JPS6029212B2 - 半導体磁器コンデンサの製造方法 - Google Patents
半導体磁器コンデンサの製造方法Info
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- JPS6029212B2 JPS6029212B2 JP50113315A JP11331575A JPS6029212B2 JP S6029212 B2 JPS6029212 B2 JP S6029212B2 JP 50113315 A JP50113315 A JP 50113315A JP 11331575 A JP11331575 A JP 11331575A JP S6029212 B2 JPS6029212 B2 JP S6029212B2
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Landscapes
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- Conductive Materials (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体磁器コンデンサの製造方法にかかり、大
容量、低損失にして特に静電容量の温度変化率が広い温
度範囲にわたって小さく、かつその抵抗値の大きな半導
体磁器コンデンサを製造することのできる方法を提供し
ようとするものである。
容量、低損失にして特に静電容量の温度変化率が広い温
度範囲にわたって小さく、かつその抵抗値の大きな半導
体磁器コンデンサを製造することのできる方法を提供し
ようとするものである。
従来から磁器コンデンサには、母Tj03系磁器または
SrTi03系磁器が使用されている。
SrTi03系磁器が使用されている。
これらの磁器は誘電率が大きく、かつ絶縁性の高いもの
である。かかる磁器をコンデンサに使用する場合、その
容量は磁器の譲露率の大小に依存するものであり、たと
えば磁器素子の厚さや、その銀電極付与面の面積を加減
することによって、多少容量を制御することができるも
のである。本発明における半導体磁器コンデンサは、上
記のように磁器素子が絶縁物であるものとは異なり、比
較的、その比抵抗の低い半導体磁器素子を使用している
。
である。かかる磁器をコンデンサに使用する場合、その
容量は磁器の譲露率の大小に依存するものであり、たと
えば磁器素子の厚さや、その銀電極付与面の面積を加減
することによって、多少容量を制御することができるも
のである。本発明における半導体磁器コンデンサは、上
記のように磁器素子が絶縁物であるものとは異なり、比
較的、その比抵抗の低い半導体磁器素子を使用している
。
半導体磁器コンデンサを一言でいうと、半導体磁器の通
常の外表面、または内表面にある粒界に、容量比の絶縁
層をを形成させてなるものである。このような半導体磁
器コンデンサにおいて、前者は表面層型とよばれ、後者
は粒界層型といわれている。
常の外表面、または内表面にある粒界に、容量比の絶縁
層をを形成させてなるものである。このような半導体磁
器コンデンサにおいて、前者は表面層型とよばれ、後者
は粒界層型といわれている。
これまで知られている半導体磁器コンデンサの種類は多
いが、それらは上記のふたつのタイプのいずれかにほと
んど分類される。表面層型半導体磁器コソデンサは、そ
の磁器素子の表面に薄い絶縁層を形成し、それによる容
量を利用したものである。
いが、それらは上記のふたつのタイプのいずれかにほと
んど分類される。表面層型半導体磁器コソデンサは、そ
の磁器素子の表面に薄い絶縁層を形成し、それによる容
量を利用したものである。
構造的には磁器素子の厚みのほとんどは導電体で占めら
れており、表面の薄い層が誘電体として働くものである
ため、低電圧用で大容量のコンデンサを得ることができ
る。一方、粒界層型半導体磁器コンデンサは、半導体磁
器素子の表面に、それを絶縁物化する働きのある金属、
たとえばCuまたはMnの酸化物を塗布し、熱処理する
ことによって、結晶粒界層を絶縁物化してなるものであ
る。このような粒界層を誘電体化しているため、耐圧が
優れ、高電圧用に適した抵抗値と容量を得ることができ
る。絶縁層を半導体磁器素子の表面、または結晶の粒界
のいずれかに主として生成するかは、素子中への酸素の
拡散や不純物の局在に微妙に影響される。
れており、表面の薄い層が誘電体として働くものである
