JPS6027510A - ペレツタイジング方法 - Google Patents

ペレツタイジング方法

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Publication number
JPS6027510A
JPS6027510A JP58137124A JP13712483A JPS6027510A JP S6027510 A JPS6027510 A JP S6027510A JP 58137124 A JP58137124 A JP 58137124A JP 13712483 A JP13712483 A JP 13712483A JP S6027510 A JPS6027510 A JP S6027510A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
semiconductor
adhesive sheet
divided
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58137124A
Other languages
English (en)
Inventor
河合 芳秋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP58137124A priority Critical patent/JPS6027510A/ja
Publication of JPS6027510A publication Critical patent/JPS6027510A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は複数の半導体素子を形成した半導体ウェハを個
々の半導体ベレットに分離するベレタイジング方法に関
する。
背景技術 半導体ウェハを分離して複数の半導体ベレ9.トヲtG
 ルペレタイジング法として、半導体ウェハを粘’ft
rソートに貼付し、ダイシング又はヌクワイピングによ
り半導体ウェハの表面に分割溝を形成し、ローラ等によ
って半導体ウェハを分割溝部分から押し割る等の手段に
より半導体ベレットに分割し、粘着シートを展延して各
半導体ベレ、1−間を分離する方法が知られている。
これを第1図乃至第8図から説明する。先ず、第1図に
示すように複数の半導体素子(図示せず)が形成された
半導体ウェハ1を粘着シート2に貼イス]ける。そして
第2図に示すように半導体ウェハlの表面の半導体素子
境界部分にダイザ3により分割溝4を形成する。さらに
第3図に示すように半導体ウェハlにロー″y5を押し
当て、溝4部分から半導体ウェハ1を個々の半導体ベレ
J1・6に分割する。そして分割された個々の半導体ベ
レ。
1−6の取り出しを容易にするため粘着シーI・2を放
射状に引き延し各半導体ベレット6を分離しベレノタイ
ジングを完了する。
ここで第2図工程でダイサ3で半導体ウェハ]を完全カ
ットすれば第3図工程のローラ5に」:る押し割り作業
は不要である。
この方法は簡単かつ確実であるが、ウェハlの種類によ
っては不適当で為った。即ち、第4図に示すように画面
にバンブ電極6.6を形成した半導体ウェハ1′では、
これを粘着シートに貼着しても接着面がバンブ電極6の
一部だけであるため接着力が弱く、ダイサで切断する際
に完全力・ノドできず、またローラで押し割る際にも半
導体ウェハの支持が不安定となり複数の半導体素子が/
ブロックとなって分割され、これを個々の半導体ベレッ
トに分割しようとすれば分割溝から外れた部分にクラッ
クを生じ半導体ペレットを破損する等の問題があった。
発明の開示 本発明は上記問題点に鑑み提案されたもので両面にバン
ブ電極が形成された半導体ウェハでも良好ナペレタイジ
ングができる方法を提供する。
本発明は表面にダイシング又はスクライビングにより分
割/、l、7を形成した半導体ウェハを回転槽内に固定
し、回転槽を回転させることにより生じる遠心力にて半
導体ウェハを個々のペレ71’に分割するようにしたこ
とを特徴とする。
本発明によれば、粘着シートに71シて密着性の劣る半
導体ウェハでも簡単かつ確実にペレクイシングできる。
発明を実施するだめの最良の形態 以下に、本発明の一実施例を第5図乃〒第7図から説明
する。図において7は半導体ウェハで二1′導体素子(
図示せず)に71応じて表裏面にバンブ電極8.8が形
成され、粘着シー1−9の粘着面9aに貼着されている
(第5図)。次に第6図に示すようにダイサlOを用い
半導体ウェハ7の表面に分割溝11を形成する。分割〃
411は半導体ウェハ7を完全カフ1−シない深さに形
成される。そしてこの粘着シー1−9を第7図に示す回
転槽12内に固定する。この回転槽12は有底筒状で軸
を中心にして回転自在で、内周面に粘着シート9の固定
部13を形成している。固定部13は第8図に示すよう
に四球面状に形成された四部1d(lの周縁に粘着シー
1−9を固定する平坦部1.3 bを形成している・第
9図は粘着シート9の固定状態を示すもので、半導体ウ
ェハ7の表面を他の可撓性シート14で覆った粘着シー
ト9を、その裏面を槽中1しに向は周囲を平坦部18b
