JPS60252441A - ナフタレン及びナフトキノン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技　術　分　野 本発明はナフタレン及びナフト牛ノン誘導体に関する。

発明の構成 本発明のナツタしン及びナフト牛ノン誘導体は、文献未
載の新規化合物であり、下記一般式（１）で表わされる
。

アルキル基を示す。Ｒ２は水素原子、Ｃ工〜Ｃ２゜のア
ル＋ル基、フェニル低級アル＋ル基、アリル基、置換基
としてベンジルオ十シ基を有するＣ□〜Ｃ□。

のアル＋ル基又は置換基として水酸基を有するＯＲ工 を示す場合には、Ｒ２は水素原子であってはならない。

〕 上記一般式（１）で表わされる本発明の化合物は、抗炎
症作用、抗補体作用、抗高血圧作用、心疾患治療作用、
抗アレル甲−作用、血小板凝集阻止作用、抗腫瘍作用、
抗菌作用等を有し、消炎鎮痛剤、降圧剤、心疾患治療剤
、抗アレルｆ−剤、漉栓防止剤、抗腫瘍剤、抗菌剤等と
して有用である。

本明細書において、低級アル士ル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、づチル、イソ
づチル、５ｅｃ−ブチル、ｔａｒｔ−ブチル、ペンチル
、へ＋シル基等の炭素数１〜６のアル中ル基を例示でき
る。

Ｃ□〜Ｃ２゜のアル＋ル基としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
５ｔｔｃ−ブチル、ｆｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオ
ベシチル、へ中シル、イソへ中シル、へづチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウシデシル、トリデシル、へ牛す
デシル、オクタデシル、エイコシル基等を例示できる。

フェニル低級アル＋ル基としては、例えばベンジル、α
−フェネチル、β−フェネチル７．ｌ−フェニルづ０ピ
ル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１
−フェニルづチル、２−フェニルブチル、３−フェニル
づチル、４−フェニルブチル、１−フェニルペンチル、
３−フェニルペンチル、５−フェニルペンチル、ｌ−フ
ェニルへ十シル、３−フェニルへ士シル、５−フェニル
へ中シル、１．１−ジメチル−２−フェニルエチル基等
を例示できる。

置換基としてベンジルオ十シ基を有するＣ□〜Ｃ１゜の
アル＋ル基としては、例えばベンジルオ士ジメチル、ベ
シジルオ士ジエチル、ベンジルオ＋シづＯヒル、ペンジ
ルオ＋シづチル、ベンジルオ士シペンチル、ベンジルオ
牛シヘ＋シル、ベシジルオ牛シへづチル、ベシジルオ牛
ジオクチル、ベシジルオ士ジノニル、ベシジルオ十ジデ
シル、１−ベシジルオ士シー３，３−ジメチルづＯピル
、１−ベシジルオ＋シー２．６−シメチルオクチル基等
を例示できる。

置換基として水酸基を有するＣ工〜Ｃ□。のアル＋ル基
としては、例えばハイドロオ士ジメチル、ハイドロオ士
ジエチル、ハイドロオ士ジプロピル、ハイド０オ＋シづ
チル、ハイドＯ才十シベシチル、へイド０オ十シヘ牛シ
ル、ハイド０才士シヘプチル、ハイドＯオ士ジオクチル
、ハイド０オ＋ジノニル、へイド０才士ジデシル、１−
ハイド０才士シー３．３−ジメチルプロピル、１−ハイ
ドロオ士シー２，６−シメチルオクチル基等を例示でき
る。

本発明の上記一般式（１）で表わされる化合物は、例え
ば下記反応工程式に示す方法により製造することができ
る。

反応工程式−１ （２１（１−ａ　） 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒ２′はＣ□〜Ｃ２゜のアル
＋ル基、フェニル低級アル＋ル基又はアリル基を示す。

〕 公知の一般式（２の化合物のクリ二セール反応は、常法
に従い実施でき、例えばエーテル、テトラヒトＤフラン
等の溶媒中で一般式（′２Ｊの化合物にクリ二セール試
薬を通常−２０〜６０℃程度、好ましくは０〜２５℃程
度で反応きせればよい。クリ二セール試薬は、ハロゲシ
化アル＋ル、ハロゲン化フェニル低級アル＋ル又はハ０
ゲシ化アリル約１モルとマグネシウム約１．１〜１．２
　’ｅルとを常法に従い反応させるととにより調製され
る。一般式（２）の化合物とクリ二セール試薬との使用
割合としては、通常前者に対して後者を等モル〜５倍モ
ル、好ましくは等ｔル〜４倍モル使用するのがよい。

