JPS6025218A - アルミニウム固体電解コンデンサ - Google Patents
アルミニウム固体電解コンデンサInfo
- Publication number
- JPS6025218A JPS6025218A JP13372783A JP13372783A JPS6025218A JP S6025218 A JPS6025218 A JP S6025218A JP 13372783 A JP13372783 A JP 13372783A JP 13372783 A JP13372783 A JP 13372783A JP S6025218 A JPS6025218 A JP S6025218A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- aluminum
- solid electrolytic
- content
- anode body
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- Pending
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- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明はアルミニウム固体電解コンデンサ、特に拡面処
理される陽極体の成分に関する。
理される陽極体の成分に関する。
（ｂ） 技術の背景
アルミニウム固体電解コンデンサの素子は、高純度アル
ミニウムを陽極体とし、その表面に陽極酸化ＷＡｆ：形
成させて誘電体とし、該誘電体の上に二酸化マンガン等
の半導体層及び陰極層が順次形成されておシ、かかる素
子を小形化する手段として陽極体の拡面処理、即ちａｔ
体層を形成するのに先立ち陽極体の表面をエツチングし
て微細な凹凸面にする処理は、既に広く知られている。
ミニウムを陽極体とし、その表面に陽極酸化ＷＡｆ：形
成させて誘電体とし、該誘電体の上に二酸化マンガン等
の半導体層及び陰極層が順次形成されておシ、かかる素
子を小形化する手段として陽極体の拡面処理、即ちａｔ
体層を形成するのに先立ち陽極体の表面をエツチングし
て微細な凹凸面にする処理は、既に広く知られている。
（ｃ） 従来技術と問題点
一方、固体電解コンデンサの陽極体用アルミニウムは、
含まれる不純物の量によシ完成体素子の漏れ電流が大き
く影響されるため、従来はアルミニウム純度９９９９％
以上のものを使用しており、含まれる不純物の物性につ
いてはあまり注目されていなかった。しかしながら、不
純物の含有量が同じであっても仕入れたロットにより拡
面処理したときのエツチング量にかなりのばらつきがあ
り、アルミニウム純度が９９．９９７％の如く特に高純
度のものは前記エツチング量：が著しく少ないという小
実から、エツチングの核にな９得う不純物と４：ｐ ｖ
ｃならない不純物の存在が想定された。
含まれる不純物の量によシ完成体素子の漏れ電流が大き
く影響されるため、従来はアルミニウム純度９９９９％
以上のものを使用しており、含まれる不純物の物性につ
いてはあまり注目されていなかった。しかしながら、不
純物の含有量が同じであっても仕入れたロットにより拡
面処理したときのエツチング量にかなりのばらつきがあ
り、アルミニウム純度が９９．９９７％の如く特に高純
度のものは前記エツチング量：が著しく少ないという小
実から、エツチングの核にな９得う不純物と４：ｐ ｖ
ｃならない不純物の存在が想定された。
（ｄ） 発明の目的
本発明は、上記アルミニウムに含まれる不純物の主なも
のがＦｅ、 Ｃｕ、 Ｓｔであシ、ＦｅとＣｕがエツチ
ングの核になる反面、Ｓｉはエツチングの核にならない
ことから特にＦｅ十Ｃｕの含有量を規制して、拡面処理
のエツチング量を均等化及びその管理を容易化すること
を目的とする。
のがＦｅ、 Ｃｕ、 Ｓｔであシ、ＦｅとＣｕがエツチ
ングの核になる反面、Ｓｉはエツチングの核にならない
ことから特にＦｅ十Ｃｕの含有量を規制して、拡面処理
のエツチング量を均等化及びその管理を容易化すること
を目的とする。
（ｅ） 発明の構成
上記目的は、エツチングの核となるＦ”ｅやＣｕ等を総
和で０．００４〜０．００６係含む高純度アルミニウム
を陽極体とし、その表面を拡面処理したのち誘ｌＩＸ体
層と半導体層を順次形成しコンデンサ素子としたことを