ため、低電圧用で大容量のコンデンサを得ることができ
る。一方、粒界層型半導体磁器コンデンサは、半導体磁
器素子の表面に、それを絶縁物化する働きのある金属、
たとえばCuまたはMnの酸化物を塗布し、熱処理する
ことによって、結晶粒界層を絶縁物化してなるものであ
る。このような粒界層を誘電体化しているため、耐圧が
優れ、高電圧用に適した抵抗値と容量を得ることができ
る。絶縁層を半導体磁器素子の表面、または結晶の粒界
のいずれかに主として生成するかは、素子中への酸素の
拡散や不純物の局在に微妙に影響される。
またコンデンサとして半導体磁器を利用する場合、その
特性は半導体磁器を構成する組成物、さらにはその副成
分によっても大きく左右される。粒界型半導体磁器コン
デンサの磁器素子として従来より使用されているものに
、BaTi03にSr,Bi,ZrあるいはSnなどの
酸化物を固港させたものがある。
特性は半導体磁器を構成する組成物、さらにはその副成
分によっても大きく左右される。粒界型半導体磁器コン
デンサの磁器素子として従来より使用されているものに
、BaTi03にSr,Bi,ZrあるいはSnなどの
酸化物を固港させたものがある。
これはみかけ上、実効誘電率が40000〜70000
と大きいけれども、容量温度変化率が大きく、20oo
を基準とし、一25q○から8500の温度範内におい
て最大変化率が±50%前後である。そして謙霞体損失
(tan8)も0.0g星度と大きい。またSrTi0
3にDy,Ce,Mn,Ta,W,Nb,Siあるいは
Biなどの酸化物を添加したもの、さらにはSrTj0
3の一部をCaTi03で置換したものからなる半導体
磁器を使用したものがある。このSrTi03系半導体
磁器は、上記母Ti03系のものに比べて、容量温度変
化率が±15%程度と著しく小さくなり、またその誘電
体損失(ねn6)も0.007〜0.03と小さいもの
も得られている。しかしながら、焼縞に要する温度が1
400oo以上と高いため一股的でない。本発明は上記
のような欠点を除去した磁器コンデンサを製造すること
ができるもので、得られるコンデンサは粒界層型半導体
磁器コンデンサであり、見鶏実効誘電率が大きいこと、
誘電体損失が小さいこと、特に静電容量の温度変化率が
広い温度範囲にわたって著しく小さいこと、および絶縁
抵抗が高いことといった特長をもつものである。
と大きいけれども、容量温度変化率が大きく、20oo
を基準とし、一25q○から8500の温度範内におい
て最大変化率が±50%前後である。そして謙霞体損失
(tan8)も0.0g星度と大きい。またSrTi0
3にDy,Ce,Mn,Ta,W,Nb,Siあるいは
Biなどの酸化物を添加したもの、さらにはSrTj0
3の一部をCaTi03で置換したものからなる半導体
磁器を使用したものがある。このSrTi03系半導体
磁器は、上記母Ti03系のものに比べて、容量温度変
化率が±15%程度と著しく小さくなり、またその誘電
体損失(ねn6)も0.007〜0.03と小さいもの
も得られている。しかしながら、焼縞に要する温度が1
400oo以上と高いため一股的でない。本発明は上記
のような欠点を除去した磁器コンデンサを製造すること
ができるもので、得られるコンデンサは粒界層型半導体
磁器コンデンサであり、見鶏実効誘電率が大きいこと、
誘電体損失が小さいこと、特に静電容量の温度変化率が
広い温度範囲にわたって著しく小さいこと、および絶縁
抵抗が高いことといった特長をもつものである。
本発明の方法を特徴とするところは、Ti02成分が5
0.08〜53モル%、Sの成分が32.9〜37モル
%、Ca○成分が9〜17モル%、およびBi03成分
が0.02〜1モル%からなる主成分10の重量部に対
して、Sb,NbおよびTaのうち少なくとも1種の酸
化物、塩化物、又は金属を金属で換算した値で0.02
〜1.99重量部添加した組成物を、中性または還元性
の雰囲気中で燐結して、半導体磁器とすることにある。
さらにまた、半導体磁器の粒界層を絶縁物化することに
ある。さらにまたそれに山,CuおよびCuのうちの少
なくとも1種、もしくはそれを主体とする合金、または
Pb−Sn合金を用いて、漆射法により、金属電極を形
成することにある。この方法によれば、成分の割合を変
化させることにより、見鱗譲軍率の大きさや容量温度変
化率を自由に選定することができるものであり、その製
造も容易である。
0.08〜53モル%、Sの成分が32.9〜37モル
