JPS6030018B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6030018B2 JPS6030018B2 JP13707177A JP13707177A JPS6030018B2 JP S6030018 B2 JPS6030018 B2 JP S6030018B2 JP 13707177 A JP13707177 A JP 13707177A JP 13707177 A JP13707177 A JP 13707177A JP S6030018 B2 JPS6030018 B2 JP S6030018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inert gas
- photoresist
- disk
- exposure apparatus
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はホトレジスト層又はビームレジスト層を露光
するための露光装置に関し、特にディスク上に音声また
はビデオ等の情報トラックをビット（凹部）またはブロ
ック（凸部）として形成する場合に用いられるホトレジ
スト層の露光装置に関するものである。
するための露光装置に関し、特にディスク上に音声また
はビデオ等の情報トラックをビット（凹部）またはブロ
ック（凸部）として形成する場合に用いられるホトレジ
スト層の露光装置に関するものである。
音声またはビデオ等の情報トラックが上記のような形に
形成されたディスク記録原盤からはメッキ等の方法によ
ってスタンパが得られ、このスタンパを転写して多数の
複製をプレスの形で容易に製造することができる。
形成されたディスク記録原盤からはメッキ等の方法によ
ってスタンパが得られ、このスタンパを転写して多数の
複製をプレスの形で容易に製造することができる。
第１図は上記ディスク記録原盤の製造工程を示す断面図
であって、ａ，ｂ，ｃ，ｄは工程の進行順を表わしてい
る。
であって、ａ，ｂ，ｃ，ｄは工程の進行順を表わしてい
る。
第１図ａに示す工程ではガラスのような透明基体１上に
金属薄層２を蒸着する。第２図ｂに示す工程では情報信
号によって強度変調されたレーザ光３を用いて金属薄層
２を選択的に露光し融解、蒸発させてビット２１を形成
し、このようにして情報トラックが形成される。次に第
１図ｃに示す如くディスク上にホトレジスト４を均一に
塗り、透明基体１の側からホトレジスト４を光６、たと
えば水銀灯の光、により露光する。金属薄層２は光５を
さえぎり、ビット２１は光５を透過させ、ホトレジスト
４は感光する。ここで、ホトレジスト４がネガ型（光の
当った部分が残る型）のものであれば、これを現像する
と第１図ｄに示す如くビット２１に対応したレジストバ
タン４１が形成される。ところでホトレジストの中には
、空気中では空気に妨害されて光化学反応を起さないも
のがある。
金属薄層２を蒸着する。第２図ｂに示す工程では情報信
号によって強度変調されたレーザ光３を用いて金属薄層
２を選択的に露光し融解、蒸発させてビット２１を形成
し、このようにして情報トラックが形成される。次に第
１図ｃに示す如くディスク上にホトレジスト４を均一に
塗り、透明基体１の側からホトレジスト４を光６、たと
えば水銀灯の光、により露光する。金属薄層２は光５を
さえぎり、ビット２１は光５を透過させ、ホトレジスト
４は感光する。ここで、ホトレジスト４がネガ型（光の
当った部分が残る型）のものであれば、これを現像する
と第１図ｄに示す如くビット２１に対応したレジストバ
タン４１が形成される。ところでホトレジストの中には
、空気中では空気に妨害されて光化学反応を起さないも
のがある。
たとえば市販のネガ型フオトレジストにおいては、空気
中の酸素が反応を阻害するものがあり、一般的に言えば
酸素を１／２Ｔｏｍ（０．６６７ｍ鼠ｒ）以下の気圧の
真空度に保たなければ光化学反応が阻害されるホトレジ
ストがある。
中の酸素が反応を阻害するものがあり、一般的に言えば
酸素を１／２Ｔｏｍ（０．６６７ｍ鼠ｒ）以下の気圧の
真空度に保たなければ光化学反応が阻害されるホトレジ
ストがある。
このようなホトレジストを露光するために従来用いられ
ていた装置には、真空容器の中でホトレジストを露光さ
せたり、または気密容器の中に不活性ガスを充満し、こ
の不活性ガス中で露光させる等の装置があった。しかし
たとえばビデオデイスクのように直径１４インチ（３５
６肌）程度の円盤を露光するには大形の真空容器または
大形の気密容器を必要とし、シール等の問題をも含めて
露光装置が大形化し、その製作が困難となる。また容器
の内外における圧力差に耐え得るよう真空容器を金属製
にしてその強度を増大したとしても、露光用の光を入れ
る部分は透明材料を用いねばならないなどの欠点があっ
た。この発明は従来の露光装置における上述の欠点を除
去することを目的とし、高真空容器、あるいは気密容器
を用いることなく露光することができる露光装置を提供
しようとするものである。
ていた装置には、真空容器の中でホトレジストを露光さ
せたり、または気密容器の中に不活性ガスを充満し、こ
の不活性ガス中で露光させる等の装置があった。しかし
たとえばビデオデイスクのように直径１４インチ（３５
６肌）程度の円盤を露光するには大形の真空容器または