特徴とするアルミニウム固体電解コンデンサにより達成
される。
和で０．００４〜０．００６係含む高純度アルミニウム
を陽極体とし、その表面を拡面処理したのち誘ｌＩＸ体
層と半導体層を順次形成しコンデンサ素子としたことを
特徴とするアルミニウム固体電解コンデンサにより達成
される。
（ｆ） 発明の実施例
以下、図面を用いて本発明を説明する。
第１図は高純度アルミニウムに含１れるＦｅ＋Ｃｕの含
有率とエツチング時間及びＩｉ’ｅ＋Ｃｕ の含有率と
漏れ電流との関係′ｆｆ：説明するだめの図、第２図は
高純度アルミニウムに含まれるＦｅ 十Ｃｕの含有率が
異なる複数のサンプルについてエツチング時間と静電容
量との関係を説明１−るための図である。
有率とエツチング時間及びＩｉ’ｅ＋Ｃｕ の含有率と
漏れ電流との関係′ｆｆ：説明するだめの図、第２図は
高純度アルミニウムに含まれるＦｅ 十Ｃｕの含有率が
異なる複数のサンプルについてエツチング時間と静電容
量との関係を説明１−るための図である。
第１図において、横軸はコンデンサ素子用アルミニウム
に含まれるＦｅ十Ｃｕの含有率（％）、左側縦軸は拡面
率が１０倍になるのに要したエツチング時間（分）、右
側縦軸は拡面率を１０倍にした陽極体を用いて完成させ
たアルミニウム固体電解コンデンサの漏れ１１Ｌ流（／
ＩＡ）である。実線Ａは前記Ｆｅ十Ｃｕの含有率とエツ
チング時間との関係を実測により示した特性、点線Ｂは
前ｉｅ Ｆｅ 十Ｃｕの含有率と漏れ％Ｈ流との関係全
実測により示した特性である。
に含まれるＦｅ十Ｃｕの含有率（％）、左側縦軸は拡面
率が１０倍になるのに要したエツチング時間（分）、右
側縦軸は拡面率を１０倍にした陽極体を用いて完成させ
たアルミニウム固体電解コンデンサの漏れ１１Ｌ流（／
ＩＡ）である。実線Ａは前記Ｆｅ十Ｃｕの含有率とエツ
チング時間との関係を実測により示した特性、点線Ｂは
前ｉｅ Ｆｅ 十Ｃｕの含有率と漏れ％Ｈ流との関係全
実測により示した特性である。
ただし、Ｆｅ＋Ｃｕの含有率が異なる各サンプルにおい
て、Ｓｉを含む他の不純物は何れも約０．００２裂であ
り、前記サンプルの大きさは２ｍｌ！Ｘ７”π×５ｍｍ
、エツチング条件はエツチング液がｌｌｃｌｌモル／１
３．その温度が２５℃、サンプル１個当りの１１Ｌ流が
０．０３Ａの直流エツチングであり、拡面率１０倍は前
記サンプルを用いて静？ｊｆ容量が０．１５μＦのコン
デンサが作成される。
て、Ｓｉを含む他の不純物は何れも約０．００２裂であ
り、前記サンプルの大きさは２ｍｌ！Ｘ７”π×５ｍｍ
、エツチング条件はエツチング液がｌｌｃｌｌモル／１
３．その温度が２５℃、サンプル１個当りの１１Ｌ流が
０．０３Ａの直流エツチングであり、拡面率１０倍は前
記サンプルを用いて静？ｊｆ容量が０．１５μＦのコン
デンサが作成される。
そして第１図から明らかなように、特性Ａ、Ｈの双方が
比較的なだらかなのは、Ｆｅ十、Ｃｕの含有率が０．０
０４〜０．００６％の領域であｐ１該領域のアルミニウ
ムがコンデンサ素子として、作業性及び完成品の安定性
に優れることが分る。
比較的なだらかなのは、Ｆｅ十、Ｃｕの含有率が０．０
０４〜０．００６％の領域であｐ１該領域のアルミニウ
ムがコンデンサ素子として、作業性及び完成品の安定性
に優れることが分る。
第２図において、横軸はサンプルのエツチング時間（分
）、縦軸は完成させたコンデンサの静π（容量（μＦ）
、実線Ｃ−Ｇは下記の表の如き不純物を含むアルミニウ
ムを用いたサンプルの特性であシ、サンプルの大きさと
エツチング条件は第１図につ表 いて説明したそれらと同じである。
）、縦軸は完成させたコンデンサの静π（容量（μＦ）
、実線Ｃ−Ｇは下記の表の如き不純物を含むアルミニウ
ムを用いたサンプルの特性であシ、サンプルの大きさと
エツチング条件は第１図につ表 いて説明したそれらと同じである。
そして、高純度アルミニウムに含まれるＦｅ＋Ｃｕの含
有率を一定にし、Ｓｉ等その他の不純物の含有率をいろ
いろ圧変えたときエツチング時間と静電容量との関係が
ほぼ一定であったのに対し、Ｆｅ＋Ｃｕの含有率を変え
てＳｔ等その他の不純物を一定にしたときは第２図に示
す如＜ 、Ｆｅ ＋Ｃｕの含有量に伴って静電容量（即
ちエツチング量）が高まる。しかし、Ｆｅ十Ｃｕが０．
０１％になるとエツチング速度が早過ぎてエツチング焼
けを起し易くなシ、第１図の特性Ａ、ＢからめたＦｅ十