%、Ca○成分が9〜17モル%、およびBi03成分
が0.02〜1モル%からなる主成分10の重量部に対
して、Sb,NbおよびTaのうち少なくとも1種の酸
化物、塩化物、又は金属を金属で換算した値で0.02
〜1.99重量部添加した組成物を、中性または還元性
の雰囲気中で燐結して、半導体磁器とすることにある。
さらにまた、半導体磁器の粒界層を絶縁物化することに
ある。さらにまたそれに山,CuおよびCuのうちの少
なくとも1種、もしくはそれを主体とする合金、または
Pb−Sn合金を用いて、漆射法により、金属電極を形
成することにある。この方法によれば、成分の割合を変
化させることにより、見鱗譲軍率の大きさや容量温度変
化率を自由に選定することができるものであり、その製
造も容易である。
ざらに焼結して得た磁器素子は、はんだ付けにより容易
にリード線を接続することができるものである。ここで
半導体磁器の組成を定めた理由について述べる。
にリード線を接続することができるものである。ここで
半導体磁器の組成を定めた理由について述べる。
主成分において、Ti02成分が多くなると譲露率が減
少し、誘電体損失と容量温度変化率が大きくなり、かつ
磁器素体が粗くなる。また、その量が少なくなると誘電
体損失が大きくなり、容量温度変化率も大きくなる。こ
のため、その組成比率は主成分において50.08〜5
3モル%の範囲内であることが望ましい。Sの成分が多
くなると誘電率や誘電体損失、容量温度変化率、絶縁抵
抗が悪くなる。
少し、誘電体損失と容量温度変化率が大きくなり、かつ
磁器素体が粗くなる。また、その量が少なくなると誘電
体損失が大きくなり、容量温度変化率も大きくなる。こ
のため、その組成比率は主成分において50.08〜5
3モル%の範囲内であることが望ましい。Sの成分が多
くなると誘電率や誘電体損失、容量温度変化率、絶縁抵
抗が悪くなる。
逆にその量が少なくなると、磁器が半導体化し‘こくく
なるとともに、誘電体損失や容量温度変化率が悪化する
。このため、Sの成分は主成分において32.9〜37
モル%の範囲内にあることが望ましい。Ca○成分が多
くなると、半導体化が困難になるとともに、譲雷率も悪
化する。またそれが少なくなると、容量温度変化率を向
上させるいう効果に乏しくなる。このため、Ca○成分
は、主成分において、9〜17モル%の範囲内であるこ
とが望ましい。Bi203成分が多くなると、見掛議電
率が大きくなるものの、繊密な磁器素体を焼結すること
が困難になり、また誘電体損失も悪化する。
なるとともに、誘電体損失や容量温度変化率が悪化する
。このため、Sの成分は主成分において32.9〜37
モル%の範囲内にあることが望ましい。Ca○成分が多
くなると、半導体化が困難になるとともに、譲雷率も悪
化する。またそれが少なくなると、容量温度変化率を向
上させるいう効果に乏しくなる。このため、Ca○成分
は、主成分において、9〜17モル%の範囲内であるこ
とが望ましい。Bi203成分が多くなると、見掛議電
率が大きくなるものの、繊密な磁器素体を焼結すること
が困難になり、また誘電体損失も悪化する。
それが少なくなると、譲霞率や容量温度変化率、絶縁抵
抗が悪化する。このため、Bi203成分は、主成分に
おいて、0.02〜1モル%の範囲内であることが望ま
しい。副成分であるSbやNb,Taといった成分は、
磁器の半導体化に効果のあるものである。
抗が悪化する。このため、Bi203成分は、主成分に
おいて、0.02〜1モル%の範囲内であることが望ま
しい。副成分であるSbやNb,Taといった成分は、
磁器の半導体化に効果のあるものである。
これら成分は金属単体で添加しても、あるいは酸化物も
しくは焼成過程で酸化物になるような化合物の形で添加
してもよい。ところが、それが多すぎると、誘電率が低
下し、また譲霞体損失も悪くなる。そして、それが少な
くなると誘電率が4・さくなり、磁器素体の比抵抗が著
しく不安定になって、その再現性が乏しくなる。このた
め、上記成分の合計量は、上記組成の主成分100重量
部に対して、0.02〜2.5重量部の範囲内にあるこ
とが望ましい。さらに、本発明において、焼成雰囲気を
中性または還元性としているのは、磁器の比抵抗を低下
させ、かつその後に粒界に絶縁物を生成させる過程で、
結晶粒子そのものが絶縁物化することを防止し、半導体
化するためにも必要である。
しくは焼成過程で酸化物になるような化合物の形で添加
