JPS6259168B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6259168B2 JPS6259168B2 JP13195383A JP13195383A JPS6259168B2 JP S6259168 B2 JPS6259168 B2 JP S6259168B2 JP 13195383 A JP13195383 A JP 13195383A JP 13195383 A JP13195383 A JP 13195383A JP S6259168 B2 JPS6259168 B2 JP S6259168B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- direct
- fired heating
- soaking
- heating furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この説明はCAL，CGL等の薄鋼板の連続式直
火型加熱炉に関し、特に直火加熱炉とラジアント
チユーブ方式等の間接加熱炉から成る連続式直火
型加熱炉に関する。
火型加熱炉に関し、特に直火加熱炉とラジアント
チユーブ方式等の間接加熱炉から成る連続式直火
型加熱炉に関する。
第１図に連続式直火型加熱炉を採用した薄鋼板
の連続焼鈍設備の一例を示す。図中１は入側設
備、２は直火加熱炉、３はラジアントチユーブ式
の均熱炉、４はガスジエツト冷却設備、５は冷却
帯、６は過時効炉、７は出側設備である。第２図
はこの直火加熱炉２と均熱炉３部分の拡大図であ
り炉内の全体的なガス流れを矢印で示している。
即ち、均熱炉３へ供給されたH2＋N2（H2濃度５
〜25％）等の雰囲気ガスは直火加熱炉２へ流れ、
直火加熱炉２内の燃焼ガスと混合し、直火加熱炉
２の排ガスポート又はこれと連結している予熱炉
の排ガスポート８から炉外へ導かれ、レキユペレ
ータ（図示せず）を介して煙突（図示せず）へ導
かれる構成となつている。
の連続焼鈍設備の一例を示す。図中１は入側設
備、２は直火加熱炉、３はラジアントチユーブ式
の均熱炉、４はガスジエツト冷却設備、５は冷却
帯、６は過時効炉、７は出側設備である。第２図
はこの直火加熱炉２と均熱炉３部分の拡大図であ
り炉内の全体的なガス流れを矢印で示している。
即ち、均熱炉３へ供給されたH2＋N2（H2濃度５
〜25％）等の雰囲気ガスは直火加熱炉２へ流れ、
直火加熱炉２内の燃焼ガスと混合し、直火加熱炉
２の排ガスポート又はこれと連結している予熱炉
の排ガスポート８から炉外へ導かれ、レキユペレ
ータ（図示せず）を介して煙突（図示せず）へ導
かれる構成となつている。
このような構成は連続式直火加熱炉を採用して
いるほとんどのCAL，CGLの連続加熱・均熱設
備に共通である。
いるほとんどのCAL，CGLの連続加熱・均熱設
備に共通である。
一方均熱炉３においては炉内を還元性雰囲気と
し、その露点と侵入空気防止のための炉内圧のコ
ントロールを供給ガス量と前記排ガスポート８に
設けられたダンパ９により行つている。また直火
加熱炉においても侵入空気を防止するために炉内
圧をコントロールする必要があり、この場合にも
同一のダンパ９を使用している。
し、その露点と侵入空気防止のための炉内圧のコ
ントロールを供給ガス量と前記排ガスポート８に
設けられたダンパ９により行つている。また直火
加熱炉においても侵入空気を防止するために炉内
圧をコントロールする必要があり、この場合にも
同一のダンパ９を使用している。
しかし、このようにダンパ９を共用しているこ
とから、次のような種々の問題が生ずることが実
験、研究の結果明らかとなつてきた。
とから、次のような種々の問題が生ずることが実
験、研究の結果明らかとなつてきた。
通板種類（鋼種、板厚、板巾）の変更時に直
火加熱炉２の燃焼量を変化させた時に、排ガス
ポート８から排出される総排ガス量が変動し、
これは、直火加熱炉２内の炉圧のみならず、均
熱炉３内の炉圧をも変動する。
火加熱炉２の燃焼量を変化させた時に、排ガス
ポート８から排出される総排ガス量が変動し、
これは、直火加熱炉２内の炉圧のみならず、均
熱炉３内の炉圧をも変動する。
の際に、ダンパ９調整を行うが、追従遅れ
を生じて、直火加熱炉２側の燃焼ガスが均熱炉
３内へ逆流を生ずる場合があり、均熱炉内の還
元雰囲気を乱す恐れがある。
を生じて、直火加熱炉２側の燃焼ガスが均熱炉
３内へ逆流を生ずる場合があり、均熱炉内の還
元雰囲気を乱す恐れがある。
実際に逆流を生ずると露点が上がり、露点を
所定値以下にもどすのに長時間を要する。
所定値以下にもどすのに長時間を要する。
定常時においても、均熱炉３からの雰囲気ガ
ス（通常500〜2000Nm3／hr，炉容積で異る）
の温度は、均熱炉温（均熱条件によつて異なる
が、700℃〜850℃）に近く、直火加熱炉内の燃
焼ガス温度とくらべはるかに低い。このような
ガスが直火加熱炉内へ侵入すると直火加熱炉内
の燃焼ガス温度を著しく低下させ、加熱能力を
低下させる。因に、雰囲気ガス量が直火加熱炉
燃焼ガス量の1/10程度であつても、加熱能力と
