JPS6026012A - 光学用樹脂物体 - Google Patents
光学用樹脂物体Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光学用樹脂物体に係り、さらに詳しくばチオ
エーテル基を含有する単量体を他のエチレン性不飽和酸
エステル単量体と共重合させた重合体を主成分として有
する、高屈折率を有する光学用素材及び光学用素子の光
学用樹脂物体に関する。
エーテル基を含有する単量体を他のエチレン性不飽和酸
エステル単量体と共重合させた重合体を主成分として有
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学用樹脂物体に関する。
itL来技術
レンズ、プリズム、オプティカルファイバーの如き光学
素子は、ガラスで作成されることも行なわれているが、
プラスチックから作成することも行なわれている。この
プラスチックからつくられる光学素子は、ガラス製品に
比べ軽く、その素材からの成形が容易なことから大量生
産可能であるため近年その需要が増大している。このよ
うな光学素子を作るのに用いられる樹脂は無色で透明で
あることが、Il、 1ljjである。この、1うな4
月脂としては、従来ボリスチトン摺)1]?、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂等の/I1.JT目61脂
が用いられζいる。U2かし、これらの161脂素材の
屈折率は、1.49〜1.59の範囲にあり、ガラス素
1.1の屈折率が1.4〜1.9の広い範囲で変えcユ
)れるのに比べ低く、樹脂素+1のうらで番:11し咬
的屈IrI率が高いとされるポリスチレン4M 111
1、ボリカーボ不−1+AJ Illでさえ」1記の屈
折率1.594:り大きくできない状況にある。このよ
うに1TIi I+ri IJi:率の素)]が得られ
ないと、低屈折率の素材から作られる例えばレンズは、
ガラスのような高屈折率の素1イから作られるレンズと
同じ焦点距離を持つために11肉厚をI!X < l、
なければならないということになる。光学素子の例えば
このレンズの肉厚が厚くなると、プラスチック製品のも
つ軽いと云う特色を良く生か・l−ないとともに、レン
ズによって占められる空間体積が大きくなるので光学系
の軽量化、小型化ができに<<、光学機器のコンパクト
化を図ろうとする最近の要求を満たすことができない。
素子は、ガラスで作成されることも行なわれているが、
プラスチックから作成することも行なわれている。この
プラスチックからつくられる光学素子は、ガラス製品に
比べ軽く、その素材からの成形が容易なことから大量生
産可能であるため近年その需要が増大している。このよ
うな光学素子を作るのに用いられる樹脂は無色で透明で
あることが、Il、 1ljjである。この、1うな4
月脂としては、従来ボリスチトン摺)1]?、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂等の/I1.JT目61脂
が用いられζいる。U2かし、これらの161脂素材の
屈折率は、1.49〜1.59の範囲にあり、ガラス素
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折率1.594:り大きくできない状況にある。このよ
うに1TIi I+ri IJi:率の素)]が得られ
ないと、低屈折率の素材から作られる例えばレンズは、
ガラスのような高屈折率の素1イから作られるレンズと
同じ焦点距離を持つために11肉厚をI!X < l、
なければならないということになる。光学素子の例えば
このレンズの肉厚が厚くなると、プラスチック製品のも
つ軽いと云う特色を良く生か・l−ないとともに、レン
ズによって占められる空間体積が大きくなるので光学系
の軽量化、小型化ができに<<、光学機器のコンパクト
化を図ろうとする最近の要求を満たすことができない。
そのため、この軽量化、小型化を可能に4−る樹脂素材
として屈折率が上述した1、59より大きい高屈折率を
有する樹脂の開発が望にれている。
として屈折率が上述した1、59より大きい高屈折率を
