JPS60244363A

JPS60244363A - 塗布装置

Info

Publication number: JPS60244363A
Application number: JP10137084A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Toi; 戸井　茂雄; Sadao Kurio; 貞夫栗生; Masayoshi Otsuka; 正義大塚
Original assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Current assignee: Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date: 1984-05-18
Filing date: 1984-05-18
Publication date: 1985-12-04
Also published as: JPH043271B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】囚　産業上の利用分野本発明は、塗布装置に関し、荷に円筒形状体の外周面に
電子写真感光体を連続的に塗布するに通した塗布装置に
関するものでめる〇（Ｂ）　従来技術及びその間４点円筒形状体のような被塗布基材の円外周面上に塗布材を
被覆する方法としては、スプレー法、浸漬法、リング状
液体容器を用いる手直型塗布法、カーテン塗布法、ブレ
ードａ布法、ロール塗布法、エクストルジ胃ン法等の種
々の方法が知られている。

しかし、スプレー法は量産性に優れている反面、１回当
９の塗布量が少ないこと、また表面平滑性が劣るという
欠点がるり、１μｍ〜数十μｍの広い範囲の膜厚と極め
て高い表面平滑性のの塗布層が必要な電子写真感光体の
塗布法としては適していない。浸漬法は、比較的手軽な
方法であるが、円筒形状体の上部と下部とで膜厚の差が
大きいこと、また２層以上の塗布を行う場合に各層の塗
布を同一溶剤系で行うと下層が２かされるという欠点が
生じ易く、更に量産性に劣っている。

特開昭５３−２２５４４、同昭５６−１０１１４９、同
昭５８−１１０６４、同昭５８−１８０２６１などに示
されるリング塗布法は、塗布層の表面平滑性に優れ、ま
た塗布液との接触時間が短かいため多層塗布にも適して
いる利点がめる。リング塗布法は、円筒形状体の外径よ
シ僅かに小さい内径の弾性リングと液体容器外筒とを一
体となし、このリングの中に円筒形状体を貫通させて円
筒形状体の外表面とで形成された塗布室に塗布液を供給
し、円筒形状休めるいはリングのいずれか又は両方を移
動冷せることによって円筒形状体の外表面に塗布するも
のでるる。しかし、このリング塗布法は、多数の円筒形
状体を連続して塗布することは装置の構造上から困難な
ことでめった。たとえば、第１の円筒形状体と第２の円
筒形状体とを隙間なく完全に接合してリング中を通さな
ければ、塗布室が形成されず、塗布液が漏れ出て第２の
円筒形状休を汚してしまう結果になる。さらに、円筒形
状体を下部昇降手段により供給し、塗布リングを貫通し
上部昇降手段により円筒形状休を排出する場合に２いて
、下部昇降手段から上部昇降手段への受渡し中は、両昇
降手段の速度が完全に一致しなければならない。また、
第１の円筒形状体と第２の円筒形状体とが接合する時に
も両日筒形状体の速度は完全に一致する必要があり、さ
もなければ接合時に衝撃が発生し、塗布面の乱れとなる
からである。また、その接合部は、一体の円筒形状体と
みなせる程度に正確でないと、接合部の不一致部分に液
の溜りが発生し、その液溜りが第２の円筒形状体の外表
面にタレとなって塗布面を乱したり、接合部の内面に浸
透し第２の円筒形状体の内面を汚したりするのでおる。

さらに、積層感光体を塗布する際に丁場がおかされるの
を防止する目的で第１の円筒形状体と第２の円筒形状休
め間に中間リングを設けることも知られているが、やは
９上述したと同様の難点がめる◇ また、リング塗布法は、弾性リング先端よりも上にある
塗布液だけで塗布するため塗布液が少なく（反面、前述
したように円筒形状休との接触時間が短かい利点がるる
）、連続塗布するためには塗布液を断続的に供給しなけ
ればならず、泡の発生や液面の変動により均斉な塗布面
が得られなからたり、生産効率を低下したりするＯ（Ｑ　発明の目的本発明の目的は、前述したような欠点か々く、円筒形状
休の外周面上に均斉な塗布層を効率よく連続的に形成す
ることができる電子写真感光体を塗布するに適した塗布
装置を提供することである。

