JPS6032022A - コンタクトレンズ材料 - Google Patents
コンタクトレンズ材料Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C7/00—Optical parts
- G02C7/02—Lenses; Lens systems ; Methods of designing lenses
- G02C7/04—Contact lenses for the eyes
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコンタクトレンズ材料に係り、一般式%式%
れるポリシロキサニルアルキルエステルと、01〜C!
oの1価又は多価アルカノール若しくは芳香族アルコー
ルとメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸又はメチレ
ンマロン酸とのエステルとを少なくとも用いて共重合し
てなるので、例えば屈折率1.35〜1.60であシ、
かつ酸素透過性が大きく、さらには水濡れ性も良好であ
って、コンタクトレンズとして極めて優秀なものとなる
コンタクトレンズ材料を提供することを目的とする。
oの1価又は多価アルカノール若しくは芳香族アルコー
ルとメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸又はメチレ
ンマロン酸とのエステルとを少なくとも用いて共重合し
てなるので、例えば屈折率1.35〜1.60であシ、
かつ酸素透過性が大きく、さらには水濡れ性も良好であ
って、コンタクトレンズとして極めて優秀なものとなる
コンタクトレンズ材料を提供することを目的とする。
従来、例えばポリメチルメタクリレートを主成分とする
コンタクトレンズが実用化されて用いられている。この
コンタクトレンズの主成分であるポリメチルメタクリレ
ートは、光学性や耐久性に優れているといった大きなメ
リットがあるものの、コンタクトレンズ表面の水濡れ性
がそれ程良くないといったことより装用感がそれ程良く
なく、さらには酸素透過性が良くない為に角膜生理上連
続して長時間装着するといったことができない致命的欠
点がある。
コンタクトレンズが実用化されて用いられている。この
コンタクトレンズの主成分であるポリメチルメタクリレ
ートは、光学性や耐久性に優れているといった大きなメ
リットがあるものの、コンタクトレンズ表面の水濡れ性
がそれ程良くないといったことより装用感がそれ程良く
なく、さらには酸素透過性が良くない為に角膜生理上連
続して長時間装着するといったことができない致命的欠
点がある。
そこで、上記のようなハードタイプのコンタクトレンズ
の欠点を解決するものとして、例えばポリ2−ヒドロキ
シエチルメタクリレートを主成分とする含水性のコンタ
クトレンズが実用化されておシ、このようなソフトタイ
プのコンタクトレンズは水濡れ性が良いことよシ装用感
はある程度満足できるものの、酸素透過性は充分でなく
、長時間の連続装着はできない。
の欠点を解決するものとして、例えばポリ2−ヒドロキ
シエチルメタクリレートを主成分とする含水性のコンタ
クトレンズが実用化されておシ、このようなソフトタイ
プのコンタクトレンズは水濡れ性が良いことよシ装用感
はある程度満足できるものの、酸素透過性は充分でなく
、長時間の連続装着はできない。
そして、上記ポリメチルメタクリレート又はポリ2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートを主成分とするコンタク
トレンズを越えるコンタクトレンズとして、シリコン樹
脂よりなるコンタクトレンズが提案されたシ、するいは
酸素透過性は大きいといった最大の特長を有するシリコ
ン樹脂を変性して永濡れ性もある程度改良した変性シリ
コン樹脂よりなるコンタクトレンズが提案され、一部に
おいては実用化もされているが、水濡れ性及び酸素透過
性共に良く、装用感良く長時間連続装着するには充分な
ものではない。
ドロキシエチルメタクリレートを主成分とするコンタク
トレンズを越えるコンタクトレンズとして、シリコン樹
脂よりなるコンタクトレンズが提案されたシ、するいは
酸素透過性は大きいといった最大の特長を有するシリコ
ン樹脂を変性して永濡れ性もある程度改良した変性シリ
コン樹脂よりなるコンタクトレンズが提案され、一部に
おいては実用化もされているが、水濡れ性及び酸素透過
性共に良く、装用感良く長時間連続装着するには充分な
ものではない。
本発明は上記欠点を除去したものであり、以下その実施
例について説明する。
例について説明する。
すなわち、次の一般式(+)又は(II)■
H2
0=C−0−R。
o=a−0−R。
(但し、(1)又は(It)式中、R,、R1,’ 、
R,、//は0.〜C5のアルキル基又は芳香族基、
tは1〜5帷数、R,、R,3はC1〜C5のアルキル
基、芳香族基又は(Y基)でちる) で表わされるポリシロキサニルアルキルエステルと、0
1〜C2゜の1価又は多価アルカノールは芳香族アルコ
ールとメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸又はメチ
レンマロン酸とのエステルとを用いて共重合させたコポ
リマーよりコンタクト −レンズを構成することにより
、水濡れ性及び酸素透過性共に優れ、装用感よく連続装
着可能なコンタクトレンズを開発したのである。
R,、//は0.〜C5のアルキル基又は芳香族基、
tは1〜5帷数、R,、R,3はC1〜C5のアルキル
基、芳香族基又は(Y基)でちる) で表わされるポリシロキサニルアルキルエステルと、0
1〜C2゜の1価又は多価アルカノールは芳香族アルコ
ールとメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸又はメチ
レンマロン酸とのエステルとを用いて共重合させたコポ
リマーよりコンタクト −レンズを構成することにより
、水濡れ性及び酸素透過性共に優れ、装用感よく連続装
着可能なコンタクトレンズを開発したのである。
同、上記一般式(1)又は(II)のポリシロキサニル
アルキ/lzエステルとエステルとの組成比は、重量比
で約5〜80:20〜95にしておくことが望ましかっ
た。
アルキ/lzエステルとエステルとの組成比は、重量比
で約5〜80:20〜95にしておくことが望ましかっ
た。
本発明に用いたポリシロキサニルアルキルエステルとし
ては、例えば一般式(+)において、R1゜](、、/
、 R,、//、 R1,R3,R4がいずれもメチ
ル基でtが1の、メチル= 3− (3−(1,1,3
,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピル)オ
キシカルボニル−3−ブチナート、R1,R1’、几、
”、R,がメチル基、R3がフェニル基、R4がエチル
基でtが1の、エチル=3−(3−(1,3,3,3−
テトラメチル−1−フェニルジシロキサニル)フロビル
)オキシカルボニル−3−ブテナー)、R,、R□′。
ては、例えば一般式(+)において、R1゜](、、/
、 R,、//、 R1,R3,R4がいずれもメチ
ル基でtが1の、メチル= 3− (3−(1,1,3
,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピル)オ
キシカルボニル−3−ブチナート、R1,R1’、几、
”、R,がメチル基、R3がフェニル基、R4がエチル
基でtが1の、エチル=3−(3−(1,3,3,3−
