JPH01216965A - 2−アルコキシブロピオン酸アミド誘導体の製造方法 - Google Patents
2−アルコキシブロピオン酸アミド誘導体の製造方法Info
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- JPH01216965A JPH01216965A JP63040749A JP4074988A JPH01216965A JP H01216965 A JPH01216965 A JP H01216965A JP 63040749 A JP63040749 A JP 63040749A JP 4074988 A JP4074988 A JP 4074988A JP H01216965 A JPH01216965 A JP H01216965A
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- 150000001408 amides Chemical class 0.000 title claims abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Substances C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 abstract description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 4
- VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 VJGNLOIQCWLBJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 13
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 6
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 5
- -1 benzyl halide Chemical class 0.000 description 5
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005574 benzylation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- LZCLXQDLBQLTDK-BYPYZUCNSA-N ethyl (2S)-lactate Chemical compound CCOC(=O)[C@H](C)O LZCLXQDLBQLTDK-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000012419 sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride Substances 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1 JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 2
- HUZCTWYDQIQZPM-UHFFFAOYSA-N benzyl 2,2,2-trichloroethanimidate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=N)OCC1=CC=CC=C1 HUZCTWYDQIQZPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- LRRGYHJHSLSATF-VIFPVBQESA-N (2s)-2-phenylmethoxypropanal Chemical compound O=C[C@H](C)OCC1=CC=CC=C1 LRRGYHJHSLSATF-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- KQNBRMUBPRGXSL-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(CBr)C=C1 KQNBRMUBPRGXSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIGRWGTZFONRKA-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(CBr)C=C1 GIGRWGTZFONRKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZRKSPFYXUXINF-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(CBr)C=C1 WZRKSPFYXUXINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(CCl)C=C1 MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(CCl)C=C1 DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001474374 Blennius Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N [Na].COCCO[AlH]OCCOC Chemical compound [Na].COCCO[AlH]OCCOC JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003782 beta lactam antibiotic agent Substances 0.000 description 1
