JPS6029465A - 耐透湿性を有する合成樹脂体 - Google Patents
耐透湿性を有する合成樹脂体Info
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- JPS6029465A JPS6029465A JP13970083A JP13970083A JPS6029465A JP S6029465 A JPS6029465 A JP S6029465A JP 13970083 A JP13970083 A JP 13970083A JP 13970083 A JP13970083 A JP 13970083A JP S6029465 A JPS6029465 A JP S6029465A
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- Japan
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- thin film
- synthetic resin
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- film layer
- transparent thin
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐透湿性を有する合成樹脂体に関する。
従来より、食品や薬品、化学製品の包装において内容物
の変質を避けるために、又、電子工業分野ではＥＬ素子
の保膜などのために耐透湿性を有するものが使用される
・ 例えば、特開昭５１−１１４４８３号公報ではポリエス
テルフィルムにアルミニウムを蒸着しているが、アルミ
ニウムを蒸着すれば当然透明性が損なわれてしまい、密
着強度も比較的小さいので、限られた用途にしか使用で
きなくなる。
の変質を避けるために、又、電子工業分野ではＥＬ素子
の保膜などのために耐透湿性を有するものが使用される
・ 例えば、特開昭５１−１１４４８３号公報ではポリエス
テルフィルムにアルミニウムを蒸着しているが、アルミ
ニウムを蒸着すれば当然透明性が損なわれてしまい、密
着強度も比較的小さいので、限られた用途にしか使用で
きなくなる。
又、特公昭５Ｂ−１２９５３号公報ではグラスチックフ
ィルムＫ ８１’ ０７の薄膜層を設けて透明性を保持
しているが、耐透湿性は不充分なものであった。
ィルムＫ ８１’ ０７の薄膜層を設けて透明性を保持
しているが、耐透湿性は不充分なものであった。
本発明は上記従来の欠点を解消すべく鋭意検討の結果得
られたものであシ、透明性を損なわず、しかも耐透湿性
が極めて棗好である耐透湿性を有する合成樹脂体を提供
するものである。
られたものであシ、透明性を損なわず、しかも耐透湿性
が極めて棗好である耐透湿性を有する合成樹脂体を提供
するものである。
本発明において、基材の透明合成樹脂体として社、ポリ
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチ２−ル、ポ
リエチレン、ボリグロピレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、セロハン等の透明な合成樹脂体が使用される〇 又、透明合成樹脂体は可撓性に富むフィルム状体である
方が、包装あるいは積層して使用するために都合がよい
。しかしながら、本発明は基材がフィルム状体であるも
のに限られるのではなく、例えば板状体、レンズ体のよ
うな合成樹脂成形品に適用され、透湿による合成樹脂体
の変質、劣化を防止することができる。
塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチ２−ル、ポ
リエチレン、ボリグロピレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、セロハン等の透明な合成樹脂体が使用される〇 又、透明合成樹脂体は可撓性に富むフィルム状体である
方が、包装あるいは積層して使用するために都合がよい
。しかしながら、本発明は基材がフィルム状体であるも
のに限られるのではなく、例えば板状体、レンズ体のよ
うな合成樹脂成形品に適用され、透湿による合成樹脂体
の変質、劣化を防止することができる。
フィルム状体の透明合成樹脂体は、厚みとしては５〜３
００μｍで可撓性に富むものとなされ、好ましくは５〜