テトラメチル−1−フェニルジシロキサニル)フロビル
)オキシカルボニル−3−ブテナー)、R,、R□′。
几1“がメチル基、gz、g3がフェニル基、R4がプ
ロピル基でtが1の、プロピル=3−〇−(3,3,3
ル基、R,’ 、 R1”がメチル基、几2.R3がフ
ェニル基、R4がヘキシル基でtが1の、ヘキシル−3
−(3−(3,’3−ジメチルー3−ペンチルー1,1
−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシカルボ
ニル−3−ブチナート、R1カフェニル基、R1′、几
、、R,がメチル基、R3がイソブチル基、R1がイソ
ブチル基でtが1の、イソプロピル=3−(3−(1−
インブチル−1,3,3−4リメチル−3−フェニルジ
シロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチ
ナート、Rtがペンチル基、R1,’ 、 R1’がメ
チル基、R,、R,3がフェニル基、′fL4がネオペ
ンチル基でtが1の、ネオベ/チル−3’−(3−(3
,3−ジメチル−3−ペンチル−1,1−ジフェニルシ
フ0キサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチ
ナート、R,がメチル基、R1′、凡、′がフェニル基
、R’2 rR3,R1がメチル基でtが1の、メチル
=3−(3−(1,1゜3− ) !J メチル−3,
3−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシカル
ボニル−3−ブチナート、J 、 R1’ 、 R1’
、 Rt 、几、がメチル基、几、がヒドロキシエチ
ル基でtが1の、2−ヒドロキシエチル−3−(3−(
1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R1,、
R,’ 、 R,” 、几、がメチル基、几2がX基、
几、がジフェニルメチル基でtが1の、ジフェニルメチ
ル=3− (3−(1,3,3,3−テトラメチル−1
−((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R,、R
,/ 、 Rlttがメチル基、R2゜R3がX基、几
、がフェネチル基でtが1の、フェネチル=3−(3−
(3,3,3−トリメチル−1,1−ビス((トリメチ
ルノリル)オキシ)ジンロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、R,、&がフェニル基、
R,’、R+、〃がメチル基、R1がX基、R4がイソ
ペンチル基でtが2の、インペンチル−3” (3−(
1,3,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ジフェニ
ル−1−((テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシ
ロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナ
ート、R1がベンジル基、几、/ 、 l(、、//が
メチル基、R,、R3がメチル基、R2がフェネチル基
でtが2の、フェネチル−3−(,3−(5−ベンジル
−1,1,3゜3.5.5−へキサメチルジシロキサニ
ル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R
,、R,/ 、−R+’ + R2’+ R3がメチル
基、R4がオクチル基でlが3の、オクチル=3−(3
−(ノナメチルテトラシロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、R,、R,’ 、 R,
”がメチル基、馬。
ロピル基でtが1の、プロピル=3−〇−(3,3,3
ル基、R,’ 、 R1”がメチル基、几2.R3がフ
ェニル基、R4がヘキシル基でtが1の、ヘキシル−3
−(3−(3,’3−ジメチルー3−ペンチルー1,1
−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシカルボ
ニル−3−ブチナート、R1カフェニル基、R1′、几
、、R,がメチル基、R3がイソブチル基、R1がイソ
ブチル基でtが1の、イソプロピル=3−(3−(1−
インブチル−1,3,3−4リメチル−3−フェニルジ
シロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチ
ナート、Rtがペンチル基、R1,’ 、 R1’がメ
チル基、R,、R,3がフェニル基、′fL4がネオペ
ンチル基でtが1の、ネオベ/チル−3’−(3−(3
,3−ジメチル−3−ペンチル−1,1−ジフェニルシ
フ0キサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチ
ナート、R,がメチル基、R1′、凡、′がフェニル基
、R’2 rR3,R1がメチル基でtが1の、メチル
=3−(3−(1,1゜3− ) !J メチル−3,
3−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシカル
ボニル−3−ブチナート、J 、 R1’ 、 R1’
、 Rt 、几、がメチル基、几、がヒドロキシエチ
ル基でtが1の、2−ヒドロキシエチル−3−(3−(
1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R1,、
R,’ 、 R,” 、几、がメチル基、几2がX基、
几、がジフェニルメチル基でtが1の、ジフェニルメチ
ル=3− (3−(1,3,3,3−テトラメチル−1
−((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R,、R
,/ 、 Rlttがメチル基、R2゜R3がX基、几
、がフェネチル基でtが1の、フェネチル=3−(3−
(3,3,3−トリメチル−1,1−ビス((トリメチ
ルノリル)オキシ)ジンロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、R,、&がフェニル基、
R,’、R+、〃がメチル基、R1がX基、R4がイソ
ペンチル基でtが2の、インペンチル−3” (3−(
1,3,3,5,5−ペンタメチル−1,5−ジフェニ
ル−1−((テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシ
ロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナ
ート、R1がベンジル基、几、/ 、 l(、、//が
メチル基、R,、R3がメチル基、R2がフェネチル基
でtが2の、フェネチル−3−(,3−(5−ベンジル
−1,1,3゜3.5.5−へキサメチルジシロキサニ
ル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R
,、R,/ 、−R+’ + R2’+ R3がメチル
基、R4がオクチル基でlが3の、オクチル=3−(3
−(ノナメチルテトラシロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、R,、R,’ 、 R,
”がメチル基、馬。
R3がフェニル基、R1がノナデシル基でtが3の、ノ
ナデシル−3−(3−(7,7,7,5,5,3,3−
ヘプタメチル−1,1−ジフェニルテトラシロキサニル
