JPS602947A - レジスト塗布方法 - Google Patents
レジスト塗布方法Info
- Publication number
- JPS602947A JPS602947A JP10924983A JP10924983A JPS602947A JP S602947 A JPS602947 A JP S602947A JP 10924983 A JP10924983 A JP 10924983A JP 10924983 A JP10924983 A JP 10924983A JP S602947 A JPS602947 A JP S602947A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- film
- soln
- substrate
- gold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
不発明はＩＣ，ＬＳＩなどの半導体素子の製造工程で用
いるホトマスクに対するホトレジスト句イ１１方法に関
するものである。
いるホトマスクに対するホトレジスト句イ１１方法に関
するものである。
従来技術と問題点
ＩＣ、ＬＳＩ々ｆの製造には、その素子形成にホトリン
グラフィの技術が用いられている。そのｕ３合ホトマ“
スフが用いられるが、このホトマスクの製造にも素子裂
］１腎と同様にホトリングラフィの技術が用いられる。
グラフィの技術が用いられている。そのｕ３合ホトマ“
スフが用いられるが、このホトマスクの製造にも素子裂
］１腎と同様にホトリングラフィの技術が用いられる。
即ち、ガ２スノ、（板の上にスパッタによシ金趨クロム
ＡＱ ｋ形成し、その上にホトレジストｋ 亭布し、こ
のホトレジスト葡レチクル？ｒ［１ｂて露光したのち現
イ２し、仄いて金部クロム膜全辺択エッナングして金Ｊ
（＋クロムでバターニングしホトマスクイ〔作成するの
でめる。
ＡＱ ｋ形成し、その上にホトレジストｋ 亭布し、こ
のホトレジスト葡レチクル？ｒ［１ｂて露光したのち現
イ２し、仄いて金部クロム膜全辺択エッナングして金Ｊ
（＋クロムでバターニングしホトマスクイ〔作成するの
でめる。
このよりｌホトマスクの製造工程において、ホトレシス
トリＱｊ布は従う１６よｐスピンコード法カ用いられて
いる。この方法は第１図の如く、回転＃ＱＩ＋１に固ν
ピされたチャック２にホトマスク／ｆｌ基孜３全金〃・
１クロム愈が上面となろより＋ｃ ；４Ｖ、、ｔ７マレ
、その上にホトレジスト（Ｉイア；叉４′？ｒ、滴下し
たのち、回転軸ｌ金高速回転してホトレジスト溶液４を
金属クロム膜面上に拡は且つ余分な数音１・′ｌ欣させ
て一様な〕９さの＊ ｊｉ’；％ ’ｃ−＋ｉ）るよシ
にしてｂる。ところがこのＪん合、ホトレジスト石Ｊ７
［叉Ｃ・てはろるイ呈１更の１占性があるため、基板周
辺までイσ布するためには滴下するホトレジスト溶液４
の牡を火除に基布される基よシはるかＶこ多く１−る必
要が必ろ。このため、この方法はホトレジスト７’ｌＮ
ｉｌ＆かび民敢して無駄とな／）〜４゜が多いといり
欠点があった。葦たブ１−散したレジスト液が基板？、
侍面に何者するという欠点もめった。
トリＱｊ布は従う１６よｐスピンコード法カ用いられて
いる。この方法は第１図の如く、回転＃ＱＩ＋１に固ν
ピされたチャック２にホトマスク／ｆｌ基孜３全金〃・
１クロム愈が上面となろより＋ｃ ；４Ｖ、、ｔ７マレ
、その上にホトレジスト（Ｉイア；叉４′？ｒ、滴下し
たのち、回転軸ｌ金高速回転してホトレジスト溶液４を
金属クロム膜面上に拡は且つ余分な数音１・′ｌ欣させ
て一様な〕９さの＊ ｊｉ’；％ ’ｃ−＋ｉ）るよシ
にしてｂる。ところがこのＪん合、ホトレジスト石Ｊ７
［叉Ｃ・てはろるイ呈１更の１占性があるため、基板周
辺までイσ布するためには滴下するホトレジスト溶液４
の牡を火除に基布される基よシはるかＶこ多く１−る必
要が必ろ。このため、この方法はホトレジスト７’ｌＮ
ｉｌ＆かび民敢して無駄とな／）〜４゜が多いといり
欠点があった。葦たブ１−散したレジスト液が基板？、
侍面に何者するという欠点もめった。
発明の目的
不発りＪ４：Ｊ：土Ｂｅ＋ ｆ’ｌ＝来の欠点に−み、
ホトレジスト溶液の無ｊ憾の少ないレジスト（（ゴｉｊ
’）ｊ法をイ髭供すること？ｆ：目的とするものでら
る。
ホトレジスト溶液の無ｊ憾の少ないレジスト（（ゴｉｊ
’）ｊ法をイ髭供すること？ｆ：目的とするものでら
る。
発明の４１か成
そしてこの目的は本発明によれば、ホトマスク製造工４
’ｉ ＶＣおけるホトレジストの一一・；布方法であっ
て、−万の面に金＆ｉ ！ｔ！が形成された是板金、上
方よシ垂下した回伝憎に金わｉ ｉｉ５．ｉ開が下方ｔ
ｔＣ同くようにして取えテしたのち、該金属痕口ｊｊを
レジスト溶液の液囲に」易融させて該雀ｐＩｒ４１−面