１００μｍ になされる。フィルム状体の透明合成樹脂
体に対し、酸化物組成物を蒸着等するには、通常冷却ロ
ールを介した巻取り工程が必要であるが、フィルム状体
の透明合成樹脂体の厚みが５μｍ未満であると、しわや
亀裂の発生が生じ易くなり、厚みが３００μｍを越える
と柔軟性に乏しくなって連続巻取わが困難になってしま
う。
００μｍで可撓性に富むものとなされ、好ましくは５〜
１００μｍ になされる。フィルム状体の透明合成樹脂
体に対し、酸化物組成物を蒸着等するには、通常冷却ロ
ールを介した巻取り工程が必要であるが、フィルム状体
の透明合成樹脂体の厚みが５μｍ未満であると、しわや
亀裂の発生が生じ易くなり、厚みが３００μｍを越える
と柔軟性に乏しくなって連続巻取わが困難になってしま
う。
透明合成樹脂体の少なくとも片面には透明薄膜層が形成
される。該透明薄膜層はＳ＋ＯＺ、Ｂ、Ｏ。
される。該透明薄膜層はＳ＋ＯＺ、Ｂ、Ｏ。
ＢａＯ１Ａｔｔｏｓからなり、モル比で（ＳＩＯｚ）：
（ＢｔＯａ）： （ＢａＯ１Ａｔｔｏｓ）： ２〜４
： １〜２：０．３〜ｌ となされた組成物からなる。
（ＢｔＯａ）： （ＢａＯ１Ａｔｔｏｓ）： ２〜４
： １〜２：０．３〜ｌ となされた組成物からなる。
ＢａＯとＡｔ２０Ｓは、その一方が実質的に含まれなく
ともよい。
ともよい。
透明薄膜層の上記の組成にＮａｔｏなどのアルカリ金属
の酸化物が多量に入ると、その親水性のために耐透湿性
は損なわれ、真空蒸着を行なうにも組成が変動し易い欠
点を生じる。
の酸化物が多量に入ると、その親水性のために耐透湿性
は損なわれ、真空蒸着を行なうにも組成が変動し易い欠
点を生じる。
又、透明薄膜層のモル比が、上記の範囲を外れると層分
離を起こし易くなり、耐透湿性が低下する。そして、Ｂ
ｔＯａの量が大きくなるとその水との反応性によって耐
透湿性が悪化し、（ＢａＯ１Ａｔｔｏｓ）の量が小さく
なると耐水性が劣る傾向となる。
離を起こし易くなり、耐透湿性が低下する。そして、Ｂ
ｔＯａの量が大きくなるとその水との反応性によって耐
透湿性が悪化し、（ＢａＯ１Ａｔｔｏｓ）の量が小さく
なると耐水性が劣る傾向となる。
上記の酸化物組成物を透明合成樹脂体表面に形成する方
法として最も好ましいのはスパッタリング法であシ、ス
パッタリングのターゲットを上記の組成とすることでは
ｙ同じ組成の透明薄膜層を形成することができる。
法として最も好ましいのはスパッタリング法であシ、ス
パッタリングのターゲットを上記の組成とすることでは
ｙ同じ組成の透明薄膜層を形成することができる。
また、真空蒸着法、イオンブレーティング法によっても
、上記の組成の透明薄膜層を形成することができる。真
空蒸着法の場合は、蒸気圧の異なる混合物質をそのま＼
の組成で薄膜層を形成するのは困難であるとされている
。しかし、本発明者等は上記組成物を予め電気炉で溶融
しガラス化したものを蒸発材として使用し、電子銃加熱
方式で蒸発させれば、略同じ組成の蒸着膜が得られるこ
とを確認した。
、上記の組成の透明薄膜層を形成することができる。真
空蒸着法の場合は、蒸気圧の異なる混合物質をそのま＼
の組成で薄膜層を形成するのは困難であるとされている
。しかし、本発明者等は上記組成物を予め電気炉で溶融
しガラス化したものを蒸発材として使用し、電子銃加熱
方式で蒸発させれば、略同じ組成の蒸着膜が得られるこ
とを確認した。
又、一般に混合物を真空蒸着する時に用いられるフラッ
シエ蒸着法によっても、上記の組成の蒸着膜を形成する
ことができる。
シエ蒸着法によっても、上記の組成の蒸着膜を形成する
ことができる。
本発明においては、真空蒸着法、イオンブレーティング
法、スパッタリング法のいずれによっても、透明薄膜層
の基材の透明合成樹脂体に対する密着性は良好であり、
透明性もよい。又、透明薄膜層を真空蒸着法等で形成し
たフィルム状の透明合成樹脂体でカール性、が大きな問
題とならないのも本発明の特徴である。これは、従来の
Ｓ ｉ ＊Ｏｙに比較して木兄ｑ（５１０，、Ｂ ｘｏ
ｓ１真空蒸着法、イオンブレーティング法、スノくツタ
リング法により透明薄膜層を形成するには、通常２Ｘ１
０ １ｏｒｒ以下の真空雰囲気下で行なわれるが、不純
物の混入による性能の低下を避けるためには５Ｘ１Ｇ−
’１ｏｒｒ以下の真空雰囲気下で行なうのが好ましい。
法、スパッタリング法のいずれによっても、透明薄膜層
の基材の透明合成樹脂体に対する密着性は良好であり、
透明性もよい。又、透明薄膜層を真空蒸着法等で形成し