有する樹脂の開発が望にれている。
発明の目的
本発明の目的シ:1゛、従来にない高屈折率を有する′
i′li現な光学用樹脂素)イ及び光学用樹脂素子の光
学用物体を提供することにある。
i′li現な光学用樹脂素)イ及び光学用樹脂素子の光
学用物体を提供することにある。
発明の構成
本発明の−1−記目的は、下記一般式〔同で示さA)、
るl’、を量体成分2〜95市里%及び一般式(IT)
で示される中量体成分5〜98重量%を含有する重合体
を主成分として有することにより達成される。
るl’、を量体成分2〜95市里%及び一般式(IT)
で示される中量体成分5〜98重量%を含有する重合体
を主成分として有することにより達成される。
一般式(1) 一般式(IT)
1/ I
CS Ar COR4
111
00
〔式中、R1及びR3は水素原子又はメチル基を示し、
R2は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基
、ハロゲン原子、スルフィド基、スルホキシ基、スルボ
ネ−1・基、アリール基又は複素環基を示し、R4はア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基又はアルキル基、アルコキシ基若しくは複素環基で
置換されたアリール基を示し、A r 4;l:アリー
レン基を示す。〕本発明で用いられる単量体の上記一般
式におけるR2は水素原子、好ましくは炭素数が1〜2
0のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ターシャリブチル基、ヘキシル基環;アルコキ
シ基、好ましくは炭素数が1〜20のアルコキシ基、例
えばメトキシ基、エトキシ基環;アミノ基;ハロゲン原
子、例えば塩素、臭素等;スルフィド基;スルホキシネ
−1・基;スルホネ−1・基;アリール基、好ましくは
炭素数が6〜18のアリール基、例えばフェニル基;?
M素環基、好ましくは5〜7員環の複:i−環基(置換
されていても良い)、例えばピロリジル基、モルフオリ
ニル基、ピペリジル基、テトラヒドロフリル基、ジオキ
サニル基、キナルジル基、ピロリル基、イソキサゾリル
基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基
、ピラゾリニル基等であり、R4は好ましくは炭素数が
1〜20のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、ターシャリブチル基、・\キシル基環;
アリール基、好ましくは炭素数が6〜18のアリール基
、例えばフェニル基;複素環基、好ましくは5〜7員環
の複素環基(置換されていても良い)、例えばピロリジ
ル基、モルフオリニル基、ピペリジル基、テトラヒドロ
フリル基、ジオキサニル基、キナルジル基、ピロリル基
、イソキサゾリル基、イミダゾリル基、インチアゾリル
基、フラザニル基、ピラゾリニル基等であり、Arはア
リーレン基、好ましくは炭素数6〜22のアリーレン基
、例えばフェニレン基、ナフチレン基、アンスリレン基
、ペリレニレン基、アセナフテニレン基等を示す。
R2は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基
、ハロゲン原子、スルフィド基、スルホキシ基、スルボ
ネ−1・基、アリール基又は複素環基を示し、R4はア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基又はアルキル基、アルコキシ基若しくは複素環基で
置換されたアリール基を示し、A r 4;l:アリー
レン基を示す。〕本発明で用いられる単量体の上記一般
式におけるR2は水素原子、好ましくは炭素数が1〜2
0のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ターシャリブチル基、ヘキシル基環;アルコキ
シ基、好ましくは炭素数が1〜20のアルコキシ基、例
えばメトキシ基、エトキシ基環;アミノ基;ハロゲン原
子、例えば塩素、臭素等;スルフィド基;スルホキシネ
−1・基;スルホネ−1・基;アリール基、好ましくは
炭素数が6〜18のアリール基、例えばフェニル基;?