)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R7
’、R,″がメチル基、R,、R,2,Iも3がフェニ
ル基、几、がベンジル基でtが3の、ベンジル=3−
(3,3,5,5,7,7−へキサメチル−1,1,7
−トリフエニルテトラシロキサニル)フロビル)オキ/
カルボニル−3−ブチナート、R,、R,’ 、R,”
。
ナデシル−3−(3−(7,7,7,5,5,3,3−
ヘプタメチル−1,1−ジフェニルテトラシロキサニル
)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R7
’、R,″がメチル基、R,、R,2,Iも3がフェニ
ル基、几、がベンジル基でtが3の、ベンジル=3−
(3,3,5,5,7,7−へキサメチル−1,1,7
−トリフエニルテトラシロキサニル)フロビル)オキ/
カルボニル−3−ブチナート、R,、R,’ 、R,”
。
R2,几3がメチル基、R2がフェオ・チル基でtが5
の、フェネチル−3−(3−(ト!Jデカメチルへキサ
シロキサニル)プロピル)オキシヵルポニル=3−ブチ
ナート、又、一般式(II)において、R1゜几□’
、 R2H,R12、Rs 、 R4がメチル基でtが
1の、3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロ
キサニル)プロプル=3−メトキシカルボニル−3−ブ
チナート、R+’ + R1’ 、 R2H,R2がメ
チル基、R3がフェニル基、R4がエチル基でtが1の
、3− (’1,3゜3.3−テトラメチル−1−フェ
ニルジ70キサニル)プロピル−3−エトキシカルボニ
ル−3−ブチナート、R□、 R,’、 11+、”が
メチル基、R2,R3がネオペンチル基、R6がプロピ
ル基でtが1の、3− (3,3,3−)ジメチル−1
,1−ジ不オベンチルジシ口キサニル)プロピル−3−
プロピルオキシカルボニル−3−ブチナート、R1がイ
ソペンチル基、R□’、R1,’がメチル基、R,、R
,がフェニル基、R4がノニル基でtが1の、3− (
3,3−ジメチル−3−イソペンチル−1,1−ジフェ
ニルジシロキサニル)フロビル=3−ノニルオキシヵル
ボニ# −3−フテナー)、’Lがイソプロピル基、R
,’。
の、フェネチル−3−(3−(ト!Jデカメチルへキサ
シロキサニル)プロピル)オキシヵルポニル=3−ブチ
ナート、又、一般式(II)において、R1゜几□’
、 R2H,R12、Rs 、 R4がメチル基でtが
1の、3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロ
キサニル)プロプル=3−メトキシカルボニル−3−ブ
チナート、R+’ + R1’ 、 R2H,R2がメ
チル基、R3がフェニル基、R4がエチル基でtが1の
、3− (’1,3゜3.3−テトラメチル−1−フェ
ニルジ70キサニル)プロピル−3−エトキシカルボニ
ル−3−ブチナート、R□、 R,’、 11+、”が
メチル基、R2,R3がネオペンチル基、R6がプロピ
ル基でtが1の、3− (3,3,3−)ジメチル−1
,1−ジ不オベンチルジシ口キサニル)プロピル−3−
プロピルオキシカルボニル−3−ブチナート、R1がイ
ソペンチル基、R□’、R1,’がメチル基、R,、R
,がフェニル基、R4がノニル基でtが1の、3− (
3,3−ジメチル−3−イソペンチル−1,1−ジフェ
ニルジシロキサニル)フロビル=3−ノニルオキシヵル
ボニ# −3−フテナー)、’Lがイソプロピル基、R
,’。
R2Hがメチル基、”;’l’3がエチル基、R4がド
デシル基でtが1の、3− (1,1−ジエチル−3,
3〜ジメチル−3−イノプロビルジシロキサニル)プロ
ビル−3−ドデシルオキシカルボニル−3−プテナー)
、Rtがネオペンチル基、R,’、R,”がメチルM
、R2、R3がフェニル基、靴がイソブチル基でtが1
の、3− (3,3−ジメチル−3−不オペンチル−1
,1−ジフェニルジシロキサニル)プロピル=3−ネオ
ペンチルオキシカルボニル−3=ブチナート、R1カメ
チル基、R,’ 、 R1’ 、 R2、R3。
デシル基でtが1の、3− (1,1−ジエチル−3,
3〜ジメチル−3−イノプロビルジシロキサニル)プロ
ビル−3−ドデシルオキシカルボニル−3−プテナー)
、Rtがネオペンチル基、R,’、R,”がメチルM
、R2、R3がフェニル基、靴がイソブチル基でtが1
の、3− (3,3−ジメチル−3−不オペンチル−1
,1−ジフェニルジシロキサニル)プロピル=3−ネオ
ペンチルオキシカルボニル−3=ブチナート、R1カメ
チル基、R,’ 、 R1’ 、 R2、R3。
R4がメチル基でtが1の、’3− (3−ベンジル−
1,1,3,3−テトラメチルジ/ロキサニル)プロピ
ル−3−メトキシカルボニル−3−ブチナート、R11
、R,’ 、 R,// 、 R12,几3がメチル基
、R4がヒドロキシエチル基でtが1の、3−(1,R
3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピル=
3−(2−とドロキシエチル)オキジカルボニル−3−
ブチナート、RI HR1’ 、 R1″、 R3がメ
チル基、R2がX基、R4−がフェネチル基でtが1の
、3−(1゜3.3.3−テトラメチル−17(()リ
メチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロピル−3
−フェネチルオキシカルボニル−3−ブテナーhJ1.
。
1,1,3,3−テトラメチルジ/ロキサニル)プロピ
ル−3−メトキシカルボニル−3−ブチナート、R11
、R,’ 、 R,// 、 R12,几3がメチル基
、R4がヒドロキシエチル基でtが1の、3−(1,R
3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピル=
3−(2−とドロキシエチル)オキジカルボニル−3−
ブチナート、RI HR1’ 、 R1″、 R3がメ
チル基、R2がX基、R4−がフェネチル基でtが1の
、3−(1゜3.3.3−テトラメチル−17(()リ
メチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロピル−3
−フェネチルオキシカルボニル−3−ブテナーhJ1.
。
R1′、几、′がメチル基、几2.几、がX基、■も、
がプロピル基でtが1の、3− (3,3,3−)リメ
チルー1.1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジ
シロキサニル)フロピルー3−7’口ビルオキ7カルボ
ニル−3−ブチナート、l(、、、11,3がフェニル
基、R,’ 、 R,”がメチル基、R2がX基、R1
がイソブチル基でtが2の、3−(1,3,3,5,5
−ペンタメチル−1,5−ジフェニル−1−((テトラ
メチルフェニルジシロキシ)トリシロキサニル)プロピ
ル=3−インプチルオキシカルボニル−3−ブチナート
、R1カベンジル基、几、′、几、′がエチル基、R2
,R,がメチル基、R6がフェネチル基でtが2の、3
−(5−ベンジル−3,3,5,5−テトラエチ#−1
,1−シフエ不チル) IJシロキサニル)プロピル−
3−フェネチルオキシカルボニル−3−ブチナート、R
1、R1’ 、 R1’ 、 R2、R31R4がメチ
ル基でtが3の、3−(ノナメチルテトラフロキサニル
)プロピル=3−メトキシカルボニル−3−ブチナート
、”+ 、 R,’ 、 H,itがメチル基、几2.