大形の気密容器を必要とし、シール等の問題をも含めて
露光装置が大形化し、その製作が困難となる。また容器
の内外における圧力差に耐え得るよう真空容器を金属製
にしてその強度を増大したとしても、露光用の光を入れ
る部分は透明材料を用いねばならないなどの欠点があっ
た。この発明は従来の露光装置における上述の欠点を除
去することを目的とし、高真空容器、あるいは気密容器
を用いることなく露光することができる露光装置を提供
しようとするものである。
この目的を達成するためにこの発明では記録媒体である
ビデオディスクを回転させ、ビデオディスクの中心部か
らその外周に向けて不活性ガスを流すことにより、ビデ
オディスク表面に不活性ガスのフィルムを形成し、ホト
レジストを空気と遮断して露光させるものであり、以下
図面について更に詳細に説明する。第２図はこの発明の
一実施例を示す断面図であり、第３図は第２図に示す実
施例における不活性ガスの流れの一例を示す平面図であ
る。
ビデオディスクを回転させ、ビデオディスクの中心部か
らその外周に向けて不活性ガスを流すことにより、ビデ
オディスク表面に不活性ガスのフィルムを形成し、ホト
レジストを空気と遮断して露光させるものであり、以下
図面について更に詳細に説明する。第２図はこの発明の
一実施例を示す断面図であり、第３図は第２図に示す実
施例における不活性ガスの流れの一例を示す平面図であ
る。
これらの図面において第１図と同一符号は同一又は相当
部分を示し、６はモータ、７はモータ６によって回転さ
れる夕−ンテーフル、８はターンテーブル７にビデオデ
ィスク記録盤を装着するためのナットであり、ホトレジ
スト層４を有する上記ビデオディスク記録盤は第１図ｃ
で示す工程のものがナット８でターンテーブル７に固定
される。９は不活性ガスの吸入口、１０‘まバックプレ
ート、１１は不活性ガスの供給口、１１川ま不活性ガス
、１１１は不活性ガスの流線、１２はフィル夕、１３は
ガス管、１４は排気口、１５は側板、１６は夫板、１７
はシール付軸受である。
部分を示し、６はモータ、７はモータ６によって回転さ
れる夕−ンテーフル、８はターンテーブル７にビデオデ
ィスク記録盤を装着するためのナットであり、ホトレジ
スト層４を有する上記ビデオディスク記録盤は第１図ｃ
で示す工程のものがナット８でターンテーブル７に固定
される。９は不活性ガスの吸入口、１０‘まバックプレ
ート、１１は不活性ガスの供給口、１１川ま不活性ガス
、１１１は不活性ガスの流線、１２はフィル夕、１３は
ガス管、１４は排気口、１５は側板、１６は夫板、１７
はシール付軸受である。
不活性ガス、たとえば窒素ガスはフィル夕１２でごみを
除去された後ガス管１３を通り、吸入口９からディスク
のホトレジスト４の表面に到達する。
除去された後ガス管１３を通り、吸入口９からディスク
のホトレジスト４の表面に到達する。
このような状態でモータ６を回転させると、第３図に点
線で示すような流線１１１を持った表面不活性ガス層流
が回転ディスクの表面に生じる。この層流は不活性ガス
の粘性と遠心力とによるものである。回転ディスクとバ
ックプレート１０とは綾近しているので、その間に存在
する不活性ガスは遠心力によって半径方向の外方へ押し
出される。不活性ガス１１０１こ適当な圧力、たとえば
１〜２気圧（ゲージ圧）程度の圧力、を加えて逐次ホト
レジスト４の面に供給することにより、ホトレジスト４
の表面に不活性ガス１１０の層流が連続的に形成され、
不活性ガス１１０のフィルムがホトレジスト４の面に形
成されてホトレジスト４は空気と遮断される。回転ディ
スクを包囲する錘体構造の一部に排気ロー４を設けて、
乱流の発生を防止している。またバックプレート１０と
ホトレジスト４との間の間隙は、基板１がガラス板の場
合は１〜２脚にして好結果が得られた。更にバックプレ
ート１０がホトレジスト４に対向する面は、光５の再反
射を防ぐため、黒くするなどの方法によって反射率を下
げた方がよい。不活性ガス１１０の表面層流が外部から
乱されないようにするためにバックプレート１０、側板
１５、少なくとも一部が透明材でつくられた夫板１６で
形成された隆体で回転ディスクを囲っておいた方がよい
。
線で示すような流線１１１を持った表面不活性ガス層流
が回転ディスクの表面に生じる。この層流は不活性ガス
の粘性と遠心力とによるものである。回転ディスクとバ
ックプレート１０とは綾近しているので、その間に存在
する不活性ガスは遠心力によって半径方向の外方へ押し
出される。不活性ガス１１０１こ適当な圧力、たとえば
１〜２気圧（ゲージ圧）程度の圧力、を加えて逐次ホト
レジスト４の面に供給することにより、ホトレジスト４
の表面に不活性ガス１１０の層流が連続的に形成され、
不活性ガス１１０のフィルムがホトレジスト４の面に形
成されてホトレジスト４は空気と遮断される。回転ディ
スクを包囲する錘体構造の一部に排気ロー４を設けて、
乱流の発生を防止している。またバックプレート１０と
ホトレジスト４との間の間隙は、基板１がガラス板の場
合は１〜２脚にして好結果が得られた。更にバックプレ
ート１０がホトレジスト４に対向する面は、光５の再反
射を防ぐため、黒くするなどの方法によって反射率を下
げた方がよい。不活性ガス１１０の表面層流が外部から
乱されないようにするためにバックプレート１０、側板
１５、少なくとも一部が透明材でつくられた夫板１６で