にレジスＦ ｒｔ４液金付着ざぜ、次いで１１【）匠ｉ
’ｌｌｌをｔｔｏ逗に１徹して今月ｈ４面上の余分なレ
ジスト俗７ｉＭ ’ＣＣ成敗せ又除去すること金時ｈχ
とするレジストＤｊイ０方法′ｆ：提供することによっ
て達成される。
’ｉ ＶＣおけるホトレジストの一一・；布方法であっ
て、−万の面に金＆ｉ ！ｔ！が形成された是板金、上
方よシ垂下した回伝憎に金わｉ ｉｉ５．ｉ開が下方ｔ
ｔＣ同くようにして取えテしたのち、該金属痕口ｊｊを
レジスト溶液の液囲に」易融させて該雀ｐＩｒ４１−面
にレジスＦ ｒｔ４液金付着ざぜ、次いで１１【）匠ｉ
’ｌｌｌをｔｔｏ逗に１徹して今月ｈ４面上の余分なレ
ジスト俗７ｉＭ ’ＣＣ成敗せ又除去すること金時ｈχ
とするレジストＤｊイ０方法′ｆ：提供することによっ
て達成される。
発明の実施例
以下、不発りＪ′：Ａｂｌｉｌ ｔ”Ｉ企図面にＬって
詳述する。
詳述する。
第２図は本発明にょ旬レジスト（戸布方法を〜２明する
ための図でちり、同図において、１０は高速回転かでさ
、且つ上方よシ垂下して設けらｆした■に宿１ｂｌｌは
その下９１′ｈ；に設けられた真望チャック、１２はガ
ラス４反の一方の而に金か）クロム膜面上か形成きれた
ホトマスクＪ旧、ｊ、’ 、ｉ云 １３は容器、１４は
レジスト溶液全それぞれ示している。
ための図でちり、同図において、１０は高速回転かでさ
、且つ上方よシ垂下して設けらｆした■に宿１ｂｌｌは
その下９１′ｈ；に設けられた真望チャック、１２はガ
ラス４反の一方の而に金か）クロム膜面上か形成きれた
ホトマスクＪ旧、ｊ、’ 、ｉ云 １３は容器、１４は
レジスト溶液全それぞれ示している。
不実桶例は第２１囚に示す如く、上方より垂下して設け
られた回転禮１１０の下端に固定された真全チャック１
１こホトマスク用基板１２全取着させる。この場合ホト
マスク用基板１２はその一方の面に形成された金属クロ
ム（ｊΔ１２ａが下に向くようにチャック１１に取）７
１ｆする。次にこの全組りロム模り２ａ面にレジスト７
８液１４の液面全接触させ、金属クロム膜面にレジスト
溶液全薄く付着させる。次いで該面勿しジスト浴ｊ伎か
ら醸し、軸１０を高速に自転して金属クロム７１９面上
の余分なレジスト溶液ｆ ソｉＱ敗させ、残ったレジス
ト溶液を乾燥させて、粗金ねクロム膜面上に均一な厚さ
の薄いレジス） ＪＩ５ｉ ｋ形成するのである。
られた回転禮１１０の下端に固定された真全チャック１
１こホトマスク用基板１２全取着させる。この場合ホト
マスク用基板１２はその一方の面に形成された金属クロ
ム（ｊΔ１２ａが下に向くようにチャック１１に取）７
１ｆする。次にこの全組りロム模り２ａ面にレジスト７
８液１４の液面全接触させ、金属クロム膜面にレジスト
溶液全薄く付着させる。次いで該面勿しジスト浴ｊ伎か
ら醸し、軸１０を高速に自転して金属クロム７１９面上
の余分なレジスト溶液ｆ ソｉＱ敗させ、残ったレジス
ト溶液を乾燥させて、粗金ねクロム膜面上に均一な厚さ
の薄いレジス） ＪＩ５ｉ ｋ形成するのである。
このようにレジスｊ ＨｆＡｆ形成する不笑確例は、ホ
トマスク用基板の全４クロム臆面にレジスト溶液金供給
する方法が、金ｐｉりｐム膜面全下にしてレジスト溶液
に接触させ、一様な薄い族として付着させるのでその付
着−戚は基板の大きさが４’Ｘ４’乃至６ｊ ｘ ｓ
Ｉの場合に１〜２ ｃｃであり、従来の滴下方法では２
〜５ ｃｃ を安するのに比し外程度と少なくなる。葦
だ踏板の回転をレジスト塗布面が下になるようにしてい
るため飛散したレジスト溶液が基板裏ｍ１に回ル込み付
着するＣとも防止される。
トマスク用基板の全４クロム臆面にレジスト溶液金供給
する方法が、金ｐｉりｐム膜面全下にしてレジスト溶液
に接触させ、一様な薄い族として付着させるのでその付
着−戚は基板の大きさが４’Ｘ４’乃至６ｊ ｘ ｓ
Ｉの場合に１〜２ ｃｃであり、従来の滴下方法では２
〜５ ｃｃ を安するのに比し外程度と少なくなる。葦
だ踏板の回転をレジスト塗布面が下になるようにしてい
るため飛散したレジスト溶液が基板裏ｍ１に回ル込み付
着するＣとも防止される。
発明の効呆
以上、詳細に説明したように本発明のレジスト塗布方法
はレジスト倹布面を下にしてスピンコードすることによ
ジ４共給するレジストン谷液が少Ｐｇで良く、経済的で
あるといった効果大なるものである０
はレジスト倹布面を下にしてスピンコードすることによ
ジ４共給するレジストン谷液が少Ｐｇで良く、経済的で
あるといった効果大なるものである０
第１図は従来のレジスト塗布方法を説り］するための図
、第２図は本発明によるレジスト塗布方法′：ｆ：ｉＩ
兄ψ」するための図である。 南面において、１０は回ｉｊ伝１浦、１１は真全チャッ
ク、１２はホトマスク用；・ＮＫＦｊ、１４はレジスト