M素環基、好ましくは5〜7員環の複:i−環基(置換
されていても良い)、例えばピロリジル基、モルフオリ
ニル基、ピペリジル基、テトラヒドロフリル基、ジオキ
サニル基、キナルジル基、ピロリル基、イソキサゾリル
基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基
、ピラゾリニル基等であり、R4は好ましくは炭素数が
1〜20のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、ターシャリブチル基、・\キシル基環;
アリール基、好ましくは炭素数が6〜18のアリール基
、例えばフェニル基;複素環基、好ましくは5〜7員環
の複素環基(置換されていても良い)、例えばピロリジ
ル基、モルフオリニル基、ピペリジル基、テトラヒドロ
フリル基、ジオキサニル基、キナルジル基、ピロリル基
、イソキサゾリル基、イミダゾリル基、インチアゾリル
基、フラザニル基、ピラゾリニル基等であり、Arはア
リーレン基、好ましくは炭素数6〜22のアリーレン基
、例えばフェニレン基、ナフチレン基、アンスリレン基
、ペリレニレン基、アセナフテニレン基等を示す。
本発明における重合体に用いられる単量体のうち1−記
一般式(T)で示される単量体について好ましいものを
例示するがこれらに限られるものではない。
一般式(T)で示される単量体について好ましいものを
例示するがこれらに限られるものではない。
(1)フェニ月汗オーJトアクI月!−1・()
(2)フェニ月−f−オールメタク1月7−トl13
「
(3)4−クロルフエニ月、仁チオールアクリレ−1・
() (4)4−クロルフエニ月4−オールメタリレート(J (5)ペンタクロルフェニ月4ーオールアクリレート(
6)ベンタフ11フレフエニルチオールメタクリレート
(7)ナフチルチオールアクリレート CI,、=CH (8)ナフチルチオールメタクリレートH3 CH2=C 本発明における上記一般式C11)で示される単量体を
例示すると、メチルメタクリレート、シフ11へキシル
メタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルアク
リレート、ベンジルアクリレ− l− 、へ7 シルメ
タクリレ−1・、4−クロルベンジルアクリレ−1・、
4−クロルベンジルメタクリレ−)、4−フIJモベン
ジルアクリレ−1・、4−ブロモベンジルメタクリレー
ト、4−フェニルベンジルアクリレート、4−フェニル
ベンジルメタクリレート、4゛−メトキシ−4−フェニ
ルベンジルアクリレート4”−メトキシ−4−フェニル
ベンジルメタクリ[/−トナフチルアクリレート、ナフ
チルメタクリレート、ナフチルメチルアクリ1/−ト、 (この頁以下余白) CI−12=CH 喝 ナフチルメチルメタクリレート、 アンソラニルアクリレート、アンソラニルメタクリレー
ト、カルバジルアクリレート、 カルバジルメタクリレート、 が挙げられ、これらのうち好ましくは、ベンジルメタク
リレート、4−クロルベンジルメタクリレート、リーフ
チルメチルメタクリレートを挙げることができる。しか
しこれらに限定されるものではない。
() (4)4−クロルフエニ月4−オールメタリレート(J (5)ペンタクロルフェニ月4ーオールアクリレート(
6)ベンタフ11フレフエニルチオールメタクリレート
(7)ナフチルチオールアクリレート CI,、=CH (8)ナフチルチオールメタクリレートH3 CH2=C 本発明における上記一般式C11)で示される単量体を
例示すると、メチルメタクリレート、シフ11へキシル
メタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルアク
リレート、ベンジルアクリレ− l− 、へ7 シルメ
タクリレ−1・、4−クロルベンジルアクリレ−1・、
4−クロルベンジルメタクリレ−)、4−フIJモベン
ジルアクリレ−1・、4−ブロモベンジルメタクリレー
ト、4−フェニルベンジルアクリレート、4−フェニル
ベンジルメタクリレート、4゛−メトキシ−4−フェニ
ルベンジルアクリレート4”−メトキシ−4−フェニル
ベンジルメタクリ[/−トナフチルアクリレート、ナフ
チルメタクリレート、ナフチルメチルアクリ1/−ト、 (この頁以下余白) CI−12=CH 喝 ナフチルメチルメタクリレート、 アンソラニルアクリレート、アンソラニルメタクリレー
ト、カルバジルアクリレート、 カルバジルメタクリレート、 が挙げられ、これらのうち好ましくは、ベンジルメタク
リレート、4−クロルベンジルメタクリレート、リーフ
チルメチルメタクリレートを挙げることができる。しか
しこれらに限定されるものではない。
上記例示した一般式〔■〕、一般式(n)で示される単
量体の共重合体は、主に一般式(1)で示される単量体
により1(1屈折率が得られるようになり、一般式C1
1)で示される単量体により複屈折が低減されるととも
に成形性や機械的強度が増大する。これらのことから、
本発明における共重合体の」1記1’l量体の共重合比