R3がフェニル基、几、がベンジル基でtが3の、3−
(3゜3.5,5,7,7.7−へブタメチル−1,1
−ジフェニルf I−ラシロキサニル)プロピル−3−
ベンジルオキシカルボニル−3−ブチナート、R,、R
2,R。
がプロピル基でtが1の、3− (3,3,3−)リメ
チルー1.1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジ
シロキサニル)フロピルー3−7’口ビルオキ7カルボ
ニル−3−ブチナート、l(、、、11,3がフェニル
基、R,’ 、 R,”がメチル基、R2がX基、R1
がイソブチル基でtが2の、3−(1,3,3,5,5
−ペンタメチル−1,5−ジフェニル−1−((テトラ
メチルフェニルジシロキシ)トリシロキサニル)プロピ
ル=3−インプチルオキシカルボニル−3−ブチナート
、R1カベンジル基、几、′、几、′がエチル基、R2
,R,がメチル基、R6がフェネチル基でtが2の、3
−(5−ベンジル−3,3,5,5−テトラエチ#−1
,1−シフエ不チル) IJシロキサニル)プロピル−
3−フェネチルオキシカルボニル−3−ブチナート、R
1、R1’ 、 R1’ 、 R2、R31R4がメチ
ル基でtが3の、3−(ノナメチルテトラフロキサニル
)プロピル=3−メトキシカルボニル−3−ブチナート
、”+ 、 R,’ 、 H,itがメチル基、几2.
R3がフェニル基、几、がベンジル基でtが3の、3−
(3゜3.5,5,7,7.7−へブタメチル−1,1
−ジフェニルf I−ラシロキサニル)プロピル−3−
ベンジルオキシカルボニル−3−ブチナート、R,、R
2,R。
がフェニル基、R,’ 、 R,” 、 R,がメチル
基でtが3の、3− (3,3,5,5,7,7−へキ
サメチル−1,1,7−) IJフェニルテトラ70キ
サニル)フロピルー2−メトキシカルボニル−3−ブチ
ナート、R1゜R2,R3がベンジル基、R,’ 、
R+、〃、 R,がメチル基でtが5の、3− (1,
1,11−トリベングルー3,3I5.5,7,7,9
,9,11.11−デカメチル\キサ70キサニル)フ
ロピルー2−メトキシカルボニル−3−ブチナート、又
、一般式(+)において、R1+ Rl’ + R−:
11(,2,R3がメチル基、R1がY基でtが1の
、3−(1,1,3,3,3−ヘンタメチルジゾロキサ
ニル)プロピル−3−(3’−(1,1,3,3,3−
ペンタメチルジシロキサニル)フロピルーオキシカルボ
ニル−3−ブチナート、几+;R,’、R+、”、R2
がメチル基、R3がフェニル基、R2がY基でtが1の
、3−(1,3,3,3−テトラメチル−1−フェニル
ジ70キサニル)プロピル−3−(3−(R3,3,3
−テトラメチル−1−フェニルジシロキサニル)フロビ
ル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R1がイソプ
ロピル基、R,’、1%、”がメチル基、Ra 、 R
3がエチル基、几、がY基でtが1の、3−(1,1−
ジエチル−3,3−ジメチル−3−イソプロビルジシロ
キサニル)プロピルー:3−(3−(r、1−ジエチル
−3,3−ジメチル−3−イソプロビルジシロキサニル
)フロビル)オキシカルボニル−3−ブテナー1−1R
,がイソペンチル基、R,/、R□′がメチル基、R1
,、R,がフェニル基、R2がY基でtが1の、3−
(3,3−ジメチル−3−イソペンチ/l/−t4−シ
フェニルシ/ロキサニル)プロピル=3−(3−(3,
3−ジメチル−3−イソペンチル−1,1−シフェニル
ジシロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R,、R,’。
基でtが3の、3− (3,3,5,5,7,7−へキ
サメチル−1,1,7−) IJフェニルテトラ70キ
サニル)フロピルー2−メトキシカルボニル−3−ブチ
ナート、R1゜R2,R3がベンジル基、R,’ 、
R+、〃、 R,がメチル基でtが5の、3− (1,
1,11−トリベングルー3,3I5.5,7,7,9
,9,11.11−デカメチル\キサ70キサニル)フ
ロピルー2−メトキシカルボニル−3−ブチナート、又
、一般式(+)において、R1+ Rl’ + R−:
11(,2,R3がメチル基、R1がY基でtが1の
、3−(1,1,3,3,3−ヘンタメチルジゾロキサ
ニル)プロピル−3−(3’−(1,1,3,3,3−
ペンタメチルジシロキサニル)フロピルーオキシカルボ
ニル−3−ブチナート、几+;R,’、R+、”、R2
がメチル基、R3がフェニル基、R2がY基でtが1の
、3−(1,3,3,3−テトラメチル−1−フェニル
ジ70キサニル)プロピル−3−(3−(R3,3,3
−テトラメチル−1−フェニルジシロキサニル)フロビ
ル)オキシカルボニル−3−ブチナート、R1がイソプ
ロピル基、R,’、1%、”がメチル基、Ra 、 R
3がエチル基、几、がY基でtが1の、3−(1,1−
ジエチル−3,3−ジメチル−3−イソプロビルジシロ
キサニル)プロピルー:3−(3−(r、1−ジエチル
−3,3−ジメチル−3−イソプロビルジシロキサニル
)フロビル)オキシカルボニル−3−ブテナー1−1R
,がイソペンチル基、R,/、R□′がメチル基、R1
,、R,がフェニル基、R2がY基でtが1の、3−
(3,3−ジメチル−3−イソペンチ/l/−t4−シ
フェニルシ/ロキサニル)プロピル=3−(3−(3,
3−ジメチル−3−イソペンチル−1,1−シフェニル
ジシロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R,、R,’。
RI′がメチル基、R1,、R13がインブチル基、R
4がY基でtが1の、3− (1,1−ジイソブチル−
3,3,3−トリメチルジゾロキサニル)フロビルー3
−(Δ二(1,1−ジイソブチル− ジゾロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R1がネオペンチル基、R,′。
4がY基でtが1の、3− (1,1−ジイソブチル−
3,3,3−トリメチルジゾロキサニル)フロビルー3
−(Δ二(1,1−ジイソブチル− ジゾロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R1がネオペンチル基、R,′。
R1′がメチル基、R= 、 R3がフェニル基、R4
がY基でtが1の、3 − ( 3.3−ジメチル−3
−不オペンチル−1,1−ジフェニルジシロキサニル)
プロピル= 3 − ( 3−( 3.3−ジメチル−
3−ネオペンチル−1,1−ジフェニルジシロキサ=
# ) フロビル)オキシカルボニル−3−ブテナー)
、R。
がY基でtが1の、3 − ( 3.3−ジメチル−3
−不オペンチル−1,1−ジフェニルジシロキサニル)
プロピル= 3 − ( 3−( 3.3−ジメチル−
3−ネオペンチル−1,1−ジフェニルジシロキサ=
# ) フロビル)オキシカルボニル−3−ブテナー)
、R。
がベンジル基、R11’ 、 R,〃, R2 、 R
3力iメチル幕、R4がY基でtが1の、3−(3−ベ
ンジル−1.1,3。
3力iメチル幕、R4がY基でtが1の、3−(3−ベ
ンジル−1.1,3。
3−テトラメチルジシロキサニル)プロピル−3−(3
−(3−ベンジル−1.1,3,3−テトラメチルジフ
ロキサニル)プロピル)オキ/カルボニル−3−ブチナ
ート、R11 + R1’ 、 R1’ 、 R2がメ
チル基、I(、3がY基、几4がY基でtが1の、3
− ( 1,3,3。
−(3−ベンジル−1.1,3,3−テトラメチルジフ
ロキサニル)プロピル)オキ/カルボニル−3−ブチナ
