JPS60257531A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPS60257531A
JPS60257531A JP11420384A JP11420384A JPS60257531A JP S60257531 A JPS60257531 A JP S60257531A JP 11420384 A JP11420384 A JP 11420384A JP 11420384 A JP11420384 A JP 11420384A JP S60257531 A JPS60257531 A JP S60257531A
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JP
Japan
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resin
protective film
semiconductor chip
outside
protected
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Application number
JP11420384A
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English (en)
Inventor
Yoichi Iga
伊賀 洋一
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、樹脂封止の半導体装置、特に、シリコン樹脂
などの内層樹脂で半導体チップを直接色種し、さらにそ
の外側をエポキシ樹脂などの外層樹脂で包覆保護した二
層樹脂封止の半導体装置を製造する方法に関する。
口、従来の技術 このような二層樹脂構造の半導体装置は、半導体チップ
を直接包む内層樹脂としては、半導体チップに影響を及
ばず不純物をできるだけ含まない純度の尚いシリコン樹
脂を用い、外側の外層樹脂としては、純度の高いことを
必要としない、比較的安価で構造的強度を有するエポキ
シ樹脂などが生に用いられている。
ハ1発明が解決しようとする問題点 このような二層樹脂の半導体装置では、封止樹脂からの
半導体チップが汚染されることは防止されているが、し
かし、外部湿気の浸入防止特性は十分とはいい難く、一
層の改善が望まれていた。
二1問題点を解決するための技術手段 本発明では、内側の保護層、すなわち内層樹脂の表面に
有機金属膜を被層し、熱処理によって透湿率の低い保護
膜を形成し、この保護膜により外部湿気の侵入を防止し
ている。
ホ、実施例 つぎに本発明を実施例により説明する。
第1図は本発明方法によシ製造された半導体装置の断面
図である。第1図において、1は外部雰囲気から保護す
べき半導体チップで、リードフレームのアイランド2に
固着している0そして、半導体チップ1の電極と外部リ
ード3との間を金属細線4で接続したのち、アイランド
2を含む半導体チップ1および金族細線4は、チップを
汚染するような不純物を含ま々い、すなわち純度の高い
シリコン樹脂5で包んで保護する。それから、シリコー
ン樹脂層5の外面に有機金塊化合物、例えば有機チタン
を塗布し、しかる後熱処理を施すことによシリコーン樹
脂層と反応させて透湿率の極めて小さい保@膜6を形成
する。さらに保護膜6の外面を外層樹脂、例えばエポキ
シ樹脂層で包んで外装を完成する。
へ0発明の効果 本発明方法によれは、内層樹脂と外層樹脂の間に透湿率
の極めて小さい保護膜を備えしめているので、この保護
膜により外部湿気の侵入は阻止されて、半導体チップは
外部湿気から十分に保護される。なお、この保護膜の形
成は、有機金塊化合物の塗布熱処理という簡単な追加工
程だけでできるので、それ程大きなコストアップになら
ず、信頼性の勝れた二層樹脂封止の半導体装置を安価に
提供できるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例方法により製造された半導体
装置の断面図である。 1・・・・・・半導体チップ、2・・・・・・リードフ
レームのアイランド、3・・・・・・外部リード、4・
・・・・・金塊細線、5・・・・・・内層樹脂、6・・
・・・・保護膜、7・・・・・・外層樹脂。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体チップと外部リードとの間を金属細線で接続し、
    前記チップをシリコン樹脂などの内層樹脂で包覆し、こ
    の内層樹脂表面に鳴後金属を塗布し、熱処理により透湿
    率の低い保護膜を形成し、さらに前記保護膜の外向を外
    層樹脂で包覆することを含む半導体装置の製造方法。
JP11420384A 1984-06-04 1984-06-04 半導体装置の製造方法 Pending JPS60257531A (ja)

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