスとしては、Ｈ
２濃度５〜１５％程度のものを使用しているが、これよ
シも若干高めのＨ２濃度、好ましくはｌＯ〜２５チ程度
のＨ２を含み、かつ露点の低いガスを直火加熱炉（２）
あるいは均熱炉（３）の燃焼排ガスのレキュペレータで
予熱した後に中間室−へ導入するのが好ましい。
２濃度５〜１５％程度のものを使用しているが、これよ
シも若干高めのＨ２濃度、好ましくはｌＯ〜２５チ程度
のＨ２を含み、かつ露点の低いガスを直火加熱炉（２）
あるいは均熱炉（３）の燃焼排ガスのレキュペレータで
予熱した後に中間室−へ導入するのが好ましい。
以上説明したように本発明の連続式直火型加熱炉におい
ては、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手段を設けている
ため、直火型加熱炉と均熱炉の炉圧、炉内条件を個別に
管理することが容易となり、通板条件の変更時のアイド
ル時間の大幅短縮が可能である。また直火加熱炉の加熱
効率を約１５〜３０％向上させることができる等の効果
がある。
ては、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手段を設けている
ため、直火型加熱炉と均熱炉の炉圧、炉内条件を個別に
管理することが容易となり、通板条件の変更時のアイド
ル時間の大幅短縮が可能である。また直火加熱炉の加熱
効率を約１５〜３０％向上させることができる等の効果
がある。
第１図と第２図は従来技術の説明図、第３図乃至第６図
は本発明の詳細な説明図である。 ００）・・・排ガスボート、０η・・・ダンパ、ａａ・
・・シールロール、（１３・・・ラビリンスシール、（
１Φ・・・断・熱材壁、（イ）・・・中間室、ｅｌ）・
・・シール装置、に）・・・還元性雰囲気ガス、（ハ）
・・・排ガスポート、（ハ）・・・ダンパ。 特許出願人 １ヨ本鋼管株式会社 発 明 者 福 １） 脩 玉 量 國 岡 計 大 同 阿 部 正 広 手続補正書 昭和５８年 ８月２’ｌ ｌヨ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 （特約症審査官 殿） １、事件の表示 昭和り８ 年 持 許 願第１．３１’１５−３ 号４
代理人 ５ 補正命令の日付 補 正 内 容 １本願明細書中鎖２頁１４行目中「受入空気防止」とあ
るをｒ侵入空気防止」と訂正する。
は本発明の詳細な説明図である。 ００）・・・排ガスボート、０η・・・ダンパ、ａａ・
・・シールロール、（１３・・・ラビリンスシール、（
１Φ・・・断・熱材壁、（イ）・・・中間室、ｅｌ）・
・・シール装置、に）・・・還元性雰囲気ガス、（ハ）
・・・排ガスポート、（ハ）・・・ダンパ。 特許出願人 １ヨ本鋼管株式会社 発 明 者 福 １） 脩 玉 量 國 岡 計 大 同 阿 部 正 広 手続補正書 昭和５８年 ８月２’ｌ ｌヨ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 （特約症審査官 殿） １、事件の表示 昭和り８ 年 持 許 願第１．３１’１５−３ 号４
代理人 ５ 補正命令の日付 補 正 内 容 １本願明細書中鎖２頁１４行目中「受入空気防止」とあ
るをｒ侵入空気防止」と訂正する。
Claims (1)
- 直火加熱炉と間接加熱による均熱炉から成る連続式直火
型加熱炉において、均熱炉に均熱炉内の雰囲気ガスを炉
外へ排出する排出手段を設けたことを特徴とする連続式
％式％
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195383A JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195383A JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6024329A true JPS6024329A (ja) | 1985-02-07 |
| JPS6259168B2 JPS6259168B2 (ja) | 1987-12-09 |
Family
ID=15070066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13195383A Granted JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6024329A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6099537A (en) * | 1996-02-26 | 2000-08-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Medical treatment instrument |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP13195383A patent/JPS6024329A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6099537A (en) * | 1996-02-26 | 2000-08-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Medical treatment instrument |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6259168B2 (ja) | 1987-12-09 |
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