ート、R11 + R1’ 、 R1’ 、 R2がメ
チル基、I(、3がY基、几4がY基でtが1の、3
− ( 1,3,3。
3−テトラメチル−1−(()リメチルンリル)オキシ
)ジシロキサニル)プロピル=3−(3−( 1,3,
3.3−テトラメチル−1−(()リメチルシリル)オ
キシ)ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−
3−ブチナート、R,、 R 、’ 、 R 1’がメ
チル基、几,、R3がY基、几,がy7でtが1の、3
− ( 3,3.3 − )ジメチル−1,1−ビス
((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロ
ピル=3 − ( 3 − ( 3,3.3 − )ジ
メチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)
ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R, 、 R3がフェニル基、R,’ 、
R11”がメチル基、R,がY基、R4がY基でtが2
の、3−( 1,3,3。
)ジシロキサニル)プロピル=3−(3−( 1,3,
3.3−テトラメチル−1−(()リメチルシリル)オ
キシ)ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−
3−ブチナート、R,、 R 、’ 、 R 1’がメ
チル基、几,、R3がY基、几,がy7でtが1の、3
− ( 3,3.3 − )ジメチル−1,1−ビス
((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロ
ピル=3 − ( 3 − ( 3,3.3 − )ジ
メチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)
ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート、R, 、 R3がフェニル基、R,’ 、
R11”がメチル基、R,がY基、R4がY基でtが2
の、3−( 1,3,3。
5、5°−ペンタメチル−1,5−ジフェニル−1−(
(テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシロキサニル
)プロピル= 3 − ( 3 − ( 1,3,3,
5.5 −ペンタメチル−1,5−ジフェニル−1,−
( (テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシロキサ
ニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、
几,、 Rn’ 、 R,〃r R2 r Rsがメチ
ル基、R,がY基でtが2の、3−(ヘプタメチルトリ
ノロキサニル)プロピル=3−(3−(ヘプタメチルト
リノロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−フ
チナート%’ RI H R1’ H几X”、几2,几
3がメチル基、R。
(テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシロキサニル
)プロピル= 3 − ( 3 − ( 1,3,3,
5.5 −ペンタメチル−1,5−ジフェニル−1,−
( (テトラメチルフェニルジシロキシ)トリシロキサ
ニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、
几,、 Rn’ 、 R,〃r R2 r Rsがメチ
ル基、R,がY基でtが2の、3−(ヘプタメチルトリ
ノロキサニル)プロピル=3−(3−(ヘプタメチルト
リノロキサニル)フロビル)オキシカルボニル−3−フ
チナート%’ RI H R1’ H几X”、几2,几
3がメチル基、R。
がY基でtが3の、3−(ノナメチルテトラシロキサニ
ル)プロピル−3’−(3−(ノナメチルテトラシロキ
サニル)フロビル)オキ/カルボニル−3−ブチナート
、几, 、 R,’ 、 R1,”がメチル基、馬。
ル)プロピル−3’−(3−(ノナメチルテトラシロキ
サニル)フロビル)オキ/カルボニル−3−ブチナート
、几, 、 R,’ 、 R1,”がメチル基、馬。
R3がフェニル基、R4がY基でtが3の、3−( ’
3,3,5,5,7.7−へキサメチル−1,1−ジフ
ェニルテトラシロキサニル)プロピル−3−(3−(
3,3,5,5,7.7−へキサメチル−1,1−ジフ
ェニルテトラシロキサニ/l/ )プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、Rt 、 Rt 、 Ra
がフェニル基、几,/ 、 R 、//がメチル基、R
4がY基でtが3の、3 − ( 3,3,5,5,7
.7−へキサメチル−1.1.7−1−ジフェニルテト
ラシロキサニル)プロピル=3−( 3 − (’ 3
,3,5,5,7.7−へキサメチル−1.1.7 −
トリフェニルテトラシロキサニル)プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、R1がベンシール基、R1
,’ 、 R1,”がメチル基、几,、R3がY基、R
。
3,3,5,5,7.7−へキサメチル−1,1−ジフ
ェニルテトラシロキサニル)プロピル−3−(3−(
3,3,5,5,7.7−へキサメチル−1,1−ジフ
ェニルテトラシロキサニ/l/ )プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、Rt 、 Rt 、 Ra
がフェニル基、几,/ 、 R 、//がメチル基、R
4がY基でtが3の、3 − ( 3,3,5,5,7
.7−へキサメチル−1.1.7−1−ジフェニルテト
ラシロキサニル)プロピル=3−( 3 − (’ 3
,3,5,5,7.7−へキサメチル−1.1.7 −
トリフェニルテトラシロキサニル)プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、R1がベンシール基、R1
,’ 、 R1,”がメチル基、几,、R3がY基、R
。
がY基でtが1の、3−(3−ベンジル−3,3−ジメ
チル−1,1−ビス((ジメチルベンジルゾリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル−3=(3−ベンジル−
3.3−ジメチル−1,1−ビス((ジメチルベンジル
シリル)オキシ)ジ/ロキサニル)プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、R,、R,”、 R工′が
メチル基、R−、RaがX基、R4がメチル基でtが1
の、メチル−3−(3−(3,3,3−トリメチル−1
,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサ
ニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、
t+、 、 rc1′。
チル−1,1−ビス((ジメチルベンジルゾリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル−3=(3−ベンジル−
3.3−ジメチル−1,1−ビス((ジメチルベンジル
シリル)オキシ)ジ/ロキサニル)プロピル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、R,、R,”、 R工′が
メチル基、R−、RaがX基、R4がメチル基でtが1