たフィルム状の透明合成樹脂体でカール性、が大きな問
題とならないのも本発明の特徴である。これは、従来の
Ｓ ｉ ＊Ｏｙに比較して木兄ｑ（５１０，、Ｂ ｘｏ
ｓ１真空蒸着法、イオンブレーティング法、スノくツタ
リング法により透明薄膜層を形成するには、通常２Ｘ１
０ １ｏｒｒ以下の真空雰囲気下で行なわれるが、不純
物の混入による性能の低下を避けるためには５Ｘ１Ｇ−
’１ｏｒｒ以下の真空雰囲気下で行なうのが好ましい。
透明薄膜層は、柔軟性、密着性を良好なものとするため
にその厚みを１００〜５０００Ａ の範囲になすのがよ
く、更に好ましくは５００〜２５００Ａの範囲にするの
がよい。
にその厚みを１００〜５０００Ａ の範囲になすのがよ
く、更に好ましくは５００〜２５００Ａの範囲にするの
がよい。
透明薄膜層の厚みが５ｏｏｏ、Ｋを越えても透明性を損
なうことはないが、フィルム状の透明合成樹脂体のカー
ル性が問題となった９、亀裂や剥離が生じ易くなること
がらる。又、透明薄膜層の厚みが１００Ｋ 未満になる
と、膜が島状構造となって耐透湿性が不充分なものとな
る恐れがある。
なうことはないが、フィルム状の透明合成樹脂体のカー
ル性が問題となった９、亀裂や剥離が生じ易くなること
がらる。又、透明薄膜層の厚みが１００Ｋ 未満になる
と、膜が島状構造となって耐透湿性が不充分なものとな
る恐れがある。
本発明耐透湿性合成樹脂体を包装体として使用する場合
、ヒートシール性を付与することが望ましくなる。その
場合、（５ｉｆｔ％Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ１ｈＬｚＯｓ ）
の糸からなる透明薄膜層の上にヒートシール性を有する
合成樹脂フィルムを積層することによ如、本発明耐透湿
性合成樹脂体にヒートシール性を付与することができる
。
、ヒートシール性を付与することが望ましくなる。その
場合、（５ｉｆｔ％Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ１ｈＬｚＯｓ ）
の糸からなる透明薄膜層の上にヒートシール性を有する
合成樹脂フィルムを積層することによ如、本発明耐透湿
性合成樹脂体にヒートシール性を付与することができる
。
ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ヒニル共重
合体、エチレン系アイオノマー等が挙げられ、透明性を
失なわないものとされる。
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ヒニル共重
合体、エチレン系アイオノマー等が挙げられ、透明性を
失なわないものとされる。
ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムを積層するに
は、接着剤を用いる法（ドライラミネ−ト法）、合成樹
脂をフィルム状に溶融押出して基材に圧着する法（エク
ストルージョンラミネート法）がある。
は、接着剤を用いる法（ドライラミネ−ト法）、合成樹
脂をフィルム状に溶融押出して基材に圧着する法（エク
ストルージョンラミネート法）がある。
ドライラミネート法においては、合成樹脂フィルムによ
って使用する接着剤が変ってくるが、一般にインシアネ
ート系の接着剤が使われる〇エクストルージョンラミネ
ート法においては、錯グネ１りＰｅ酸）化物ｐ透明薄膜
層にアンカー効果が発現されるため、通常行なわれる有
機チタネート系、イソシアネート系、ポリエチレンイミ
ン系のアンカー剤によるアンカー処理が不要となる。従
って、従来の有機溶剤を使用する必要がなくな妙、製造
作業環境を悪化することも、製品中に有機溶剤が残存す
ることもなくなる。
って使用する接着剤が変ってくるが、一般にインシアネ
ート系の接着剤が使われる〇エクストルージョンラミネ
ート法においては、錯グネ１りＰｅ酸）化物ｐ透明薄膜
層にアンカー効果が発現されるため、通常行なわれる有
機チタネート系、イソシアネート系、ポリエチレンイミ
ン系のアンカー剤によるアンカー処理が不要となる。従
って、従来の有機溶剤を使用する必要がなくな妙、製造
作業環境を悪化することも、製品中に有機溶剤が残存す
ることもなくなる。
以下に本発明の実施例を示す。
〈実施例１〉
５ｌｏｚ、Ｂ２Ｏ３、ＢａＯ１Ａｔ之ＯＩＩのモル比を
３：１： ０．６７ ： ０．３３とした酸化物の混合
物を電気炉で溶解しガラス化したものを５Ｘ Ｉｏｒｒ