しては、約30％低下する。
ス（通常500〜2000Nm3／hr，炉容積で異る）
の温度は、均熱炉温（均熱条件によつて異なる
が、700℃〜850℃）に近く、直火加熱炉内の燃
焼ガス温度とくらべはるかに低い。このような
ガスが直火加熱炉内へ侵入すると直火加熱炉内
の燃焼ガス温度を著しく低下させ、加熱能力を
低下させる。因に、雰囲気ガス量が直火加熱炉
燃焼ガス量の1/10程度であつても、加熱能力と
しては、約30％低下する。
また、直火加熱炉において鋼板の無酸化加熱
を行うような場合、直火加熱炉内の燃焼ガス組
成および燃焼ガスの流れを適正に維持する必要
があるが、均熱炉からの雰囲気ガスが直火加熱
炉へ侵入すると、これらを大きく損い、無酸化
加熱を行うことが出来なくなる場合がある。
を行うような場合、直火加熱炉内の燃焼ガス組
成および燃焼ガスの流れを適正に維持する必要
があるが、均熱炉からの雰囲気ガスが直火加熱
炉へ侵入すると、これらを大きく損い、無酸化
加熱を行うことが出来なくなる場合がある。
本発明は上記した従来技術における炉内ガスの
流れに関わる諸問題を解決するためになされたも
ので、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手段を設け
ることにより均熱炉と直火加熱炉とを炉内ガスの
流れの点において完全に独立させたものである。
流れに関わる諸問題を解決するためになされたも
ので、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手段を設け
ることにより均熱炉と直火加熱炉とを炉内ガスの
流れの点において完全に独立させたものである。
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第３図において、均熱炉３に炉内雰囲気ガスの
排出手段である排ガスポート１０が設けられてお
り、ここから雰囲気ガスを放出できるようになつ
ている。この排ガスポート１０の位置は均熱炉３
の任意位置とする。また排ガスポート１０にはダ
ンパ１１が装着され、これにより均熱炉３の炉内
圧を直火加熱炉２とは独立してコントロールでき
る構成となつている。該排ガスポート１０は図示
しないレキユペレータ及び煙突に接続している。
なお図中Ｘはストリツプである。
排出手段である排ガスポート１０が設けられてお
り、ここから雰囲気ガスを放出できるようになつ
ている。この排ガスポート１０の位置は均熱炉３
の任意位置とする。また排ガスポート１０にはダ
ンパ１１が装着され、これにより均熱炉３の炉内
圧を直火加熱炉２とは独立してコントロールでき
る構成となつている。該排ガスポート１０は図示
しないレキユペレータ及び煙突に接続している。
なお図中Ｘはストリツプである。
第３図の実施例では直火加熱炉２と均熱炉３と
の境には単純な断熱材壁１４を設けているだけで
あるが、たとえば直火炉で無酸化加熱を行う場合
等より厳密なシールを必要とする場合には何らか
のシール装置を設けるのが望ましい。
の境には単純な断熱材壁１４を設けているだけで
あるが、たとえば直火炉で無酸化加熱を行う場合
等より厳密なシールを必要とする場合には何らか
のシール装置を設けるのが望ましい。
たとえば第４図に直火加熱炉２と均熱炉３との
間にシールロール１２を設置した例を示す。また
第５図にラビリンスシール壁１３を装着した例を
示す。
間にシールロール１２を設置した例を示す。また
第５図にラビリンスシール壁１３を装着した例を
示す。
第６図に示す実施例は直火加熱炉２と均熱炉３
との間に中間室２０を設け、直火加熱炉２と均熱
炉３との境目に夫々シール装置２１，２１を設け
て２段シールを行う構成としている。そして更に
この中間室２０に所定温度（均熱炉温）の還元性
雰囲気ガス２２を供給して均熱炉３及び直火加熱
炉２の炉圧より若干高くしておき、均熱炉３と直
火加熱炉２の炉内ガスの分離を完全にしている。
との間に中間室２０を設け、直火加熱炉２と均熱
炉３との境目に夫々シール装置２１，２１を設け
て２段シールを行う構成としている。そして更に
この中間室２０に所定温度（均熱炉温）の還元性
雰囲気ガス２２を供給して均熱炉３及び直火加熱
炉２の炉圧より若干高くしておき、均熱炉３と直
火加熱炉２の炉内ガスの分離を完全にしている。
またこの実施例では中間室２０にも排ガスポー
ト２３とダンパ２４とを設け、中間室２０の内圧
のコントロールを容易にしている。
ト２３とダンパ２４とを設け、中間室２０の内圧
のコントロールを容易にしている。
なお中間室２０と直火加熱炉２あるいは均熱炉
３とのシールは必ずしも完全に行われるとは考え
にくく、とくに直火加熱炉から出てくるストリツ
プＸ表面に随伴されてくる燃焼ガスの侵入は防止
しきれない可能性がある。そして若干でも侵入し
て来た燃焼ガスは、方向を変えるロール表面を酸
化させる恐れがある。従つて、この中間室２０に
供給される雰囲気ガスとしては、中間室２０内の
ロール保護（ロール表面の酸化防止）の目的から
還元性の高いガスを使用することが好ましい。そ
のため均熱炉３で使用後の雰囲気ガスを吸引して