形成された隆体で回転ディスクを囲っておいた方がよい
。
また、モータ６の軸とバックプレート１０との摺動部に
はシール付軸受１７を設けるが、この軸受１７は市販の
シール付ラジアルベアリングで十分である。不活性ガス
１１０としては窒素ガスを用いることが最も便利である
。以上説明したように、この発明によれば空気を断つた
めの真空容器や気密性の容器を必要とせずホトレジスト
を露光することができ、記録媒体がビデオディスクのよ
うに大形化しても、露光装置は比較的小形にかつ簡単な
構造で構成することができる。更に容器の気密性を常時
保持する必要が無く保守も便利であり、かつ不活性ガス
として使用する窒素ガスは入手し易いという利点を持っ
ている。したがってこの発明によれば簡単な構造で使用
に便利な露光装置を得ることができる。
はシール付軸受１７を設けるが、この軸受１７は市販の
シール付ラジアルベアリングで十分である。不活性ガス
１１０としては窒素ガスを用いることが最も便利である
。以上説明したように、この発明によれば空気を断つた
めの真空容器や気密性の容器を必要とせずホトレジスト
を露光することができ、記録媒体がビデオディスクのよ
うに大形化しても、露光装置は比較的小形にかつ簡単な
構造で構成することができる。更に容器の気密性を常時
保持する必要が無く保守も便利であり、かつ不活性ガス
として使用する窒素ガスは入手し易いという利点を持っ
ている。したがってこの発明によれば簡単な構造で使用
に便利な露光装置を得ることができる。
第１図はディスク記録原盤の製造工程を示す断面図、第
２図はこの発明の一実施例を示す断面図、第３図はこの
発明における不活性ガスの流れの一例を示す平面図であ
る。 図において１は透明基体、２は金属薄層、２１はビット
、４はホトレジスト、６はしジスト露光用光、６はモー
タ、７はターンテーフル、１川まバックプレート、１１
川ま不活性ガス、１１１は不活性ガスの流線である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示すものとす
る。第１図 第２図 第３図
２図はこの発明の一実施例を示す断面図、第３図はこの
発明における不活性ガスの流れの一例を示す平面図であ
る。 図において１は透明基体、２は金属薄層、２１はビット
、４はホトレジスト、６はしジスト露光用光、６はモー
タ、７はターンテーフル、１川まバックプレート、１１
川ま不活性ガス、１１１は不活性ガスの流線である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示すものとす
る。第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ホトレジスト層又はビームレジスト層が形成された
基板を装着してこの基板を回転させるターンテーブル、
上記ホトレジスト層又はビームレジスト層の表面に充分
近接して対向する表面を有するバツクプレート、上記ホ
トレジスト層又はビームレジスト層と上記バツクプレー
トとの間の空間において上記ホトレジスト層又はビーム
レジスト層の表面に不活性ガスの表面層流をつくるため
の不活性ガス供給機構、上記ホトレジスト層又はビーム
レジスト層を露光するための光源装置を備えたことを特
徴とする露光装置。 ２ 不活性ガスが窒素ガスで形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13707177A JPS6030018B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13707177A JPS6030018B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5469404A JPS5469404A (en) | 1979-06-04 |
| JPS6030018B2 true JPS6030018B2 (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=15190212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13707177A Expired JPS6030018B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6030018B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6954255B2 (en) | 2001-06-15 | 2005-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US6934003B2 (en) | 2002-01-07 | 2005-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
-
1977
- 1977-11-14 JP JP13707177A patent/JPS6030018B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5469404A (en) | 1979-06-04 |
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