してもよい。ところが、それが多すぎると、誘電率が低
下し、また譲霞体損失も悪くなる。そして、それが少な
くなると誘電率が4・さくなり、磁器素体の比抵抗が著
しく不安定になって、その再現性が乏しくなる。このた
め、上記成分の合計量は、上記組成の主成分100重量
部に対して、0.02〜2.5重量部の範囲内にあるこ
とが望ましい。さらに、本発明において、焼成雰囲気を
中性または還元性としているのは、磁器の比抵抗を低下
させ、かつその後に粒界に絶縁物を生成させる過程で、
結晶粒子そのものが絶縁物化することを防止し、半導体
化するためにも必要である。
さらに、副成分として金属を使用した場合、金属粉末に
よる爆発性を抑制し、爆発事故を防止するためにも有効
である。なお粒界に形成される絶縁物層の比抵抗値は1
070一肌以上であることが好ましい。次に本発明の方
法について、実施例にもとづいて説明する。
よる爆発性を抑制し、爆発事故を防止するためにも有効
である。なお粒界に形成される絶縁物層の比抵抗値は1
070一肌以上であることが好ましい。次に本発明の方
法について、実施例にもとづいて説明する。
〔実施例 1〕
まず、純度98%以上の工業用原料のTi02とSrC
03,CaC03,Bj203を準備し、さらに副成分
として高純度のSb,Nb,Ta,あるいはその酸化物
もしくは塩化物を準備した。
03,CaC03,Bj203を準備し、さらに副成分
として高純度のSb,Nb,Ta,あるいはその酸化物
もしくは塩化物を準備した。
これらを第1表に示した組成比率になるよう調合し、こ
れをウレタン内張ポットミルに入れ、ウレタンボールを
用いて湿式混合してから、混合物の水分を蒸発させた。
そして、これを約700kg/地の圧力で直径15側、
厚さ0.8肌の円板状に成型した。この成型体を中性ま
たは還元性の雰囲気中で、1300〜1400℃、2時
間保持して焼成した。中性雰囲気としては窒素ガスまた
はアルゴンガスを、還元性雰囲気としては水素ガスをそ
れぞれ使用した。無論、中性雰囲気とするために、窒素
ガスやアルゴンガス以外の不活性ガスを使用してもよい
。なお焼成はアルミナ燃焼管中で、SIC発熱体を使用
して実施した。得られた半導体磁器素子の表面に、Cu
20,Bi203,Pは04およびMn02などのうち
少なくとも一種を拡散物質として0.5〜3雌塗布し、
大気中において1100〜130000で熱処理し、拡
散させた。
れをウレタン内張ポットミルに入れ、ウレタンボールを
用いて湿式混合してから、混合物の水分を蒸発させた。
そして、これを約700kg/地の圧力で直径15側、
厚さ0.8肌の円板状に成型した。この成型体を中性ま
たは還元性の雰囲気中で、1300〜1400℃、2時
間保持して焼成した。中性雰囲気としては窒素ガスまた
はアルゴンガスを、還元性雰囲気としては水素ガスをそ
れぞれ使用した。無論、中性雰囲気とするために、窒素
ガスやアルゴンガス以外の不活性ガスを使用してもよい
。なお焼成はアルミナ燃焼管中で、SIC発熱体を使用
して実施した。得られた半導体磁器素子の表面に、Cu
20,Bi203,Pは04およびMn02などのうち
少なくとも一種を拡散物質として0.5〜3雌塗布し、
大気中において1100〜130000で熱処理し、拡
散させた。
このようにして得た磁器素体をX線マイクロアナラィザ
で調べ、粒界に拡散物質のイオンが存在していることを
確認した。さらに、半導体磁器素子の両面に銀ペースト
を焼き付けてAg電極を形成した。
で調べ、粒界に拡散物質のイオンが存在していることを
確認した。さらに、半導体磁器素子の両面に銀ペースト
を焼き付けてAg電極を形成した。
比較のため、磁器素体を空気中で焼成した(試料28)
。第1表 第1表(続き) キ 比較例 上記各試料について、その電気的特性を調べた。
。第1表 第1表(続き) キ 比較例 上記各試料について、その電気的特性を調べた。
その結果を第2表に示す。この表において、誘電率(ご
)と誘電体損失(tan6)は、温度20℃において、
IKHZの周波数で測定した値である。また容量温度変
化率は議電率どの温度変化率、すなわち2000を基準
とし、一25qCと85o0のときの値の変化率で評価
した。
)と誘電体損失(tan6)は、温度20℃において、
IKHZの周波数で測定した値である。また容量温度変
化率は議電率どの温度変化率、すなわち2000を基準
とし、一25qCと85o0のときの値の変化率で評価
した。