- YZBQHRLRFGPBSL-RXMQYKEDSA-N carbapenem Chemical compound C1C=CN2C(=O)C[C@H]21 YZBQHRLRFGPBSL-RXMQYKEDSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- SXQFCVDSOLSHOQ-UHFFFAOYSA-N lactamide Chemical compound CC(O)C(N)=O SXQFCVDSOLSHOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- ODYNBECIRXXOGG-UHFFFAOYSA-N n-butylbutan-1-amine;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[NH2+]CCCC ODYNBECIRXXOGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HHXMXAQDOUCLDN-RXMQYKEDSA-N penem Chemical compound S1C=CN2C(=O)C[C@H]21 HHXMXAQDOUCLDN-RXMQYKEDSA-N 0.000 description 1
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000002132 β-lactam antibiotic Substances 0.000 description 1
- 229940124586 β-lactam antibiotics Drugs 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式[1[1]
す
(式中R+、 R1は同一または異なる炭素数1〜8の
アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示
し、また、R1,1ttは一体となって環を形成しうる
。また、R3およびR4は同一または異なる水素原子、
炭素数1〜3の低級アルキル基、炭素数1〜3のアルコ
キシ基、アリールオキシ基あるいはハロゲン原子を示す
、)で示される2−アルコキシプロピオン酸アミド誘導
体(以降B LADと略する)の製造方法に係わり、更
に詳しくは一般式[1] (式中R1,R”は前記と同じ意味を示す。)で示され
るN、N−ジアルキル乳酸アミド(以降A、 L Aと
略する)とハロゲン化ベンジル誘導体を原料とするBL
ADの新規製造法に関するものであり、その目的とする
ところは医薬の中間体として有用なり LADを工業的
に有利な条件で製造する方法を提供することにある。
アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示
し、また、R1,1ttは一体となって環を形成しうる
。また、R3およびR4は同一または異なる水素原子、
炭素数1〜3の低級アルキル基、炭素数1〜3のアルコ
キシ基、アリールオキシ基あるいはハロゲン原子を示す
、)で示される2−アルコキシプロピオン酸アミド誘導
体(以降B LADと略する)の製造方法に係わり、更
に詳しくは一般式[1] (式中R1,R”は前記と同じ意味を示す。)で示され
るN、N−ジアルキル乳酸アミド(以降A、 L Aと
略する)とハロゲン化ベンジル誘導体を原料とするBL
ADの新規製造法に関するものであり、その目的とする
ところは医薬の中間体として有用なり LADを工業的
に有利な条件で製造する方法を提供することにある。
このB LADは還元により容易に2−アルコキシプロ
パナール誘導体に導くことができ、この2−アルコキシ
プロパナール誘導体はカルバペネム系あるいはペネム系
β−ラクタム抗生物質の鍵合成中間体の合成原料として
用いられる。
パナール誘導体に導くことができ、この2−アルコキシ
プロパナール誘導体はカルバペネム系あるいはペネム系
β−ラクタム抗生物質の鍵合成中間体の合成原料として
用いられる。
(Tetrahedron Lett、27+ 575
L 1986; Cheap、 Lett、、 445
.1987) 〔従来の技術〕 従来、水酸基のベンジル化の方法として、−船釣にDM
F、!:THFなどの混合溶媒中で水素化ナトリウムを
用いてナトリウムアルコラードを形成した後に、ハロゲ
ン化ベンジルを反応させる方法が知られているが、この
方法では乾燥した無水の有機溶媒が必要であり、更に生
成したアルコラードを溶解させるために多量の溶媒が必
要である。
L 1986; Cheap、 Lett、、 445
.1987) 〔従来の技術〕 従来、水酸基のベンジル化の方法として、−船釣にDM
F、!:THFなどの混合溶媒中で水素化ナトリウムを
用いてナトリウムアルコラードを形成した後に、ハロゲ
ン化ベンジルを反応させる方法が知られているが、この
方法では乾燥した無水の有機溶媒が必要であり、更に生
成したアルコラードを溶解させるために多量の溶媒が必
要である。
また発火の危険のある金属水素化物を用いることは工業
的に有効とは言い難い。
的に有効とは言い難い。
また、THF中で水素化ナトリウムにより金属アルコラ
ードを形成した後に、触媒量の第四級アンモニウム塩を
用いてハロゲン化ベンジルを反応させる方法も知られて
いる。この方法ではTHFとDMFなどの混合溶媒を用
いる必要が無く、その溶媒量も比較的少ないが、先の例
と同様に乾燥した無水の有機溶媒と金属水素化物の使用