溶液をそれぞｎ示す。 Ｔ７ｊ計出柘（人 富」τ）１力（１ｓ式会社 ！１ン許出願代理人 弁理± １￥ 木 １９Ｊ 升１゛Ｐ± 西舘オ゛１１之 弁理士 内 出 ♀ 男 弁理士 山 口 Ｂｌづ 之
、第２図は本発明によるレジスト塗布方法′：ｆ：ｉＩ
兄ψ」するための図である。 南面において、１０は回ｉｊ伝１浦、１１は真全チャッ
ク、１２はホトマスク用；・ＮＫＦｊ、１４はレジスト
溶液をそれぞｎ示す。 Ｔ７ｊ計出柘（人 富」τ）１力（１ｓ式会社 ！１ン許出願代理人 弁理± １￥ 木 １９Ｊ 升１゛Ｐ± 西舘オ゛１１之 弁理士 内 出 ♀ 男 弁理士 山 口 Ｂｌづ 之
Claims (1)
- １、ホトマスク製造工程におけるホトレジストの塗布方
法で必って、一方の面に金属膜が形成された基Ｉｆｌ金
、上方より５４５下した回法軸に金属ｉｔｑ而が下方に
向くようにして取＞Ｑ シたのら、粗金Ｊｉ４ ｊ！’
ｆ１面？レジスト浴液の液面に接励：させて該金属Ｑ°
、−： ｔ＋ｉｊにレジスト溶液を付所させ、次いで回
転’１ｔｌｌ ｆ高通に回１法して金７：十・１土の余
分なレジスト溶液全飛散させて除去することｅＱテ敵と
するレジスト孕イ１１方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10924983A JPS602947A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | レジスト塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10924983A JPS602947A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | レジスト塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS602947A true JPS602947A (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=14505390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10924983A Pending JPS602947A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | レジスト塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS602947A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415650U (ja) * | 1987-07-15 | 1989-01-26 | ||
| US4860818A (en) * | 1987-09-21 | 1989-08-29 | Ube Industries, Ltd. | Die casting apparatus |
| JPH0234263A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-02-05 | Nippon Denso Co Ltd | ダイカスト装置及びダイカスト方法 |
| US4997027A (en) * | 1988-06-10 | 1991-03-05 | Ube Industries, Ltd. | Pressing mechanism for casting apparatus |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP10924983A patent/JPS602947A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415650U (ja) * | 1987-07-15 | 1989-01-26 | ||
| US4860818A (en) * | 1987-09-21 | 1989-08-29 | Ube Industries, Ltd. | Die casting apparatus |
| US4997027A (en) * | 1988-06-10 | 1991-03-05 | Ube Industries, Ltd. | Pressing mechanism for casting apparatus |
| JPH0234263A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-02-05 | Nippon Denso Co Ltd | ダイカスト装置及びダイカスト方法 |
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