の真空下で電子銃加熱方式で加熱蒸発させ、ポリエチレ
ンテレ７タレー） （ＰＥＴ）フィルム（１５μ扉厚）
上に１００ＯＡの厚みの透明薄膜層を形成した。透明薄
膜層の厚みは水晶発振式のモニターにより計測した。透
明薄膜層の組成は、χ線マイクロアナライザーで分析し
たところ、当初の混合物の組成と略同等であった。
３：１： ０．６７ ： ０．３３とした酸化物の混合
物を電気炉で溶解しガラス化したものを５Ｘ Ｉｏｒｒ
の真空下で電子銃加熱方式で加熱蒸発させ、ポリエチレ
ンテレ７タレー） （ＰＥＴ）フィルム（１５μ扉厚）
上に１００ＯＡの厚みの透明薄膜層を形成した。透明薄
膜層の厚みは水晶発振式のモニターにより計測した。透
明薄膜層の組成は、χ線マイクロアナライザーで分析し
たところ、当初の混合物の組成と略同等であった。
形成された透明薄膜層の密着性ｄ ＪＩＳ Ｄ０２０２
で確認したが非常に良好であった。
で確認したが非常に良好であった。
又、透明薄膜層を形成したフィルムの光透過率は未蒸着
フィルム略同等であシ、透明性は良好であった。
フィルム略同等であシ、透明性は良好であった。
透湿度は４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおいて、ＪＩＳ
Ｚ ０２０８（カップによる重量法）及び湿度計法で測
定したが、両者の値は略同等であった＠〈実施例２〉 実施例１において、透明薄膜層の厚みを２０００Ａとし
た。
Ｚ ０２０８（カップによる重量法）及び湿度計法で測
定したが、両者の値は略同等であった＠〈実施例２〉 実施例１において、透明薄膜層の厚みを２０００Ａとし
た。
〈実施例３．４〉
実施例１のＰＥＴフィルムに代えて、二軸延伸ポリプロ
ピレン（ＯＰＰ）フィルム（２５μｍ厚）を使用した。
ピレン（ＯＰＰ）フィルム（２５μｍ厚）を使用した。
〈実施例５〜８〉
実施例１の混合物組成に代えて、表に示した組成のもの
を使用して、透明薄膜層を形成した。
を使用して、透明薄膜層を形成した。
〈比較例１．２〉
′）
実施例＼１の混合物組成に代えて、本発明のモル比組成
の範囲から外れるものを使用して、透明薄膜層を形成し
た。
の範囲から外れるものを使用して、透明薄膜層を形成し
た。
〈比較例３，４〉
従来公知の耐透湿性透明薄膜層を形成するＳｉＯ及びＳ
ｔＯ，を使用して、透明薄膜層を形成した。
ｔＯ，を使用して、透明薄膜層を形成した。
〈比較例５〉
不透明であるが、耐透湿性が良好であると言われている
＾を薄膜層を、ＰＥＴフィルム上に形成させた。
＾を薄膜層を、ＰＥＴフィルム上に形成させた。
以下余白
◎；密着性、透明性良好
Δ：密着性や＼不良
×；不透明
以上詳述した通抄、本発明耐透明性合成樹脂体は透明性
を損なうことなく、従来得られなかった極めて良好な耐
透湿性を得ることができ、食品や薬品の包装体として、
ＥＬ素子の保護体として使用することができる。
を損なうことなく、従来得られなかった極めて良好な耐
透湿性を得ることができ、食品や薬品の包装体として、
ＥＬ素子の保護体として使用することができる。
特許出願人
積水化学工業株式会社
代表者 藤 沼 基 利
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 り透明合成樹脂体の少なくとも片面に、ＳｉＯ２，Ｔｏ
ｓｓ。 ＢａＯ１ＡｔｔＯｓがモル比で、（Ｓｉｆｔ ） ｅ
（ＢｔＯａ）Ｓ（ｎａｏ＋Ａｔｚｏａ） ＝ ２〜４
： １〜２ ： ０．３〜１となされた組成物の透明薄
膜層が形成されてなることを特徴とする耐透湿性を有す
る合成樹脂体。 λ透明合成樹脂体が厚み５〜３００μ扉の可撓性に富む
フィルム状体でおり、透明薄膜層が厚み１００へ５００
ＯＡである特許請求の範囲第１項記載の耐透湿性を有す
る合成樹脂体。 ３、透明薄膜層が真空蒸着法またはイオンブレーティン
グ法またはスパクタリング法によって形成されている特
許請求の範囲第１項または第２項記載の耐透湿性を有す
る合成樹脂体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13970083A JPS6029465A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 耐透湿性を有する合成樹脂体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13970083A JPS6029465A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 耐透湿性を有する合成樹脂体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6029465A true JPS6029465A (ja) | 1985-02-14 |