は避けられない。[Tetrahedron Lett
、、 3535 (1976)]一方、金属水素化物を
用いずにベンジル化を行う方法としては、ベンジルトリ
クロロアセトイミデートと触媒量のトリフルオロメタン
スルホン酸を用いて反応する方法あるいは酸化銀の存在
下臭化ベンジルを用いる方法が知られている。しかし、
これらの方法ではベンジル化剤のベンジルトリクロロア
セトイミデートや酸化銀が高価であり、工業的に実用的
とは言い難い、 [J、 Chew、 Soc、 C
he+w、 Come、、 1旦且1+ 124
0; Chew、 Ber、+ 90+ 20
3 (1957)] 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、B LADの工業的に有利な製造方法と
して、市販の有機溶媒を特に精製乾燥することなく用い
て、発火の危険のある金属水素化物を使用しない安価な
製造法を種々検討した。その結果、反応に不活性な溶媒
中で第四級アンモニウム塩を触媒として、水酸化ナトリ
ウム水溶液もしくは粉末の水酸化ナトリウム等の水酸化
アルカリの存在下でALAとハロゲン化ベンジルとによ
り良好な収率で、B LADが製造できることを見い出
し本発明を完成させたものである。
ードを形成した後に、触媒量の第四級アンモニウム塩を
用いてハロゲン化ベンジルを反応させる方法も知られて
いる。この方法ではTHFとDMFなどの混合溶媒を用
いる必要が無く、その溶媒量も比較的少ないが、先の例
と同様に乾燥した無水の有機溶媒と金属水素化物の使用
は避けられない。[Tetrahedron Lett
、、 3535 (1976)]一方、金属水素化物を
用いずにベンジル化を行う方法としては、ベンジルトリ
クロロアセトイミデートと触媒量のトリフルオロメタン
スルホン酸を用いて反応する方法あるいは酸化銀の存在
下臭化ベンジルを用いる方法が知られている。しかし、
これらの方法ではベンジル化剤のベンジルトリクロロア
セトイミデートや酸化銀が高価であり、工業的に実用的
とは言い難い、 [J、 Chew、 Soc、 C
he+w、 Come、、 1旦且1+ 124
0; Chew、 Ber、+ 90+ 20
3 (1957)] 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者らは、B LADの工業的に有利な製造方法と
して、市販の有機溶媒を特に精製乾燥することなく用い
て、発火の危険のある金属水素化物を使用しない安価な
製造法を種々検討した。その結果、反応に不活性な溶媒
中で第四級アンモニウム塩を触媒として、水酸化ナトリ
ウム水溶液もしくは粉末の水酸化ナトリウム等の水酸化
アルカリの存在下でALAとハロゲン化ベンジルとによ
り良好な収率で、B LADが製造できることを見い出
し本発明を完成させたものである。
本発明に使用するALAは一般式[1]で示され、N、
N−ジメチル乳酸アミド、N、N−ジエチル乳酸アミド
、N、N−テトラメチレン乳酸アミド、N、N−ペンタ
メチレン乳酸アミド、N−メチルーN−エチル乳酸アミ
ドなどのdi一体(S)一体あるいは(R)一体が例示
される。本発明に用いるALAは、di一体、(S)一
体あるいは(R)一体の乳酸エステルと相当する2級ア
ミンを無溶媒で加熱することにより得られるものであり
、例えば、(S)−乳酸エチルと1.05〜3.0当量
のジメチルアミンとを70℃加圧下で反応させることに
より(S)−N、N−ジメチル乳酸アミドが製造される
。得られたALAは過剰の2級アミンを減圧で留去した
後、蒸留するかもしくはそのまま本発明のベンジル化に
使用できる。
N−ジメチル乳酸アミド、N、N−ジエチル乳酸アミド
、N、N−テトラメチレン乳酸アミド、N、N−ペンタ
メチレン乳酸アミド、N−メチルーN−エチル乳酸アミ
ドなどのdi一体(S)一体あるいは(R)一体が例示
される。本発明に用いるALAは、di一体、(S)一
体あるいは(R)一体の乳酸エステルと相当する2級ア
ミンを無溶媒で加熱することにより得られるものであり
、例えば、(S)−乳酸エチルと1.05〜3.0当量
のジメチルアミンとを70℃加圧下で反応させることに
より(S)−N、N−ジメチル乳酸アミドが製造される
。得られたALAは過剰の2級アミンを減圧で留去した
後、蒸留するかもしくはそのまま本発明のベンジル化に
使用できる。
本発明において、ALAと反応させるベンジル化剤は、
−触式[11] (式中R′;R“、Xは前記と同じ意味を示す、)で表
され、塩化ベンジル、塩化p−クロロベンジル、塩化P
−メトキシベンジル、塩化p−メチルベンジル、塩化2
.4−ジメトキシベンジル、塩化2゜4−ジクロロベン
ジル、臭化ベンジル、臭化p −クロロベンジル、臭化
p−メトキシベンジル、臭化p−メチルベンジル、また
はコラ化ベンジル等の無置換または1ないし2置換のハ
ロゲン化ベンジルが例示できる。これらのベンジル化剤
はALAに対し、通常1.0当量〜2.0当量用いられ
るが、好ましくは1.0当量〜1.2当量用いて反応さ
せる。
−触式[11] (式中R′;R“、Xは前記と同じ意味を示す、)で表
され、塩化ベンジル、塩化p−クロロベンジル、塩化P
−メトキシベンジル、塩化p−メチルベンジル、塩化2
.4−ジメトキシベンジル、塩化2゜4−ジクロロベン
ジル、臭化ベンジル、臭化p −クロロベンジル、臭化
p−メトキシベンジル、臭化p−メチルベンジル、また
はコラ化ベンジル等の無置換または1ないし2置換のハ
ロゲン化ベンジルが例示できる。これらのベンジル化剤
はALAに対し、通常1.0当量〜2.0当量用いられ
るが、好ましくは1.0当量〜1.2当量用いて反応さ
せる。
また塩基として用いる水酸アルカリとして工業的には水