Ｃｕの適量領域、即ちＦｅ 十〇ｕを０．００４〜０．
００６％含む高純度アルミニウムは、第２図からもその
妥当性が認められる。
有率を一定にし、Ｓｉ等その他の不純物の含有率をいろ
いろ圧変えたときエツチング時間と静電容量との関係が
ほぼ一定であったのに対し、Ｆｅ＋Ｃｕの含有率を変え
てＳｔ等その他の不純物を一定にしたときは第２図に示
す如＜ 、Ｆｅ ＋Ｃｕの含有量に伴って静電容量（即
ちエツチング量）が高まる。しかし、Ｆｅ十Ｃｕが０．
０１％になるとエツチング速度が早過ぎてエツチング焼
けを起し易くなシ、第１図の特性Ａ、ＢからめたＦｅ十
Ｃｕの適量領域、即ちＦｅ 十〇ｕを０．００４〜０．
００６％含む高純度アルミニウムは、第２図からもその
妥当性が認められる。
（ｇ） 発明の詳細
な説明した如く本発明によれば、アルミニウム陽極体を
拡面処理するエツチング量の管理が容易かつ均等化し、
そのことによりアルミニウム固体電解コンデンサは特性
のばらつきが限少して高陣能化された効果余有する。
拡面処理するエツチング量の管理が容易かつ均等化し、
そのことによりアルミニウム固体電解コンデンサは特性
のばらつきが限少して高陣能化された効果余有する。
第１図は高純度アルミニウムに含まれるＦｅ−１−Ｃｕ
の含有率とエツチング時間、Ｆ、ｅ ＋Ｃｕの含有率と
漏れ電流との関係を説明するための図、第２図は高純度
アルミニウムに含まれるＦｅ＋Ｃｕの含有率が異なるサ
ンプルについてエツチング時間と静？Ｌ容量との関係を
説明するだめの図である。
の含有率とエツチング時間、Ｆ、ｅ ＋Ｃｕの含有率と
漏れ電流との関係を説明するための図、第２図は高純度
アルミニウムに含まれるＦｅ＋Ｃｕの含有率が異なるサ
ンプルについてエツチング時間と静？Ｌ容量との関係を
説明するだめの図である。
Claims (1)
- 高純度アルミニウム陽極体の表面をエツチング手段で拡
面処理して形成される固体電解コンデンサにおいて、該
エツチングの核となるＦｅやＣｕ等を総和で０．００４
〜０．００６％含む高純度アルミニウムを陽極体とした
ことｋＱ？徴とするアルミニウム固体電解コンデンサ０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13372783A JPS6025218A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | アルミニウム固体電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13372783A JPS6025218A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | アルミニウム固体電解コンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6025218A true JPS6025218A (ja) | 1985-02-08 |
Family
ID=15111495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13372783A Pending JPS6025218A (ja) | 1983-07-22 | 1983-07-22 | アルミニウム固体電解コンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6025218A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0313257A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-22 | Ube Ind Ltd | 溶湯鍛造方法および装置 |
-
1983
- 1983-07-22 JP JP13372783A patent/JPS6025218A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0313257A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-22 | Ube Ind Ltd | 溶湯鍛造方法および装置 |
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