に抑圧体15で押圧して固定している。この状態で回転
槽12を回転させる。回転数を徐々に上昇させると半導
体ウェハ7にかかる遠心力も徐々に増加して、半導体ウ
ェハ7を外方に撓ませ、さらに回転数を上昇させると、
半導体ウェハ7は分割ffl;txから割れて第10図
に示すように四部1812に沿って押し付けられる。四
部13aの曲事中心を回転槽12の中心と一致させると
、凹部13a」ニのウエノ\全面に作用する遠心力は均
一となり分割されたベレノ1−が乱散することが防止さ
れる・ 凹部1g1zに半導体ウェハ7の分割溝11を対向させ
て固定すると、分割後ベレノt’同志が周r隔するため
不所望なりラックが防止され欠片の発生が防止される。
このように本発明によれば、両面にバンブ電極8.8を
形成し粘着シート9に列する接着面積が小さくて接着力
の弱い半導体ウニ/Sの場合でも、半導体ウェハ自体を
変形させることができ、不要なりう・ツクを生じること
なく完全に分割することができる。
尚、本発明は上記実施例にのみ限定されるものではなく
、例えば半導体ウェハは両面にバンブ電極を有するもの
だけで々く、片面にバンブ電極を有するものでもよいし
、バンブ電極のないものでもよい。1だ粘着シート9や
可撓性シー1−14は必ずしも必要ではなく、方向1生
を無視し得る例えばトリガ素子舌では半導体ウェハl′
l、独で回転槽12に装着してもよく、この場合、凹部
1311+下方に容器を配置しておくことにより、回転
槽12の回転を停止後、分用された?1パ導体ベレ、1
−を容器に回収することができる。また第11図に示す
ように、半導体ウェハ7の分割を助長する抑圧体16を
弾性部材17を介し回転槽12の直径方向に移動可能に
配置して半導体ウェハ7を強制的に分割するようにして
もよいし、凹部13aに開口する吸気孔を設け、真空吸
着により可撓性シー1−の変刀ネを助長させてもよい。
また凹部13a周縁形状を方形とすることにより、半導
体ウェハ7の周縁部の不定形素子部分を分割せずに残す
こともできる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は半導体ウェハのベレタイジング法の
一例を示す側断面図、第4図は両面パン1屯(i7+を
イ〕する半導体素子を示す側断面図、第5図乃至第10
図は本発明によるベレタイジング法を示す側断面図、第
11図は回転槽の変形例を示す平断面図である。 7 ・・・・ 半導体ウェハ、 9・・・−可撓性シー1−1 11・・・・分割溝、 12・・・ 回転槽。 し゛之j 第 8 図 第]O図( 第11図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導表面にダイシング又はヌクライビングにより分割溝
    を形成した半導体ウェハを回転槽内に固定し、回転槽を
    回転させることにより生じる遠心力にて半導体ウェハを
    個々のペレットに分割するようにしたことを特徴とする
    ベレクイジング方法。
JP58137124A 1983-07-27 1983-07-27 ペレツタイジング方法 Pending JPS6027510A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58137124A JPS6027510A (ja) 1983-07-27 1983-07-27 ペレツタイジング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58137124A JPS6027510A (ja) 1983-07-27 1983-07-27 ペレツタイジング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6027510A true JPS6027510A (ja) 1985-02-12

Family

ID=15191374

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58137124A Pending JPS6027510A (ja) 1983-07-27 1983-07-27 ペレツタイジング方法

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JP (1) JPS6027510A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012182342A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Fuji Electric Co Ltd 半導体基板のエキスパンド装置およびエキスパンド処理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012182342A (ja) * 2011-03-02 2012-09-20 Fuji Electric Co Ltd 半導体基板のエキスパンド装置およびエキスパンド処理方法

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