酸化ナトリウム水溶液が主に用いられるビ が、粉末水酸化ナトリウムを用いi応は円滑に進行する
。水酸化ナトリウム水溶液は一般に20〜50%の濃度
で用いられ、好ましくは50%の濃度で用いられる。粉
末の水酸化ナトリウムは市販の固形の水酸化ナトリウム
を粉砕してそのまま用いられる。これら水酸化ナトリウ
ムは水溶液、f粉末共にALAに対し、通常1.0当量
〜5.0当量用いられるが、好ましくは1.2当量〜3
,5当量用いて反応させる。
酸化ナトリウム水溶液が主に用いられるビ が、粉末水酸化ナトリウムを用いi応は円滑に進行する
。水酸化ナトリウム水溶液は一般に20〜50%の濃度
で用いられ、好ましくは50%の濃度で用いられる。粉
末の水酸化ナトリウムは市販の固形の水酸化ナトリウム
を粉砕してそのまま用いられる。これら水酸化ナトリウ
ムは水溶液、f粉末共にALAに対し、通常1.0当量
〜5.0当量用いられるが、好ましくは1.2当量〜3
,5当量用いて反応させる。
本発明に用いる第四級アンモニウム塩は、有機溶媒中の
ALAを水層または固層の水酸化アルカリにより活性化
するうえで、相間移動触媒として極めて効果的に作用す
るものである0本発明に使用する第四級アンモニウム塩
としては例えば−数式[IV] (式中、R5は炭素数1〜10のアルキル基もしくはベ
ンジル基 R6,R’r、%は炭素数4〜10アルキル
基、または、R55R&は炭素数1〜3のアルキル基、
R?はベンジル基、Reは炭素数8〜18のアルキル基
を示し、XはCff1またBrを示す、)で示されるも
のが挙げられ、好ましく使用されるものとしては、例え
ば塩化ベンジルトリブチルアンモニウムのようなR’x
(:x〜C8のアルキル基もしくはヘンシル基、R1、
R7、R’−C,〜C,(7)7 ttt* tlJ、
x−c iよりなるものがあげられる。第四級アンモニ
ウム塩の添加量は、ALAに対し通常0.01当量〜0
.2当量である。
ALAを水層または固層の水酸化アルカリにより活性化
するうえで、相間移動触媒として極めて効果的に作用す
るものである0本発明に使用する第四級アンモニウム塩
としては例えば−数式[IV] (式中、R5は炭素数1〜10のアルキル基もしくはベ
ンジル基 R6,R’r、%は炭素数4〜10アルキル
基、または、R55R&は炭素数1〜3のアルキル基、
R?はベンジル基、Reは炭素数8〜18のアルキル基
を示し、XはCff1またBrを示す、)で示されるも
のが挙げられ、好ましく使用されるものとしては、例え
ば塩化ベンジルトリブチルアンモニウムのようなR’x
(:x〜C8のアルキル基もしくはヘンシル基、R1、
R7、R’−C,〜C,(7)7 ttt* tlJ、
x−c iよりなるものがあげられる。第四級アンモニ
ウム塩の添加量は、ALAに対し通常0.01当量〜0
.2当量である。
反応系における有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類、ジクロロメタン、1
.2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素等を例示
できる。それらの有機溶媒は市販品を精製乾燥すること
なく用いることができ、一般にALA1モルに対し0.
5L〜5.OLの量で使用され、好ましくは0.5L−
2,OLの量で使用される0反応温度は、反応系の条件
によって異なるが通常−10°C〜50℃、好ましくは
0°C〜30 ”Cである。
、キシレン等の芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類、ジクロロメタン、1
.2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素等を例示
できる。それらの有機溶媒は市販品を精製乾燥すること
なく用いることができ、一般にALA1モルに対し0.
5L〜5.OLの量で使用され、好ましくは0.5L−
2,OLの量で使用される0反応温度は、反応系の条件
によって異なるが通常−10°C〜50℃、好ましくは
0°C〜30 ”Cである。
反応後は、水酸化アルカリを分液または濾過で除いた後
に、次いで有機層を希塩酸で水洗することにより第四級
アンモニウム塩を除去する。しかる後、有機層を乾燥し
、ついで有機溶媒を除去することにより目的とするB
LADを取り出すことが出来る。
に、次いで有機層を希塩酸で水洗することにより第四級
アンモニウム塩を除去する。しかる後、有機層を乾燥し
、ついで有機溶媒を除去することにより目的とするB
LADを取り出すことが出来る。
得られたBLADは更に再結晶などで精製した後、もし
くはそのまま還元剤により還元して2−アルコキシプロ
パナールに誘導することが出来る。
くはそのまま還元剤により還元して2−アルコキシプロ
パナールに誘導することが出来る。
以下に実施例を挙げて本発明の詳細な説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
(参考例1)
(S)−乳酸エチル59.1g (0,50s+ol
)に無水ジメチルアミン27.1 g (0,60mo
l )を氷冷下加え、封管した後70℃で18時間撹拌
した。
)に無水ジメチルアミン27.1 g (0,60mo
l )を氷冷下加え、封管した後70℃で18時間撹拌
した。
減圧で未反応のジメチルアミンと生成するエタノールを
留去した後、再びジメチルアミン16.6 g(0,3
7mol)を加えて封管し70°Cで2日撹拌し、反応
を完結した。過剰のジメチルアミンと生成するエタノー
ルを減圧で留去した後残渣を減圧蒸留して(S)−N、
N−ジメチル乳酸アミド53.8g(収率92%)を無
色油状物として得た。
留去した後、再びジメチルアミン16.6 g(0,3