ブロワーで加圧して中間室２０へ送る方法も考え
られるが、この場合、露点の高いすなわち水分の
多いガスとなつていることが予想され、好ましく
ない。
３とのシールは必ずしも完全に行われるとは考え
にくく、とくに直火加熱炉から出てくるストリツ
プＸ表面に随伴されてくる燃焼ガスの侵入は防止
しきれない可能性がある。そして若干でも侵入し
て来た燃焼ガスは、方向を変えるロール表面を酸
化させる恐れがある。従つて、この中間室２０に
供給される雰囲気ガスとしては、中間室２０内の
ロール保護（ロール表面の酸化防止）の目的から
還元性の高いガスを使用することが好ましい。そ
のため均熱炉３で使用後の雰囲気ガスを吸引して
ブロワーで加圧して中間室２０へ送る方法も考え
られるが、この場合、露点の高いすなわち水分の
多いガスとなつていることが予想され、好ましく
ない。
したがつて通常均熱炉３の雰囲気ガスとして
は、H2濃度５〜15％程度のものを使用している
が、これよりも若干高めのH2濃度、好ましくは
10〜25％程度のH2を含み、かつ露点の低いガス
を直火加熱炉２あるいは均熱炉３の燃焼排ガスの
レキユペレータで予熱した後に中間室２０へ導入
するのが好ましい。
は、H2濃度５〜15％程度のものを使用している
が、これよりも若干高めのH2濃度、好ましくは
10〜25％程度のH2を含み、かつ露点の低いガス
を直火加熱炉２あるいは均熱炉３の燃焼排ガスの
レキユペレータで予熱した後に中間室２０へ導入
するのが好ましい。
以上説明したように本発明の連続式直火型加熱
炉においては、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手
段を設けているため、直火型加熱炉と均熱炉の炉
圧、炉内条件を個別に管理することが容易とな
り、通板条件の変更時のアイドル時間の大幅短縮
が可能である。また直火加熱炉の加熱効率を約15
〜30％向上させることができる等の効果がある。
炉においては、均熱炉に炉内雰囲気ガスの排出手
段を設けているため、直火型加熱炉と均熱炉の炉
圧、炉内条件を個別に管理することが容易とな
り、通板条件の変更時のアイドル時間の大幅短縮
が可能である。また直火加熱炉の加熱効率を約15
〜30％向上させることができる等の効果がある。
第１図と第２図は従来技術の説明図、第３図乃
至第６図は本発明の実施例の説明図である。 １０……排ガスポート、１１……ダンパ、１２
……シールロール、１３……ラビリンスシール、
１４……断熱材壁、２０……中間室、２１……シ
ール装置、２２……還元性雰囲気ガス、２３……
排ガスポート、２４……ダンパ。
至第６図は本発明の実施例の説明図である。 １０……排ガスポート、１１……ダンパ、１２
……シールロール、１３……ラビリンスシール、
１４……断熱材壁、２０……中間室、２１……シ
ール装置、２２……還元性雰囲気ガス、２３……
排ガスポート、２４……ダンパ。
Claims (1)
- １ 直火加熱炉と間接加熱による均熱炉から成る
連続式直火型加熱炉において、均熱炉に均熱炉内
の雰囲気ガスを炉外へ排出する排出手段を設けた
ことを特徴とする連続式直火型加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195383A JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13195383A JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6024329A JPS6024329A (ja) | 1985-02-07 |
| JPS6259168B2 true JPS6259168B2 (ja) | 1987-12-09 |
Family
ID=15070066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13195383A Granted JPS6024329A (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 連続式直火型加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6024329A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6099537A (en) * | 1996-02-26 | 2000-08-08 | Olympus Optical Co., Ltd. | Medical treatment instrument |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP13195383A patent/JPS6024329A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6024329A (ja) | 1985-02-07 |
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