さらにまた、絶縁抵抗は印加電圧を50Vの直流電圧と
して測定したときの値である。第2表 上表の試料1〜9は主成分のみの組成比率を変化させた
もので、これらから明らかなように、主成分が本発明の
範囲内の試料2〜7は、誘電特性と容量温度変化率、絶
縁抵抗において、比較用試料1,8,9に比べて優れて
いる。
して測定したときの値である。第2表 上表の試料1〜9は主成分のみの組成比率を変化させた
もので、これらから明らかなように、主成分が本発明の
範囲内の試料2〜7は、誘電特性と容量温度変化率、絶
縁抵抗において、比較用試料1,8,9に比べて優れて
いる。
特に試料5は全般的に特性の優れたものであり、コンデ
ンサとしてきわめて優れた特性をもつものである。試料
10〜25は副成分の添加量のみを変化させたものであ
り、これらから誘電体損失と絶縁抵抗が本発明の範囲内
の試料11〜22についてはきわめて良好なものである
。そして、副成分の添加時の形態は、金属単体であって
も、その他の化合物であっても、焼成において酸化物と
なり得るものであればよく、またその組合わせも、本発
明の範囲内であれば、十分優れたものであることがわか
る。また、試料26〜28は焼成雰囲気が特性に及ぼす
影響を示すもので、空気中において焼成した試料28は
譲露率および容量温度変化率のいずれもきわめて悪いも
のである。これから、焼成雰囲気は中性または還元性で
あることが必要である。〔実施例 2〕 主成分においてTi02が51.2モル%、Sの成分が
33.6モル%、Ca○成分が14.4モル%、Bj2
03分が0.8モル%となるよう、また主成分10の重
量部に対して、NQ05成分が0.1重量部、Ta20
5成分が0.1重量部、SQ03分が0.2重量部とな
るよう、原料を配合し、実施例1と同じ手順で半導体磁
器素子を作製した。
ンサとしてきわめて優れた特性をもつものである。試料
10〜25は副成分の添加量のみを変化させたものであ
り、これらから誘電体損失と絶縁抵抗が本発明の範囲内
の試料11〜22についてはきわめて良好なものである
。そして、副成分の添加時の形態は、金属単体であって
も、その他の化合物であっても、焼成において酸化物と
なり得るものであればよく、またその組合わせも、本発
明の範囲内であれば、十分優れたものであることがわか
る。また、試料26〜28は焼成雰囲気が特性に及ぼす
影響を示すもので、空気中において焼成した試料28は
譲露率および容量温度変化率のいずれもきわめて悪いも
のである。これから、焼成雰囲気は中性または還元性で
あることが必要である。〔実施例 2〕 主成分においてTi02が51.2モル%、Sの成分が
33.6モル%、Ca○成分が14.4モル%、Bj2
03分が0.8モル%となるよう、また主成分10の重
量部に対して、NQ05成分が0.1重量部、Ta20
5成分が0.1重量部、SQ03分が0.2重量部とな
るよう、原料を配合し、実施例1と同じ手順で半導体磁
器素子を作製した。
なお、焼成雰囲気には窒素ガスを使用した。得られた半
導体磁器素子に溶射法によって電極付けをした。なおN
電極については、さらにその上にはんだづけの可能なC
uを溶射した。このようにして作製した半導体磁器コン
デンサについて、実施例1と同じ条件で特性の測定をし
た。その結果を第3表に示す。第3表 ※1)AI−0r合金は、AIが80原子協、0rか2
0原子※の合金であるo※2)Pb−Sn合金は、Pb
が30原子努、Snが70原子劣の合金である。
導体磁器素子に溶射法によって電極付けをした。なおN
電極については、さらにその上にはんだづけの可能なC
uを溶射した。このようにして作製した半導体磁器コン
デンサについて、実施例1と同じ条件で特性の測定をし
た。その結果を第3表に示す。第3表 ※1)AI−0r合金は、AIが80原子協、0rか2
0原子※の合金であるo※2)Pb−Sn合金は、Pb
が30原子努、Snが70原子劣の合金である。
試料29〜34は電極の形成方法の差違と磁器コンデン
サとしての特性との関係を示しているものである。これ
からAg焼付電極であっても十分優れた特性を得ること
ができるけれども、溶射法で電極付けをした方がさらに
誘電率の大きい磁器コンデンサを作製できることがわか
る。特に電極材料としてはN,Cu,Zn,Pb,Sn
といった金属材料が入手の容易さ、安価、および取扱い
の容易さから量産に適したものである。以上説明したよ
うに、本発明の方法によれば、各種の特性に優れている