は一般式(1)で示される111田体が2〜95i1i
口%、一般式(H)で示される単量体が5へ・!18i
ii[d%が適当である。一般式〔I〕の単量体の比率
が2重量%より少ないと高屈折率の共重合体が得られず
、一方95重殿%を越えて多くなると高屈折率の共重合
体は得られるが成形性が悪くなる。
量体の共重合体は、主に一般式(1)で示される単量体
により1(1屈折率が得られるようになり、一般式C1
1)で示される単量体により複屈折が低減されるととも
に成形性や機械的強度が増大する。これらのことから、
本発明における共重合体の」1記1’l量体の共重合比
は一般式(1)で示される111田体が2〜95i1i
口%、一般式(H)で示される単量体が5へ・!18i
ii[d%が適当である。一般式〔I〕の単量体の比率
が2重量%より少ないと高屈折率の共重合体が得られず
、一方95重殿%を越えて多くなると高屈折率の共重合
体は得られるが成形性が悪くなる。
本発明における11合体は」二記一般式で示される単量
体を」三成分として含有するが、この主成分とし゛ζ含
有するとは50重量%以上含有することを意味する。−
1−記一般式で示される」1記例示単量体にこの例示単
量体以外の他のエチレン系不飽和単量体を共重合させる
ことができる。
体を」三成分として含有するが、この主成分とし゛ζ含
有するとは50重量%以上含有することを意味する。−
1−記一般式で示される」1記例示単量体にこの例示単
量体以外の他のエチレン系不飽和単量体を共重合させる
ことができる。
このエチレン系不飽和単量体としては、例えばアルキル
アクリレート及びアルキルメタクリレートが挙げられ、
具体的にはメチルアクリレート、エヂルアクリレート、
プロピルアクリレート、ブチルアクリレ−1・、ベンジ
ルアクリレ−1・、ブチルメタクリレート、ジアリルフ
タレ−1・、I−リアリルシアネレート、トリアリルト
リメリテート、エチレングリコールジメタクリレート、
ブチレングリml−ルジメタクリレート及び2.2ビス
(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン
等が挙げられるが、これらに限らず次のものも用いられ
る。
アクリレート及びアルキルメタクリレートが挙げられ、
具体的にはメチルアクリレート、エヂルアクリレート、
プロピルアクリレート、ブチルアクリレ−1・、ベンジ
ルアクリレ−1・、ブチルメタクリレート、ジアリルフ
タレ−1・、I−リアリルシアネレート、トリアリルト
リメリテート、エチレングリコールジメタクリレート、
ブチレングリml−ルジメタクリレート及び2.2ビス
(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン
等が挙げられるが、これらに限らず次のものも用いられ
る。
すなわち、ビニルエステル、ビニルニトリル、ビニルケ
トン、ビニルアミド、ビニルハライド、ビニルエーテル
、オレフィン及びジオレフィン等があり、具体的にl:
1アクリロニトリル、メタクリレートリル、ビニルリ゛
フタレン、スチレン、メチルスチレン、ハI:Iゲン置
換スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、塩化ビニル、メチルビニルケトン、ツ
マリン酸エステル、マレイン酸エステル及びイタコン酸
エステル、2−クロロエチルビニルエーテル、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、N−ビニルスクシンアミ
ド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルピロリドン、
N−ビニルカルバゾール、ブタジェン及びエチレン等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
トン、ビニルアミド、ビニルハライド、ビニルエーテル
、オレフィン及びジオレフィン等があり、具体的にl:
1アクリロニトリル、メタクリレートリル、ビニルリ゛
フタレン、スチレン、メチルスチレン、ハI:Iゲン置
換スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、塩化ビニル、メチルビニルケトン、ツ
マリン酸エステル、マレイン酸エステル及びイタコン酸
エステル、2−クロロエチルビニルエーテル、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、N−ビニルスクシンアミ
ド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルピロリドン、
N−ビニルカルバゾール、ブタジェン及びエチレン等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明における重合体の合成に利用される好ましい共重
合可能trエチレン系不飽和単量体は、アクリレート、
メタクリレ−1・及び芳香族ビニル化合物であり、さら
に好ましくはスチレン、メチルスチレンである。