（Ｄ）　発明の構成本発明は、被塗布基材としての円筒形状休を上昇させる
だめの昇降手段、昇降手段に設けられた外周円体の載置
台２よび外周円体の外周を保持する係止手段を含み外周
円体の両側は円筒゛形状体の内面に装着したとき連続的
な外周面を形成する構造を有していることを特徴とする
リング塗布法に用いる塗布装置である〇本発明の塗布装置は、上記した特徴に加えて外周円体が
係止手段によって停止している間も塗布液をリング状液
体容器に連続して供給できるように容器中の塗布液がオ
ーバーフローするように構成した装置を包含するもので
るる。

（Ｂ）　実施例以下に本発明の塗布装置の動作、機構を図面によシ詳細
に説明する。

第１図（、）〜（、）は、本発明の塗布装置を用いて円
筒形状体の外周面に塗布している状態を経時的に示す断
面図でるる。円筒形状体７が弾性リングを有する液体容
器４を貫通し、昇降装置（ロッド６のみ図示）により一
定速度で上昇しながら塗布される。リング状液体容器４
には塗布液供給管ｌが設けられ、塗布層がポンプ（図示
せず）により自動的に液体容器４に塗布液供給管から送
られ塗布されるようになっている◇しかし、第１図に２
いては、リング状液体容器４とは別個に貯液槽２が連通
管３（塗布液供給管とも言いうる）で連結され、この貯
液槽２に塗布液供給管１及びオーバーフロー管５が設け
ている。オーバーフロー管５をもり貯液槽２を液体容器
４とは別個に設けることは、装置の製作が容易であるこ
と、円筒形状体への塗布近傍ではオーバーフロー管への
塗布液の流れ込みによる液面の乱れによって局部的な重
布ムラを防止すること等によるが、液体容器４の外径を
大きくすれば、別個の貯液槽を設けることなく、液体容
器４の中にオーバーフロー管５を設けてもよいＯ円筒形状体７の外周表面上への塗布は、弾性のリングの先端より上にるる塗布版＃液面で行なわれ、そ
の液面の高さは任意に設定することができる。本発明の
図示した塗布装置では、その液面の高さはオーバーフロ
ー管によって決別されるが、弾性リングの先端より僅か
の上にオーバーフロー管５の流入口が位置するようにし
て。

も可能である。

塗布液供給管ｌからは円筒形状体での消費型（塗布量）
よりもある程度多い量の塗布液が連続して供給されるが
、円筒形状体の移動によっても塗布液液面は変動せず、
常に同一の条件で塗布することができる。また、外周円
体９がそれを保持するための係止手段ｌＯによってリン
グ容器内に停止している間も同様に塗布液供給を続ける
ことができる。第１図（＆）は、円筒形状体７に塗布す
る前の状態を示しておシ、連続塗布作業は外周円体９Ｉ
をリング容器内で係止手段１０により停止させた状態で
開始することが好ましい。

昇降装置には外周円体９の載置台８が設けられ、外周円
体９を保持している。外周円体９は、円筒形状体と等し
い外径を有し、かつ外周が円形になっていれば、中空の
ものでも中空でないものでもよい。載置台８に保持され
た外周円体９の上側（第１図（ａ）　）　Ｉｄ、被塗布
基材としての円筒形状体７の内面に挿入、装着され、そ
の際に円筒形状体７と外周円体９の外周が連続した外周
面となるように、円筒形状体７の外壁厚みに等しい分だ
け外径が小さくなっている。但し、その部分はエンドレ
スになっている必要はない。

外周円体９は、円筒形状体７の塗布完了後に外周円体９
Ｉと同じ状態に々るから、その下側（第１図（ａ））も
上述した上側と同様の構造を有している必要がめる０外
周円体９の両側は既述した構造のものに限られることは
なく、円筒形状体に挿入したときその内面に拡張バネ方
式で装着するようにしてもよい。載置台８は、外周円体
９を保持するものである。従って、載置台８は第１図（
＆）で示すように外周円体９の下側の外径よシも僅かに
大きい内径の円筒体とする（外径は任意でるる。）また、載置台の別の例は、外周円体９の内径より僅かに
小さい外径の円筒体または円柱体であるとともできる。