の、メチル−3−(3−(3,3,3−トリメチル−1
,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサ
ニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、
t+、 、 rc1′。
R11”がメチル基、& 、 &がX基、R4がエチル
基でtが1の、エチル= 3− (3−(3,3,3−
)ジメチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3
−ブチナート、R1,R,’ 、 Ro”がメチル基、
R7がエチル基、R3がX基、R4がブチル基でtが1
の、ブチル=3−(3−(1−エチル−3゜3.3−
トリメチル−1−(()リメチルシリル)オキシ)ジシ
ロキサニル)プロピル)オキシカルホ゛ニルー3−ブチ
ナート、几、 、 R1’ ; R,’がメチル基、R
2,R3がフェニル基、R4がイノプロピル基でLが1
の、イソプロピル−3−(3−(3,3−トリメチル−
1,1−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、又、一般式(n)におい
て、R11,R1,/、几、〃がメツチル蟇、R,、R
3がX基、R4がフェネチル基5でtが1の、3−(3
,3,3−)ジメチル−1,1−ビス((トリメチルシ
リル)オキシ゛)ジシロキサニル)プロピル=3−7エ
ネチルオキシカルボニルー3−ブチナート、R工r R
1’ + R1’がメチル基、I’(、、R,3がX基
、R1がメチル基でtが1の、a −4(3,3,3−
トリメチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル−3−メトキシカルボニ
ル−3−ブチナート、RN 、 R,’ 、 B、tt
がメチル基、R1,、R13がフェニル基、R1がプロ
ピル基でtが2の、プロピル= 3− (3−(3,3
,5,5,5−ペンタメチル−1,1−ジフェニル)フ
ロビル)オキシカルボニル−3−プテナー+−1R,が
フェニル基、R1’ 、 R工” 、 R1,、&がメ
チル基、几、がY基でtが1の、3− (1,1,3,
3−テトラメチル−3−フェニルジシロキサニル)フロ
ビルー3−(3−(1,1,3,3−テトラメチル−3
−フェニルジノロキサニル)フロビル)オキシカルボニ
ル−3−ブチナート等がある。
基でtが1の、エチル= 3− (3−(3,3,3−
)ジメチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル)オキシカルボニル−3
−ブチナート、R1,R,’ 、 Ro”がメチル基、
R7がエチル基、R3がX基、R4がブチル基でtが1
の、ブチル=3−(3−(1−エチル−3゜3.3−
トリメチル−1−(()リメチルシリル)オキシ)ジシ
ロキサニル)プロピル)オキシカルホ゛ニルー3−ブチ
ナート、几、 、 R1’ ; R,’がメチル基、R
2,R3がフェニル基、R4がイノプロピル基でLが1
の、イソプロピル−3−(3−(3,3−トリメチル−
1,1−ジフェニルジシロキサニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、又、一般式(n)におい
て、R11,R1,/、几、〃がメツチル蟇、R,、R
3がX基、R4がフェネチル基5でtが1の、3−(3
,3,3−)ジメチル−1,1−ビス((トリメチルシ
リル)オキシ゛)ジシロキサニル)プロピル=3−7エ
ネチルオキシカルボニルー3−ブチナート、R工r R
1’ + R1’がメチル基、I’(、、R,3がX基
、R1がメチル基でtが1の、a −4(3,3,3−
トリメチル−1,1−ビス((トリメチルシリル)オキ
シ)ジシロキサニル)プロピル−3−メトキシカルボニ
ル−3−ブチナート、RN 、 R,’ 、 B、tt
がメチル基、R1,、R13がフェニル基、R1がプロ
ピル基でtが2の、プロピル= 3− (3−(3,3
,5,5,5−ペンタメチル−1,1−ジフェニル)フ
ロビル)オキシカルボニル−3−プテナー+−1R,が
フェニル基、R1’ 、 R工” 、 R1,、&がメ
チル基、几、がY基でtが1の、3− (1,1,3,
3−テトラメチル−3−フェニルジシロキサニル)フロ
ビルー3−(3−(1,1,3,3−テトラメチル−3
−フェニルジノロキサニル)フロビル)オキシカルボニ
ル−3−ブチナート等がある。
次に、上記ポリシロキサニルアルキルエステルの幾つか
の製造法を説明する。
の製造法を説明する。
0− S iMe3
OH。
0=0−0−0)13
(メチル= 3− (3−(3,3,3−トリメチル−
1,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキ
サニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート
、以下PSM−Iと略す)の合成。
1,1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキ
サニル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート
、以下PSM−Iと略す)の合成。
還流冷却器、温度計、滴下ロート、スクーラーを取り付
けた三つロフラスコに1.イタコン酸メチルアリルエス
テル約1モルと塩化白金酸10−5モルを加えて約50
℃に加温し、次いでトリクロロシラン1.1モルを滴下
する。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反応
を行なわしめ、メチル=3−(3−(トリクロロシリル
)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナートを得ル
。
けた三つロフラスコに1.イタコン酸メチルアリルエス
テル約1モルと塩化白金酸10−5モルを加えて約50
℃に加温し、次いでトリクロロシラン1.1モルを滴下
する。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反応
を行なわしめ、メチル=3−(3−(トリクロロシリル
)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナートを得ル
。
次に、上記と同様なフラスコに、イソプロピルアルコー
ル9モルを入れ、これに上記メチル−3−(3−、(1
1クロロゾリル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート1モルとトリメチルクロロシラ76モルの混合
物を攪拌し力から滴下し、さらに水9モルを加え、その
後65℃に加温して攪拌する。そして、冷却後有機層を
分離し、中性になるまで水洗し、減圧下で低沸点物を留
去し、0.1μmのメンブランフィルタ−で口過すると
、約90%の収率でPSM−Iが得られる。
ル9モルを入れ、これに上記メチル−3−(3−、(1
1クロロゾリル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナート1モルとトリメチルクロロシラ76モルの混合
物を攪拌し力から滴下し、さらに水9モルを加え、その
後65℃に加温して攪拌する。そして、冷却後有機層を
分離し、中性になるまで水洗し、減圧下で低沸点物を留
去し、0.1μmのメンブランフィルタ−で口過すると
、約90%の収率でPSM−Iが得られる。
0−80−8i
CH2
■
0=O−0−CH,−0H3
(エチル−3−(3−(3,3,3−)リメチルー1.