合可能trエチレン系不飽和単量体は、アクリレート、
メタクリレ−1・及び芳香族ビニル化合物であり、さら
に好ましくはスチレン、メチルスチレンである。
次に本発明における重合体の具体例を構造式を用いて挙
げるがこれらに限定されるものではない。
げるがこれらに限定されるものではない。
なお、数字は重量%を示ずものとする。
H9
訃
(この頁以下余白)
Cll3
■
113
113
リ O
H3
アクリレート)コポリマー
1
(8) (4−クロルフェニ月野オールメタクリレ−1
・/フェニルチオールアクリレート/ベンジ′ルアクリ
レート)スポリマーCI(3 ■ このようにして(!Jられた本発明におりる重合体は実
質的に無色透明で、その成形物の屈折率はアクリル樹脂
等の汎用4M+ Ill?の成形物に1ヒベ著しく向」
二する。
・/フェニルチオールアクリレート/ベンジ′ルアクリ
レート)スポリマーCI(3 ■ このようにして(!Jられた本発明におりる重合体は実
質的に無色透明で、その成形物の屈折率はアクリル樹脂
等の汎用4M+ Ill?の成形物に1ヒベ著しく向」
二する。
本発明におlJる重合体の重合方法は、例えば塊状重合
、懸濁重合、光重合、溶液重合、放射線重合等が例示さ
るがこれらにltb!定されるものではない。
、懸濁重合、光重合、溶液重合、放射線重合等が例示さ
るがこれらにltb!定されるものではない。
本発明の光学用素子を作成する場合の成形法は、射出成
形法、圧縮成形法W1;[射出成形法と圧縮成形法の折
中法、例えばローリンクス法、マイクロモールディング
法等−・(1樹脂を溶融あるいは半溶融状態にして成形
する方法は全て適用できる。さらには、本発明に才昌J
る重合体は注形重合法により成形し−(も良好な特1?
lを示す。
形法、圧縮成形法W1;[射出成形法と圧縮成形法の折
中法、例えばローリンクス法、マイクロモールディング
法等−・(1樹脂を溶融あるいは半溶融状態にして成形
する方法は全て適用できる。さらには、本発明に才昌J
る重合体は注形重合法により成形し−(も良好な特1?
lを示す。
本発明に才旨」る重合体からなる光学用素材から作られ
る光学用素子は、−に記のように屈折率が改善されてい
るが、光学用素子としての特性、すなわち耐熱変形性、
複屈折、曲げ強度、表面硬度等においておいても十分な
特性を有するのでこれのみでも使用できるが、さらにこ
れらの緒特性の安定のために素子表面にコーティングを
施すこともできる。
る光学用素子は、−に記のように屈折率が改善されてい
るが、光学用素子としての特性、すなわち耐熱変形性、
複屈折、曲げ強度、表面硬度等においておいても十分な
特性を有するのでこれのみでも使用できるが、さらにこ
れらの緒特性の安定のために素子表面にコーティングを
施すこともできる。
本発明の光学用素子とは、例えばスチールカメラ用、ビ
ディオカメラ用、望遠鏡用、テレビジコンブ11ジエク
ター用、ピックアップレンズ用、眼鏡用、コンタクトレ
ンズ用、太陽光集光用等のいわゆるレンズ類、ペンタプ
リズム等のプリズム類、凹面鏡、凸面鏡、ポリゴン等の
鏡類、オプティカルファイバー、光導波路等の光導性素
子類、光学方式ビディオディスク、オーディオディスク
等のディスク順環光を透過することにより機能を発揮す
る素子をいう。
ディオカメラ用、望遠鏡用、テレビジコンブ11ジエク
ター用、ピックアップレンズ用、眼鏡用、コンタクトレ
ンズ用、太陽光集光用等のいわゆるレンズ類、ペンタプ
リズム等のプリズム類、凹面鏡、凸面鏡、ポリゴン等の
鏡類、オプティカルファイバー、光導波路等の光導性素
子類、光学方式ビディオディスク、オーディオディスク
等のディスク順環光を透過することにより機能を発揮す
る素子をいう。
発明の詳細
な説明したように、本発明によれば、」二記一般式で示
される単量体を主成分として含有する重合体を合成し、
これから光学用素材及び光学用素子の光学用樹脂物体を
作成することにより、屈折率を従来の光学用樹脂から作
成される光学用樹脂物体よりも一段と高めることができ
る。このため、例えばレンズの肉II−を従来の)^1
脂からなるI/ンズより薄くしても、あるいは1/ンズ
の湾曲を少なくしても同じ焦点距11h11にすること
ができるので、それだけ光学(揚器に1ノンズを組み込
むときのその占有体積を少なくできる。ごれにより光学
機器の限られた空間に設(」られる光学系のレンズの数
及びその配置の選択範囲をおおいに拡大でき、光学機器
の軽磨化及び小型化を−kj (Ii7進できる。
される単量体を主成分として含有する重合体を合成し、
これから光学用素材及び光学用素子の光学用樹脂物体を
作成することにより、屈折率を従来の光学用樹脂から作
成される光学用樹脂物体よりも一段と高めることができ
る。このため、例えばレンズの肉II−を従来の)^1
脂からなるI/ンズより薄くしても、あるいは1/ンズ
の湾曲を少なくしても同じ焦点距11h11にすること
ができるので、それだけ光学(揚器に1ノンズを組み込
むときのその占有体積を少なくできる。ごれにより光学
機器の限られた空間に設(」られる光学系のレンズの数