昇降装置は、一定速度で昇降する手段を備えている。昇
降の手段については公知の方法でよく、モーターによる
もの、油圧シリンダー、空気圧シリンダー等によるもの
でよい。

第１図（、）に２いて、上昇した円筒形状体７に係止手
段１０によシ保持されている外周円体９Ｉが装着される
。装着と同時もしくはその後に係止手段ｌＯは、外周円
体９Ｔの保持を解除するようＫそれから離間される。円
筒形状体７は、一定速度で上昇を続けながら塗布される
（第１図（ｂ））。

外周円体９が第１図（ａ）の外周円体９・の位置に来た
とき昇降装置の上昇が停止され、同時に係止手段１０が
作動して外周円体９を保持する（第１図（Ｃ））。

円筒形状体９は、その上の外周円体９Ｉからの塗液の流
れがあり、それらが連続的な外周面を形成しているから
、全長にわたって均一な膜厚の塗布が可能でろる。

一方、塗布が完了した円筒形状体７は、排出手段として
の昇降装置１１によって、外周円体９′とともに排出さ
れ、また載置台８を有する昇降手段は次の円筒形状体の
準備に下降する（第１図（Ｃ））。排出手段は公知のも
のでよい◎第２図は、係止手段１０について、第１図（
ｂ）の上方から見た断面図でめｐ１係止手段が４つのも
のを示している０係止手譚は少なくとも２つめればよい
。

載置台８、外周円体９、係止手段１０の材質は、金属、
プラスチックス等任意のものでよい。

外周円体は塗膜を除去して再使用できる。昇降装置の昇
降、係止手段の作動などを公知の検知手段を用いること
によって、自動的に連続塗布することができる。

本発明の塗布装置を用いて塗布される液の粘度は、広い
範囲にわたって選択することができるが通常は０．５〜
１，０００センチボイズ（ＯＰ）程度、好ましくは１〜
５０００Ｆである。

第１図に示す塗布装置のリング状液体容器を使用し、１
１６１１１のアルミニウム管（長さ３３ｍ）の外周面上
へ下記処方の分散液を塗布した〇塗布速度Ｉ　Ｑ　ＮＩ
Ｌ　／　ｓｅｃで既述した方法により連続的に３０本の
アルミニウム管に塗布し乾燥した。塗膜厚みは２０μｍ
でめった。塗布液供給管１からは３　ｄ７　ｓｅｃで常
時送液した・乾燥後に電位を測定したところ、円周方向
および長さ方向に２いて２％以内の電位のフレがあるだ
けでｓｂ、多数の円筒形状体について同じ品質が再現性
よく確保できることが確認された。

ＣＦ）　発明の効果本発明によれば、円筒形状体の全長にわたって極めて均
斉な塗布層を形成することができる〇また外周円体２よ
びその係止手段の採用によって、昇降手段と排出手段の
動作を分離して確実で能率のよい連続塗布が可能になり
、且つ塗布液の連続供給も可能になった。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（、）は、本発明に２ける塗布装置の一
具体例を用いて塗布している状態を示す主要部の断面図
である〇第２図は、係止手段の一具体例を示す正断面図でめる◎ ｌ・・・・・・塗布液供給管２・・・・・・貯　赦　槽３・・・・・・連通管４・・・・・・リング塗布容器５・・・・・・オーバーフロー管６・・・・・・ロ　ツ・　ドア・・・・・・円筒形状体８・・・・・・載置台９及び９″・・・・・・外周円体１０・・・・・・係止手段１１・・・・・・排出手段館１聞

Claims

【特許請求の範囲】

（１）被塗布基材としての円筒形状体を上昇させるため
の昇降手段、昇降手段に設けられた外周円体の載置台お
よび外周円体の外周を保持する係止手段を含み、外周円
体の両側は円筒形状体の内面に装着したとき連続的な外
周面を形成する構造を有していることを脣峨とするリン
グ塗布法に用いる塗布装置。
（２）塗布液のオーバーフロ一手段を有している特許請
求の範囲第１項記載の塗布装置。