7mol)を加えて封管し70°Cで2日撹拌し、反応
を完結した。過剰のジメチルアミンと生成するエタノー
ルを減圧で留去した後残渣を減圧蒸留して(S)−N、
N−ジメチル乳酸アミド53.8g(収率92%)を無
色油状物として得た。
(bp 77°C/ 1 gw*Hg)I R(ne
at) 3450.3000.2950.1640.1
510゜1450、1380.1260.1030.1
120cm −’H−NMRCCDCl 3) δ=
1.33 [3H,d、CHs12.99 [6H,s
X 2.N(CHs) ]3.66 [LH,bs、
OH] 4.46 [IH,dq、CI] (参考例2) (S)−乳酸エチル5.91 g (50,0wmol
)にピロリジン3.73g(52,5麟閣o1)を氷冷
下加えた後、80°Cで9時間撹拌した。過剰のピロリ
ジンと生成したエタノールを減圧留去した後、残渣を蒸
留して(S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド6、
19 g (収率86%)を無色油状物として得た。
at) 3450.3000.2950.1640.1
510゜1450、1380.1260.1030.1
120cm −’H−NMRCCDCl 3) δ=
1.33 [3H,d、CHs12.99 [6H,s
X 2.N(CHs) ]3.66 [LH,bs、
OH] 4.46 [IH,dq、CI] (参考例2) (S)−乳酸エチル5.91 g (50,0wmol
)にピロリジン3.73g(52,5麟閣o1)を氷冷
下加えた後、80°Cで9時間撹拌した。過剰のピロリ
ジンと生成したエタノールを減圧留去した後、残渣を蒸
留して(S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド6、
19 g (収率86%)を無色油状物として得た。
(bp 108°C/1鴎Hg)
I R(neat) 3450.3000.2900.
1637.1440゜1387、1345.1133.
104104O’H−NMR(CDCN り δ=1
.33 [3H,d、CHs]1.90 [4H,麟
、CfhX 2 ]3.45 [4H,II、CH
!X 2 ]3.73 [1n、d、on] 4.29 [1)1.dq、C)+3 (実施例1) (10mmol)をジクロロメタン5+dに溶解し、塩
化ベンジルトリブチルアンモニウム156■(0゜51
11101)、塩化ベンジル1.52 g (12mm
ol)、50%水酸化ナトリウム水溶液2.80g(3
5m■o1)を順次添加した。室温にて一晩撹拌後、ジ
クロロメタンを更に10mと水5Ildを追加した後水
層を分液した。有機層を1規定塩酸5d、次いで飽和食
塩水5dで洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸
エチル−4:6)で分離精製し、(S)−N、N−ジメ
チル−2−ベンジルオキシプロピオン酸アミド1.78
g(収率86%)を無色油状物として得た。
1637.1440゜1387、1345.1133.
104104O’H−NMR(CDCN り δ=1
.33 [3H,d、CHs]1.90 [4H,麟
、CfhX 2 ]3.45 [4H,II、CH
!X 2 ]3.73 [1n、d、on] 4.29 [1)1.dq、C)+3 (実施例1) (10mmol)をジクロロメタン5+dに溶解し、塩
化ベンジルトリブチルアンモニウム156■(0゜51
11101)、塩化ベンジル1.52 g (12mm
ol)、50%水酸化ナトリウム水溶液2.80g(3
5m■o1)を順次添加した。室温にて一晩撹拌後、ジ
クロロメタンを更に10mと水5Ildを追加した後水
層を分液した。有機層を1規定塩酸5d、次いで飽和食
塩水5dで洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸
エチル−4:6)で分離精製し、(S)−N、N−ジメ
チル−2−ベンジルオキシプロピオン酸アミド1.78
g(収率86%)を無色油状物として得た。
(bp 140°C/1mHg)
I R(neat) 3500.3000.2950.
1660.1500゜1458、1402.1260.
1118.700CI11−’H−NMR(CDCl
x )δ−1,42[3)1.d、C113]2.95
. 3.03 [6fl、sX2.CHsX2コ4.
34 [LH,q、C■] 4.40.4.60 [2H,dX2.CHz]7.3
2 [5H,s、Ph] (実施例2] 塩化ベンジル760■(6ms+of )をトルエン5
dに溶解し、塩化トリオクチルメチルアンモニウム10
1 tag (0,25mmol) 、粉末の95%水
酸化ナトリウム737 %g (17,5mmol)を
添加し0°Cでて撹拌した。この溶液に同じく0℃にて
(S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド716■(
5mwol )を徐々に滴下し、室温にてそのまま6時
間撹拌して反応した。トルエンを加えて濾過した後、ト
ルエン溶液を1規定塩酸5d、次いで飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液5dで洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に
溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサ
ン:酢酸エチル−4:6)で分離精製し、(S)−N、
N−テトラメチレン−2−ベンジルオキシプロピオン酸
アジド1.07g(収率92%)を白色結晶として得た
。
1660.1500゜1458、1402.1260.