及びその配置の選択範囲をおおいに拡大でき、光学機器
の軽磨化及び小型化を−kj (Ii7進できる。
また、例えばレンズの肉厚を薄くできる結果その素材の
晴を少なくできるので、コストの低減にも寄1j−する
ことができる。
晴を少なくできるので、コストの低減にも寄1j−する
ことができる。
実施例
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明
し1これらに限定されるものでない。
し1これらに限定されるものでない。
実施例1〜2
−に記一般式(1)で示される単量体の−1−記例示(
2)の中I体及びヘンシルメタクリレ−1−を表1に示
す配合にしたがって全体が100gになるように此処し
、これにラウド1イルパーオキサイド0.1gを加え溶
解して屯量体配合液を調製し、これを減圧可能な容器に
入れる。
2)の中I体及びヘンシルメタクリレ−1−を表1に示
す配合にしたがって全体が100gになるように此処し
、これにラウド1イルパーオキサイド0.1gを加え溶
解して屯量体配合液を調製し、これを減圧可能な容器に
入れる。
これとは別に、大きさが100 龍X 150 vsm
、厚さが〔51喝の2枚のガラス板の外周縁辺を柔軟性
のある塩化ビニル製ガスケットで張りめぐらし、2枚の
ガラス板の距離が3.O1■になるようにしてセルをi
l+立る。
、厚さが〔51喝の2枚のガラス板の外周縁辺を柔軟性
のある塩化ビニル製ガスケットで張りめぐらし、2枚の
ガラス板の距離が3.O1■になるようにしてセルをi
l+立る。
つぎに上記中殿体配合液を3(ltorrの減圧下で攪
1′42を続しJながら2分間脱気を行ない、それから
常l「にもどした後直ちに上記準備したガラスセルに注
入し満たず。
1′42を続しJながら2分間脱気を行ない、それから
常l「にもどした後直ちに上記準備したガラスセルに注
入し満たず。
ついで、65〜70℃に設定した恒温槽に10時間保゛
シ)、その1&105〜110℃に設定した熱風循環オ
ーブンで3時間保持する。それから室温で放冷した後に
ガラス板を除去し、シート状樹脂物体を得た。
シ)、その1&105〜110℃に設定した熱風循環オ
ーブンで3時間保持する。それから室温で放冷した後に
ガラス板を除去し、シート状樹脂物体を得た。
この樹脂物体の屈折率rlQ 及びアツベ数νD を測
定した結果は表1に示す通りである。ここで、屈折率及
びアツベ数の測定はアツベ屈折計(NAR−3)を 用
い4行った。
定した結果は表1に示す通りである。ここで、屈折率及
びアツベ数の測定はアツベ屈折計(NAR−3)を 用
い4行った。
(以下この頁余白)
表 1
実施例3〜4
上記一般式〔1〕で示される単量体のJ―記例示(3)
のfli 量体及びベンジルメタクリレ−1・等用いた
1リク)ば実施例1〜2と同様にして重合を行ないシー
1状樹脂物体を(i−だ。これについても実施例1〜2
と同様に屈折率とTノベ潰を測定した結果を表2に示す
。
のfli 量体及びベンジルメタクリレ−1・等用いた
1リク)ば実施例1〜2と同様にして重合を行ないシー
1状樹脂物体を(i−だ。これについても実施例1〜2
と同様に屈折率とTノベ潰を測定した結果を表2に示す
。
表 2
実施例5
−1−記一般式(1)で示される単量体の上記例示(7
)の単量体、ナフチルメチルメタクリレート及び2.2
ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロ
パンを下記配合で用いた以外は実施例1〜2と同様にし
て重合を行ないシート状樹脂物体を得た。これについて
も実施例1〜2と同様に評1面しこれを表3に示す。
)の単量体、ナフチルメチルメタクリレート及び2.2
ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロ
パンを下記配合で用いた以外は実施例1〜2と同様にし
て重合を行ないシート状樹脂物体を得た。これについて
も実施例1〜2と同様に評1面しこれを表3に示す。
例示(7)のl′【量体 45重量%
ナフチルメチルメタクリレ−1・50重量%22ビス(
4−メタクリロキシ ポリエトキシフェニル)プロパン 5重量%表 3 昭和58年07月25日
4−メタクリロキシ ポリエトキシフェニル)プロパン 5重量%表 3 昭和58年07月25日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1,1下記一般式(1)で示される単量体成分2〜9
5重W%及び一般式(II)で示される単財体成分5〜
98m1限%を含有するffi合体を主成分として有す
ることを特徴とする光学用樹脂物体。 一般式(1) 一般式rl) 〔式中、R1及びI? 9は水素原子又はメチル基を示
し、R24;I水素原子、アルキル基、アルコキシ基、
アミノ基、ハI−1ゲン原子、スルフィ1゛基、スルホ
キシ基、スルホホー1−基、アリール基又は複素環基を
示し、R4はアルキル基、シクロアルギル基、アリール
基、アルアルキル基又はアルキル基、アル:+ 4sシ