1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)シフ0キサニ
ル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以
下PSM−Uと略す)の合成。
1−ビス((トリメチルシリル)オキシ)シフ0キサニ
ル)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以
下PSM−Uと略す)の合成。
上記PSM−Iの合成に際してのイタコン酸メチルアリ
ルエステルをイタコン酸エチルアリルエステルに代えて
同様にすることにより、psM−uが約90%の収率で
得られる。
ルエステルをイタコン酸エチルアリルエステルに代えて
同様にすることにより、psM−uが約90%の収率で
得られる。
0−8iMe3
OH2
0= OO(OH2) 30 H3
(ブチル=3−(3−(1−エチル−3,3,3−トリ
メチル−1−(()リメチルシリル)オキシ)ジシロキ
サニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート
、以下PSM−mと略す)の合成。
メチル−1−(()リメチルシリル)オキシ)ジシロキ
サニル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート
、以下PSM−mと略す)の合成。
還流冷却器、温度計、滴下ロート、スターラーを取り付
けた三つロフラスコに、イタコン酸ブチルアリルエステ
ル約1モルと塩化白金酸1o−5モルを加えて約50℃
に加温し、次いでエチルジクロロシラン1.1モルを滴
下する。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反
応を行なわしめ、ブチル=3−(3−(エチルジクロロ
シリル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート
を得る。
けた三つロフラスコに、イタコン酸ブチルアリルエステ
ル約1モルと塩化白金酸1o−5モルを加えて約50℃
に加温し、次いでエチルジクロロシラン1.1モルを滴
下する。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反
応を行なわしめ、ブチル=3−(3−(エチルジクロロ
シリル)プロピル)オキシカルボニル−3−ブチナート
を得る。
次に、上記と同様なフラスコに、イノプロピルアルコー
ル6モルを入れ、これに上記ブチル−3−(3−(エチ
ルジクロロシリル)フロビル)オキシカルボニル−3−
ブチナート1モルとトリメチルクロロシラン6モルの混
合物を攪拌しながら滴下し、さらに6モルの水を加え、
その後65℃に加温して攪拌する。そして、冷却後有機
層を分離し、中性になるまで水洗し、減圧下で低沸点物
を留去し、0.1μmのメンブランフィルタ−で口過す
ると、約92%の収率でPSM−mが得られる。
ル6モルを入れ、これに上記ブチル−3−(3−(エチ
ルジクロロシリル)フロビル)オキシカルボニル−3−
ブチナート1モルとトリメチルクロロシラン6モルの混
合物を攪拌しながら滴下し、さらに6モルの水を加え、
その後65℃に加温して攪拌する。そして、冷却後有機
層を分離し、中性になるまで水洗し、減圧下で低沸点物
を留去し、0.1μmのメンブランフィルタ−で口過す
ると、約92%の収率でPSM−mが得られる。
(イソプロピル−3−(3−(3,3−)ジメチル−1
,1−シフエニルジシロキサニル)フロビル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、以下PSM−■と略す)の
合成。
,1−シフエニルジシロキサニル)フロビル)オキシカ
ルボニル−3−ブチナート、以下PSM−■と略す)の
合成。
イタコン酸イソプロピルアリルエステル1モル、ジフェ
ニルクロロシラン1.1モルヲ用イーr、PSM−1の
合成例と同様にして、イソプロピル−3−(3−(ジフ
ェニルクロロシリル)プロピル)オキシカルボニル−3
−ブチナートを得る。
ニルクロロシラン1.1モルヲ用イーr、PSM−1の
合成例と同様にして、イソプロピル−3−(3−(ジフ
ェニルクロロシリル)プロピル)オキシカルボニル−3
−ブチナートを得る。
次に、インプロピルアルコール3モル、上記インプロピ
ル−3−(3−Cジフェニルクロロシリル)プロピル)
オキシカルボニル−3−ブチナート1モル、トリメチル
クロロシラン3モル、水3モルを用いて、PSM7+の
場−合と同様にすると、約92係の収率でPSM−Wが
得られる。
ル−3−(3−Cジフェニルクロロシリル)プロピル)
オキシカルボニル−3−ブチナート1モル、トリメチル
クロロシラン3モル、水3モルを用いて、PSM7+の
場−合と同様にすると、約92係の収率でPSM−Wが
得られる。
0=O−0−OH2−OH=c、H5
H,O=0
■
■
0−8i0−8
i 3− (3,3,3−)ジメチル−1,1−ビス(
() IJメチルシリル)オキシ)ジフロキサニル)プ
ロピル−3−フエ坏チルオキシカルボニルー3−ブチナ
ート、以下PSM−vと略す)の合成。
() IJメチルシリル)オキシ)ジフロキサニル)プ
ロピル−3−フエ坏チルオキシカルボニルー3−ブチナ
ート、以下PSM−vと略す)の合成。
PSM−1の合成において、イタコン酸メチルアリルエ
ステルをイタコン酸アリルフェネチルエステルに代えて
同様にすれば、PSM−vが約90%の収率で得られる
。
ステルをイタコン酸アリルフェネチルエステルに代えて
同様にすれば、PSM−vが約90%の収率で得られる
。
0=O−0−01−1゜
H2C=C
0−8iMe3
(3−(3,3,3−)ジメチル−1,1−ビス(()
リメテルシリル)オキシ)ジフロキサニル)プロピル−
3−メトキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM
−vrと略す)の合成。
リメテルシリル)オキシ)ジフロキサニル)プロピル−
3−メトキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM
−vrと略す)の合成。
PSM−■の合成において、イタコン酸メチルアリルエ
ステルをイタコン酸アリルメチルエステルに代えて同様
にすれば、PSM−V+が約90%の収率で得られる。
ステルをイタコン酸アリルメチルエステルに代えて同様
にすれば、PSM−V+が約90%の収率で得られる。
0=(、−0−OH2−C1−L−OH3■
H,0=0
v6H50H□ OH3
(プロピル= 3− (a −(3,3,5,5,5−
ペンタメチル−1,1−ジフェニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、以下PSM−■と略す)
の合成。
ペンタメチル−1,1−ジフェニル)プロピル)オキシ
カルボニル−3−ブチナート、以下PSM−■と略す)
の合成。
イタコン酸アリルプロピルエステル、ジフェニルクロロ
7ランを用いてPsM−rの合成例と同じよ゛うにして
、プロピル−3−(3−(ジフェニルクロロシリル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナートを得、これ
とインプロピルアルコールとトリメチルクロロシランと
ジメチルクロロ7ランと水とを用いてPSM−1の合成
例と同様にすれば、約65%の収率でPSM−■が得ら
れる。
7ランを用いてPsM−rの合成例と同じよ゛うにして
、プロピル−3−(3−(ジフェニルクロロシリル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−ブチナートを得、これ
とインプロピルアルコールとトリメチルクロロシランと
ジメチルクロロ7ランと水とを用いてPSM−1の合成
例と同様にすれば、約65%の収率でPSM−■が得ら
れる。
0−80−8i
〇−8iMc。
(3−(3,3,3−トリメチル−1,1−ビス(()
リメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロピル−
3−(3−(3,3,3−1リメチルー1.1−ビス(