1118.700CI11−’H−NMR(CDCl
x )δ−1,42[3)1.d、C113]2.95
. 3.03 [6fl、sX2.CHsX2コ4.
34 [LH,q、C■] 4.40.4.60 [2H,dX2.CHz]7.3
2 [5H,s、Ph] (実施例2] 塩化ベンジル760■(6ms+of )をトルエン5
dに溶解し、塩化トリオクチルメチルアンモニウム10
1 tag (0,25mmol) 、粉末の95%水
酸化ナトリウム737 %g (17,5mmol)を
添加し0°Cでて撹拌した。この溶液に同じく0℃にて
(S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド716■(
5mwol )を徐々に滴下し、室温にてそのまま6時
間撹拌して反応した。トルエンを加えて濾過した後、ト
ルエン溶液を1規定塩酸5d、次いで飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液5dで洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に
溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサ
ン:酢酸エチル−4:6)で分離精製し、(S)−N、
N−テトラメチレン−2−ベンジルオキシプロピオン酸
アジド1.07g(収率92%)を白色結晶として得た
。
(mp 42〜42.5°C)
I R(neat) 3050.3000.2890.
1630.1430゜1350、1120.730CI
−’ H−NMR(CDCII! ! )δ−1,42[3H
,d、CHsll、85 [4H,s、cHiX2] 3.50 [411,霧、(ltX2]4.20 [1
)1.qXcH] 4.41.4.62 [2H,dX2.CHz]7.3
2 [5B、s、Ph1 (実施例3) (S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド286■(
2mmol )と塩化トリオクチルメチルアンモニウム
40.4■(0,10mmol)をトルエン2111に
溶解した。つづいて、塩化p−クロロベンジル386f
fig (2,4mmol)を添加し0°Cにて撹拌し
た。
1630.1430゜1350、1120.730CI
−’ H−NMR(CDCII! ! )δ−1,42[3H
,d、CHsll、85 [4H,s、cHiX2] 3.50 [411,霧、(ltX2]4.20 [1
)1.qXcH] 4.41.4.62 [2H,dX2.CHz]7.3
2 [5B、s、Ph1 (実施例3) (S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド286■(
2mmol )と塩化トリオクチルメチルアンモニウム
40.4■(0,10mmol)をトルエン2111に
溶解した。つづいて、塩化p−クロロベンジル386f
fig (2,4mmol)を添加し0°Cにて撹拌し
た。
この溶液に同じ< o ’cにて粉末の95%水酸化ナ
トリウム295■(7,0mmol )を徐々に添加し
、室温にてそのまま6時間撹拌して反応した。トルエン
を加えて濾過した後、トルエン溶液を1規定塩酸5W1
1、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5dで洗浄し
硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減圧留去した。残渣
をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=4 :
6)で分離精製し、(S)−N、N−テトラメチレン−
2−P−クロロベンジルオキシプロピオン酸アジド50
5.1筑g(収率94%)を白色結晶として得た。
トリウム295■(7,0mmol )を徐々に添加し
、室温にてそのまま6時間撹拌して反応した。トルエン
を加えて濾過した後、トルエン溶液を1規定塩酸5W1
1、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5dで洗浄し
硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減圧留去した。残渣
をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=4 :
6)で分離精製し、(S)−N、N−テトラメチレン−
2−P−クロロベンジルオキシプロピオン酸アジド50
5.1筑g(収率94%)を白色結晶として得た。
H−NMR(CDCffi 3)δ−1,42[311
,d、cHs]1.87 [4B、s、CHtX2]
3.45 [411,■、cngx2]4.19
[IH1qXCH] 4.48 [2H,dX2.CHx17.29 C4
H,S、CbHaCI! ](実施例4) (S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド337、4
g (2,36m*ol)と塩化トリオクチルメチル
アンモニウム47.7■(0,118wmol)をトル
エン5dに溶解した。つづいて、塩化p−メトキシベン
ジル452■(2,83mmol)を添加し0℃にて撹
拌した。この溶液に同じくO″Cにて粉末の95%水酸
化ナトリウム3471g (8,25s+5ol)を徐
々に添加し、室温にてそのまま8時間撹拌して反応した
。トルエンを加えて濾過した後、トルエン溶液を1規定
塩酸5d、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5dで
洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減圧留去した
。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル−4
:6)で分離精製し、(S)−N、N−テトラメチレン
−2−p−メトキシベンジルオキシプロピオン酸アミド
490.3ag (収率79%)を白色結晶として得た
。
,d、cHs]1.87 [4B、s、CHtX2]
3.45 [411,■、cngx2]4.19
[IH1qXCH] 4.48 [2H,dX2.CHx17.29 C4
H,S、CbHaCI! ](実施例4) (S)−N、N−テトラメチレン乳酸アミド337、4
g (2,36m*ol)と塩化トリオクチルメチル
アンモニウム47.7■(0,118wmol)をトル
エン5dに溶解した。つづいて、塩化p−メトキシベン
ジル452■(2,83mmol)を添加し0℃にて撹
拌した。この溶液に同じくO″Cにて粉末の95%水酸
化ナトリウム3471g (8,25s+5ol)を徐
々に添加し、室温にてそのまま8時間撹拌して反応した
。トルエンを加えて濾過した後、トルエン溶液を1規定
塩酸5d、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5dで
洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥後に溶媒を減圧留去した
。残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル−4
:6)で分離精製し、(S)−N、N−テトラメチレン
−2−p−メトキシベンジルオキシプロピオン酸アミド
490.3ag (収率79%)を白色結晶として得た
。
H−NMR(CDCl s )δ−1,42[3H,d
、CHsll、85 [4H,ll、CH! X 2
]3.41 C4H1m+cNt×2コ3.79 [
3H,5XcH30] 4.17 [IR,qXCH] 4.45 [2H,dXdX2.CHz]6.81〜7
.31 [4H,slC*HaOMel(参考例3) q (S)−N、N−テトラメチレン−2−ベンジルオキシ
プロピオン酸アミド1.239ν(5,32mgo+)
をトルエン5.3 mに溶解し一10℃にて2M−ナト
リウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムヒド
リド(トルエン溶液)1,6011dl(3゜20mm
ol)を添加した。−10°Cにて2時間撹拌下反応し
、つぎに、アセトンを0.195μl添加して更に15
分間撹拌した0反応液を水冷下の1規定塩酸水溶液12
.7afと酢酸エチル50dlに加えて撹拌後、有機層
を分離し、水層を酢酸エチル25dで抽出した。有機層
を合わせて0.1規定塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた
残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=1−
19:1)で分離精製して(S)−2−ベンジルオキシ
プロパナール0.769g(収率88%)を無色油状物
として得た。
、CHsll、85 [4H,ll、CH! X 2
]3.41 C4H1m+cNt×2コ3.79 [
3H,5XcH30] 4.17 [IR,qXCH] 4.45 [2H,dXdX2.CHz]6.81〜7
.31 [4H,slC*HaOMel(参考例3) q (S)−N、N−テトラメチレン−2−ベンジルオキシ
プロピオン酸アミド1.239ν(5,32mgo+)
をトルエン5.3 mに溶解し一10℃にて2M−ナト
リウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムヒド
リド(トルエン溶液)1,6011dl(3゜20mm
ol)を添加した。−10°Cにて2時間撹拌下反応し
、つぎに、アセトンを0.195μl添加して更に15
分間撹拌した0反応液を水冷下の1規定塩酸水溶液12
.7afと酢酸エチル50dlに加えて撹拌後、有機層
を分離し、水層を酢酸エチル25dで抽出した。有機層
を合わせて0.1規定塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた
残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル=1−
19:1)で分離精製して(S)−2−ベンジルオキシ
プロパナール0.769g(収率88%)を無色油状物
として得た。
I R(neat) 3470.2900.1?40.
1100.700C11−’H−NMR(CDCj!
s ) δ −1,32[3H,d、CH,]3.
88 [IH,dq、CH2] 4.62 [2L d X 2. CHt ]]735
[5H1s、C1Hs ] 9.66 [1u、d、cool (参考例4) (S) −N、N−テトラメチレン−2−p−クロロベ
ンジルオキシプロピオン酸アミド134■(9,5+s
@ol )を無水トルエン1.3 mに溶解しo ’c
にてLM−ナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムヒドリド(トルエン溶液)0.28 d (
0,28+mol)を添加した。o’cにて更に2時間
撹拌下反応し、つぎに、アセトンを80μm添加して未
反応のナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウム・ヒドリドを消費させた。
1100.700C11−’H−NMR(CDCj!
s ) δ −1,32[3H,d、CH,]3.