反応工程式−２ ０ＲｉＯＲよ （２） ＯＲ□ＯＲ□ （１−ｃ） （＋　−ｄ） 〔式中Ｒ１は前記に同じ。Ｒ３はベンジル基を示す。

ｎは１〜１０の整数を示す。〕 一般式（２）の化合物から一般式（１−ｃ）の化合物を
得る反応は、ベシジルオ十シアル中ルハライドとマグネ
シウムとから調製したクリ二ヤール試薬を用いる以外は
、上記反応工程式−１におけるクリ二セール反応と同様
にして行ない得る。

一般式（＋−７？）の化合物の接触還元には、従来公知
の接触還元の条件を広く採用でき、例えばパラジウム−
炭素、二酸化白金、ラネーニッケル等を触媒として、メ
タノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテ
ル等のエーテル、酢酸エチル、Ｎ＃Ｎ−ジメチルホルム
アミド（Ｄｙｐ）　等の溶媒中にて、常圧〜３気圧程度
、２０〜５０℃程度にて水素添加すればよい。

反応工程式−３ （＋　−＃）　（１−Ｊ’） 〔式中Ｒ□及びＲ２は前記に同じ。〕 一般式（１−４＋）の化合物の酸化は、四価のセリウム
塩〔例えばセリツクアンモニウムニドラード、（７ｖ７
／４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６（以下「ＣＡＮ」という）〕
、希硝酸−Ａ９０等を用いて好適に行ない得る。四価の
セリウム塩を用いる場合には、例えばジオ牛サシ、アセ
トニトリル、ＴＨＦ、ジクＯルメタシ、クロロホルム、
エーテル等の溶媒中、一般式（１−ｅ）の化合物に通常
等モル〜５倍七ル程度、好ましくは２〜２．５倍℃ル程
度の四価セリウム塩を通常−２０〜６０℃程度、好まし
くは０〜３０℃程度にて反応させるのがよい。また希硝
酸−Ａｇ３を用いる場合には、例えばアセトン、ジオ牛
サシ、ＴＨＦ、エーテル等の溶媒中、通常Ｏ℃〜溶媒の
沸点付近、好ましくは０〜６０℃程度にて実施できる。

Ａ！ＩＯは一般式（１−ｇ）の化合物に対して通常環モ
ル〜２０倍七ル程度、好ましくは３〜１０倍℃ル程度使
用され、また希硝酸は、６Ｎの硝酸水溶液を用い、一般
式（１−ｅ）　の化合物に対して等七ル〜１０倍モル、
好ましくは等七ル〜３倍モル量使用する。

反応工程式−３において出発原料として用いられる一般
式（１１）の化合物のうちＲ２が水素原子である化合物
（化合物（１−ｙ）　）は新規化合物であシ、例えば下
記反応工程式−４に従い製造される。

反応工程式−４ （２）　（１−ｑ） 〔式中Ｒ□は前記に同じ。〕 一般式に）の化合物を還元して一般式（１−９）の化合
物を得る反応には、アルデヒドをアルコールに還元する
従来公知の反応条件を広く適用でき、例えば水素化ホウ
素ナトリウム（ｕａｓｒ−ｒ、　）　、水素化アルミニ
ウムリチウム等を用いる方法を挙げることができる。特
にメタノール、エタノール等のアルコール、水、ＴＨＦ
ＳＤＭＦ等やこれらの混合溶媒中にて一般式（２）の化
合物に約０〜３０℃付近でＮａＢＨｌ、を作用させる方
法は、操作が簡便である点で好適である。この場合Ｎａ
ＥＨ１，は一般式（２）の化合物に対して等℃ルー２倍
モル程度使用するのが望ましい。

上記一般式（１）で表わされる本発明の化合物のうＲ１ 上記各反応工程によシ得られる目的物は、慣用の分離手
段、例えば溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトクラフィ
ー等により容易に単離精製することができる。本発明化
合物には光学異性体が考えられ、かかる異性体もまた本
発明範囲に含まれるものである。

実　施　例 以下本発明化合物を製造するだめの原料化合物の製造例
を参考例として挙け、次いで本発明化合物の製造例を実
施例として挙げる。

参考例 ２−しドロ士ジメチルー１．４．５．８−テトラメト士
シナフタレンの製造 １．４．５．８−テトラメト士シー２−ナフタレシ力ル
ポアルデヒド４．５２をエタノール７０ｍ／及びＴＩｆ
Ｆ３５ｎｌに溶解し、氷冷下ＮａＢＨ，１ｆ／をゆつく
シ加える。３０分間攪拌を続けた後、溶媒を留去し、酢
酸エチル抽出を行ない、有機層を水洗、乾燥（Ｍｇ５Ｏ
４）　、濃縮して得られる粗生成物を、ジクロルメタシ
・ｎ−へ＋サン混合溶媒から再結晶して、白色結晶の標
記化合物４．７２を得た。