| JPS6246629B2 JPS6246629B2 (ja) | 1987-10-02 |
Family
ID=15251382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13970083A Granted JPS6029465A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 耐透湿性を有する合成樹脂体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029465A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283324A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-16 | Kogyo Kaihatsu Kenkyusho | 光学ガラスの製造方法 |
| DE3842506A1 (de) * | 1987-12-17 | 1989-06-29 | Toyo Ink Mfg Co | Verfahren und einrichtung zum herstellen von ablagerungsfilmen |
| EP0549528A1 (de) * | 1991-12-20 | 1993-06-30 | Alusuisse-Lonza Services Ag | Verfahren zur Herstellung von Substraten enthaltend eine Überzugsschicht |
| WO1994019506A1 (de) * | 1993-02-25 | 1994-09-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Im vakuum aufgedampte barriereschichten für die verpackungsindustrie und aufdampfgut für ihre herstellung |
-
1983
- 1983-07-29 JP JP13970083A patent/JPS6029465A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283324A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-16 | Kogyo Kaihatsu Kenkyusho | 光学ガラスの製造方法 |
| DE3842506A1 (de) * | 1987-12-17 | 1989-06-29 | Toyo Ink Mfg Co | Verfahren und einrichtung zum herstellen von ablagerungsfilmen |
| EP0549528A1 (de) * | 1991-12-20 | 1993-06-30 | Alusuisse-Lonza Services Ag | Verfahren zur Herstellung von Substraten enthaltend eine Überzugsschicht |
| WO1994019506A1 (de) * | 1993-02-25 | 1994-09-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Im vakuum aufgedampte barriereschichten für die verpackungsindustrie und aufdampfgut für ihre herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6246629B2 (ja) | 1987-10-02 |
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