88 [IH,dq、CH2] 4.62 [2L d X 2. CHt ]]735
[5H1s、C1Hs ] 9.66 [1u、d、cool (参考例4) (S) −N、N−テトラメチレン−2−p−クロロベ
ンジルオキシプロピオン酸アミド134■(9,5+s
@ol )を無水トルエン1.3 mに溶解しo ’c
にてLM−ナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)ア
ルミニウムヒドリド(トルエン溶液)0.28 d (
0,28+mol)を添加した。o’cにて更に2時間
撹拌下反応し、つぎに、アセトンを80μm添加して未
反応のナトリウムビス(2−メトキシエトキシ)アルミ
ニウム・ヒドリドを消費させた。
反応液を水冷下の1規定塩酸水溶液1.0 Mlへ添加
し、さらに酢酸エチルを加えて分液した。水層を211
11!の酢酸エチルで更に抽出し、有機層を合わせて硫
酸マグネシウムで乾燥した。バス塩を40°C以下にし
て、トルエンを減圧留去して得られた残渣をシリカゲル
カラム(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で分離精製し
て(S)−2−p−クロロベンジルオキシプロパナール
89.5■(収率90%)を無色油状物として得た。
し、さらに酢酸エチルを加えて分液した。水層を211
11!の酢酸エチルで更に抽出し、有機層を合わせて硫
酸マグネシウムで乾燥した。バス塩を40°C以下にし
て、トルエンを減圧留去して得られた残渣をシリカゲル
カラム(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で分離精製し
て(S)−2−p−クロロベンジルオキシプロパナール
89.5■(収率90%)を無色油状物として得た。
I R(neat) 2990.2860.1?38.
1490.1082゜1010、802cm−’ H−NMR(CDCl 3 )δ=1.34 [3)1
.d、cHa]3.88 [81,dq、cl 4.51,4.65 [2H,dX2.CHz17.3
1 [4H,s、CthFIaCl ]9.66 E4
H,d、CHOJ 〔発明の効果〕 本発明の製造方法は発火の危険のある金属水素化物を使
用しなくてよいこと、系内に水が存在してもよいこと、
さらには、使用する有機溶媒は反応に不活性なものなら
ばなんでも使用でき、その使用量も大幅に減少すること
ができること等、工業的に優れたBLADの製造方法で
ある。
1490.1082゜1010、802cm−’ H−NMR(CDCl 3 )δ=1.34 [3)1
.d、cHa]3.88 [81,dq、cl 4.51,4.65 [2H,dX2.CHz17.3
1 [4H,s、CthFIaCl ]9.66 E4
H,d、CHOJ 〔発明の効果〕 本発明の製造方法は発火の危険のある金属水素化物を使
用しなくてよいこと、系内に水が存在してもよいこと、
さらには、使用する有機溶媒は反応に不活性なものなら
ばなんでも使用でき、その使用量も大幅に減少すること
ができること等、工業的に優れたBLADの製造方法で
ある。
出願人:財団法人 和積中央化学研究所間 : (43
0) 日本曹達株式会社代理人二 横 山 吉
美
0) 日本曹達株式会社代理人二 横 山 吉
美
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2は同一または異なる炭素数1〜8
のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を
示す。また、R^1、R^2は一体となって環を形成し
うる。)で示されるN,N−ジアルキル乳酸アミドと一
般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^3およびR^4は同一または異なる水素原子
、炭素数1〜3の低級アルキル基、炭素数1〜3のアル
コキシ基、アリールオキシ基あるいはハロゲン原子を示
し、XはCl、Br、またはIを表す。 で示されるハロゲン化ベンジル誘導体とを有機溶媒中、
第四級アンモニウム塩及び水酸化アルカリの存在下に、
反応させることを特徴とする一般式[III] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は前記と同
じ意味を示す。)で示される2−アルコキシプロピオン
酸アミド誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63040749A JPH01216965A (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 2−アルコキシブロピオン酸アミド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63040749A JPH01216965A (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 2−アルコキシブロピオン酸アミド誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01216965A true JPH01216965A (ja) | 1989-08-30 |
Family
ID=12589281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63040749A Pending JPH01216965A (ja) | 1988-02-25 | 1988-02-25 | 2−アルコキシブロピオン酸アミド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01216965A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103193609A (zh) * | 2013-03-27 | 2013-07-10 | 浙江丽晶化学有限公司 | (s)-2-苄氧基戊-3-酮的合成工艺 |
| WO2014097257A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Instytut Chemii Organicznej Pan | A method of preparation of (1'r,3r,4r)-4-acetoxy-3-(1'-(tert-butyldimethylsilyloxy)ethyl)-2-azetidinone, a precursor for carbapenem antibiotics synthesis |
-
1988
- 1988-02-25 JP JP63040749A patent/JPH01216965A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014097257A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Instytut Chemii Organicznej Pan | A method of preparation of (1'r,3r,4r)-4-acetoxy-3-(1'-(tert-butyldimethylsilyloxy)ethyl)-2-azetidinone, a precursor for carbapenem antibiotics synthesis |
| CN103193609A (zh) * | 2013-03-27 | 2013-07-10 | 浙江丽晶化学有限公司 | (s)-2-苄氧基戊-3-酮的合成工艺 |
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