基若しクシ」複素環基で置換されたアリール基を示し、
Arはアリーレン基を示す。〕(2)成形された光学用
素子であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の光学用樹脂物体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13442383A JPS6026012A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 光学用樹脂物体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13442383A JPS6026012A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 光学用樹脂物体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6026012A true JPS6026012A (ja) | 1985-02-08 |
Family
ID=15128033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13442383A Pending JPS6026012A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | 光学用樹脂物体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026012A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7229741B2 (en) * | 2002-05-29 | 2007-06-12 | Inphase Technologies, Inc. | Exceptional high reflective index photoactive compound for optical applications |
| US7282322B2 (en) * | 2002-05-29 | 2007-10-16 | Songvit Setthachayanon | Long-term high temperature and humidity stable holographic optical data storage media compositions with exceptional high dynamic range |
| US7294659B2 (en) * | 2003-04-07 | 2007-11-13 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink composition |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP13442383A patent/JPS6026012A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7229741B2 (en) * | 2002-05-29 | 2007-06-12 | Inphase Technologies, Inc. | Exceptional high reflective index photoactive compound for optical applications |
| US7282322B2 (en) * | 2002-05-29 | 2007-10-16 | Songvit Setthachayanon | Long-term high temperature and humidity stable holographic optical data storage media compositions with exceptional high dynamic range |
| US7294659B2 (en) * | 2003-04-07 | 2007-11-13 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink composition |
| US7981947B2 (en) | 2003-04-07 | 2011-07-19 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink composition and method of manufacturing the same |
| US8110617B2 (en) | 2003-04-07 | 2012-02-07 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink composition and method of manufacturing the same |
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