融点　１０９〜１１０℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ、ｐｐｍ）： ６．９０　（ｓ　、　Ｉ　Ｈ”）、６．８０　（ｓ　、
　２Ｈ）、４．８３　（ｂｓ　、　２Ｈ’）、３−９６
　（ｓ　、　３Ｈ）、３．９２　（ｓ　、　３Ｈ）、５
．９０　（ｓ　、　３Ｈ）。

３．８８　（ｓ　、　３Ｈ）、２．６０　（ｓ　、　Ｉ
　Ｈ’）実施例　１ ２−（１−しドロ牛ジエチル）　−１，４，５，８−テ
トラメト中シナフタレジ（化合物ｌ）の製造１．４．５
．８−テトラメト士シー２−ナフタレンカルボアルデヒ
ド３１をＴＨＥ５０ｍに溶解し、本溶液に水冷下沃化メ
チル４．２５ｆ、マグネシウム７５０■及びエチルエー
テル３５１ｎＪから調製したグリニヤール試薬をゆっく
り加える。１０分間攪拌を続けた後、反応液を飽和ＮＨ
４Ｃ４水溶液に移し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
乾燥、濃縮して得られる粗生成物を、シリカゲルクロマ
トクラフィー（展開溶媒エーテル：ｎ−へ＋サンー２：
１〜３：Ｉ）Ｋて精製し、標記化合物を白色結晶２．６
０ｆ（８２チ）として得た。

上記と同様にして、後記衣に示す化合物２．３．４．５
及び６の各化合物を得た。

実施例　２ ２−（４−ベニ、Ｉジルオ＋シー１−しドＤ＋ジづチル
’）　−１，４，５，８−テトラメト＋シナフタレン（
化合物７）の製造 １．４，５．８−テトラメト士シ〜２−ナフタレシ力ル
ポアルデヒド５ｒをＴＨＦ　１００ｍに溶解し、本溶液
にマグネシウム１，３２．３−ベシジルオ士シづロピル
プロマイド１２．５Ｆ及びエチルエーテル１２．５ｒよ
り調製したグリニヤール試薬を、水冷下ゆつくシ加える
。１０分間攪拌を続けた後、反応液を飽和ＮＨ４Ｃｌ水
溶液に移し、実施例１と同様に処理して得られた粗生成
物を、シリカゲルクロマトクラフィー（展開溶媒　酢酸
エチル：ｎ−へ＋サンー３：４）Ｋて精製し、標記化合
物を油状物６．６５Ｆ（８６％）で得た。

上記と同様にして、後記衣に示す化合物８及び９の各化
合物を得だ。

実施例　３ ２−（１，４−ジしドロ牛シづチル）　−１，４，５，
８−テトラメト士シナフタレジ（化合物１０）の製造 上記で得られる化合物７　６．５０ｙを酢酸エチル１８
０ｍ４及びＤＭＦ　５０１Ａ’の混合溶媒に溶かし、５
％７’ｄ−ＣＩ００■を加え、常温常圧にて２４時間水
素添加する。反応液を濾過後、濃縮し、シリカゲルクロ
マトクラフィー（展開溶媒クロロホルム：メタノール＝
２０　：　Ｉ　’）にて精製し、標記化合物３．９５ｆ
（７７％）を白色結晶として得た。

上記と同様にして、後記衣に示す化合物１１及び１２の
各化合物を得た。

実施例　４ ６−　（１，４−じヒト０士ジプチル）　−５，８−ジ
メト士シー１，４−ナフト＋ノ、、／（化合物２０）の
製造 上記で得られる化合物１０　３．５８Ｆをジグ０ルメタ
シ３Ｑｍ／に溶解し、本溶液にＣＡＭ１６．１２を水３
０ｒｎｌに溶解した溶液を加え、５分間室温にて激しく
攪拌した。反応液をジグ０ルメタシで抽出し、有機層を
乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマトクラフィー（展開溶
媒クロロホルム：酢酸エチル：メタノール−１０：１０
：ｌ）にて精製し、標記化合物２１を８００■（２２，
８％）得た。

上記と同様にして、後記衣に示す化合物１３．１４、Ｉ
５．１６．１７、ＩＲ−ＩＱ、’；＋１万γド２２の各
化合物を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ■　一般式 級アル＋ル基を示す。Ｒ２は水素原子、Ｃ１〜Ｃ２゜の
   アルナル基、フェニル低級アル＋ル基、アリル基、置換
   基としてベンジルオ十シ基を有するＣ□〜Ｃ１゜のアル
   ナル基又は置換基として水酸基を有するＣ□〜Ｃ□。の
   アルナル基を示す。但し環ＯＲ□ つてはならない。〕 で表わされるナフタレン及びナフト牛ノン誘導体。