半導体磁器コンデンサを容易に量産することができ、電
子部品として有用なコンデンサを提供することができる
。
サとしての特性との関係を示しているものである。これ
からAg焼付電極であっても十分優れた特性を得ること
ができるけれども、溶射法で電極付けをした方がさらに
誘電率の大きい磁器コンデンサを作製できることがわか
る。特に電極材料としてはN,Cu,Zn,Pb,Sn
といった金属材料が入手の容易さ、安価、および取扱い
の容易さから量産に適したものである。以上説明したよ
うに、本発明の方法によれば、各種の特性に優れている
半導体磁器コンデンサを容易に量産することができ、電
子部品として有用なコンデンサを提供することができる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 TiO_2成分が50.08〜53モル%、SrO
分が32.9〜37モル%、CaO成分が9〜17モル
%、およびBi_2O_3成分が0.02〜1モル%か
らなる主成分100重量部に対して、副成分として、S
b,NbおよびTaのうちの少なくとも1種の酸化物、
塩化物、又は金属を金属で換算した値で0.02〜1.
99重量部添加し、中性もしくは還元性の雰囲気中で焼
結して、さらに得られた半導体磁器素体の結晶粒界層を
絶縁物化することを特徴とする半導体磁器コンデンサの
製造方法。 2 TiO_2成分が50.08〜53モル%、SrO
分が32.9〜37モル%、CaO成分が9〜17モル
%、およびBi_2O_3成分が0.02〜1モル%か
らなる主成分100重量部に対して、副成分として、S
b,NbおよびTaのうちの少なくとも1種の酸化物、
塩化物、又は金属を金属で換算した値で0.02〜1.
99重量部添加し、中性もしくは還元性の雰囲気中で焼
結して、得られた半導体磁器素体の結晶粒界層を絶縁物
化し、さらにこの誘電体磁器素体に、Al,Cuおよび
Znの金属群から選ばれた少なくとも1種、もしくはそ
れを主体とする合金、またはPb−Sn合金を溶射して
、電極を形成することを特徴とする半導体磁器コンデン
サの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50113315A JPS6029212B2 (ja) | 1975-09-18 | 1975-09-18 | 半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50113315A JPS6029212B2 (ja) | 1975-09-18 | 1975-09-18 | 半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5236750A JPS5236750A (en) | 1977-03-22 |
| JPS6029212B2 true JPS6029212B2 (ja) | 1985-07-09 |
Family
ID=14609103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50113315A Expired JPS6029212B2 (ja) | 1975-09-18 | 1975-09-18 | 半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029212B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280204A (ja) * | 1985-10-03 | 1987-04-13 | Mitsubishi Metal Corp | 複合金属粉末の製造法 |
| US6627570B2 (en) | 2000-02-09 | 2003-09-30 | Tdk Corporation | Dielectric ceramic composition, electronic device, and method of producing the same |
-
1975
- 1975-09-18 JP JP50113315A patent/JPS6029212B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5236750A (en) | 1977-03-22 |
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