(トリメチルノリル)オキシ)ジシロキサニル)フロビ
ル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM−
rIxと略す)の合成。
リメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロピル−
3−(3−(3,3,3−1リメチルー1.1−ビス(
(トリメチルノリル)オキシ)ジシロキサニル)フロビ
ル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM−
rIxと略す)の合成。
還流冷却器、温度計、滴下ロート、スターラーを取9付
けた三つロフラスコに、イタコン酸ジアリルエステル約
0.5モルと塩化白金酸10−5モルを加えて約50℃
に加温し、次いでトリクロロンラン1.1モルを滴下す
る。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反応を
行なわしめ、3−(トリクロロシラン)フロビルー3−
(3−(1−’J クロロシリル)プロピル)オキソカ
ルボニル−3−ブチナートを得る。
けた三つロフラスコに、イタコン酸ジアリルエステル約
0.5モルと塩化白金酸10−5モルを加えて約50℃
に加温し、次いでトリクロロンラン1.1モルを滴下す
る。そして、75〜80℃に保って攪拌しながら反応を
行なわしめ、3−(トリクロロシラン)フロビルー3−
(3−(1−’J クロロシリル)プロピル)オキソカ
ルボニル−3−ブチナートを得る。
次に、上記と同様なフラスコに、インフロビルアルコー
ル9モルを入れ、これに上記3− () l)クロロシ
リル)フロビル=3−(3−()’Jり0ロシリル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−フチナート0.5モル
とトリメチルクロロシラン6モルの混合物を攪拌しなが
ら滴下し、さらに水9モルを加え、その後65℃に加温
して攪拌する。そして、冷却後有機層を分離し、中性に
なるまで水洗し、減圧下で低沸点物を留去し、0.1μ
mのメンフ゛ランフイルターで口過すると、約90%の
収率でPSM−nxが得られる。
ル9モルを入れ、これに上記3− () l)クロロシ
リル)フロビル=3−(3−()’Jり0ロシリル)プ
ロピル)オキシカルボニル−3−フチナート0.5モル
とトリメチルクロロシラン6モルの混合物を攪拌しなが
ら滴下し、さらに水9モルを加え、その後65℃に加温
して攪拌する。そして、冷却後有機層を分離し、中性に
なるまで水洗し、減圧下で低沸点物を留去し、0.1μ
mのメンフ゛ランフイルターで口過すると、約90%の
収率でPSM−nxが得られる。
0−80−8i
0−8i0−8
i 3−(1,3,3,3−テトラメチル−1−(()
リメチルシリル)オキシ)クロロキサニル)フロビル=
3− (3−(1,3,3,3−・テトラメチル−−
((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロ
ピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM
−L+xと略す)の合成。
リメチルシリル)オキシ)クロロキサニル)フロビル=
3− (3−(1,3,3,3−・テトラメチル−−
((トリメチルシリル)オキシ)ジシロキサニル)プロ
ピル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下PSM
−L+xと略す)の合成。
PSM−11Xの合成例において、トリクロロシランを
ジクロロメチルシランに置き換えて同様にし、3−(ジ
クロロメチルシリル)プロピル−3−(3−(ジクロロ
メチルシランシ)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナートを得、次いでこれとインプロピルアルコールと
トリメチルクロロシラ/と水とを用いて同様にすれば、
収率約90%でPSM−+xが得られる。
ジクロロメチルシランに置き換えて同様にし、3−(ジ
クロロメチルシリル)プロピル−3−(3−(ジクロロ
メチルシランシ)プロピル)オキシカルボニル−3−ブ
チナートを得、次いでこれとインプロピルアルコールと
トリメチルクロロシラ/と水とを用いて同様にすれば、
収率約90%でPSM−+xが得られる。
O Hs O Hs
1
( 3−( LL3.3−テトラメチル−3−フェニル
ジシロキサニル)プロピル−3−(3−(1,1。
ジシロキサニル)プロピル−3−(3−(1,1。
3、3−テ) ラメチル−3−フェニルジシロキサニル
)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下
PSM−xと略す)の合成。
)フロビル)オキシカルボニル−3−ブチナート、以下
PSM−xと略す)の合成。
PSM−11Xの合成例において、トリクロロシラ/を
ジメチルクロロシランに置き換えて同様にし、3−(ジ
フェニルクロロシリル)フロビル=3−(3−(ジメチ
ルクロロシリル)プロピル)オキソカルボニル−3−ブ
チナートを得、次いでこれ0.5モル、イノプロピルア
ルコール3モル、ジフェニルクロロシラン2モル、水3
モルを用いて同様にすれば、収率約90%でPSM−X
が得られる。
ジメチルクロロシランに置き換えて同様にし、3−(ジ
フェニルクロロシリル)フロビル=3−(3−(ジメチ
ルクロロシリル)プロピル)オキソカルボニル−3−ブ
チナートを得、次いでこれ0.5モル、イノプロピルア
ルコール3モル、ジフェニルクロロシラン2モル、水3
モルを用いて同様にすれば、収率約90%でPSM−X
が得られる。
又、上記ポリシロキサニルアルキルエステルと共重合さ
れるエステルとしては、例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレ
ート、ヘキシルアクリレート、アクリル酸フェニル、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピル
メタクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルメ
タクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタク
リレート、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、イタコン酸メチル、イタコン酸ジメチル、イ
タコン酸メチルエチルエステル、イタコン酸エチル、イ
タコノ酸メチルフェニル、イタコン酸ジフェニル、イタ
コン酸フェニル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸プロ
ピル、イタコン酸ジプロピル、イタコン酸イソプロピル
、イタコン酸ジイソプロピル、メチレンマロン酸メチル
エステル、メチレンマロン酸ジメチルエステル、メチレ
ンマロン酸フェニルエステル、メチレンマロン酸ジフェ
ニルエステル、メチレンマロン酸エチルエステル、メチ
レンマロン酸ジエチルエステル等がある。
れるエステルとしては、例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレ
ート、ヘキシルアクリレート、アクリル酸フェニル、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピル
メタクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルメ
タクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタク
リレート、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、イタコン酸メチル、イタコン酸ジメチル、イ
タコン酸メチルエチルエステル、イタコン酸エチル、イ
タコノ酸メチルフェニル、イタコン酸ジフェニル、イタ
コン酸フェニル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸プロ
ピル、イタコン酸ジプロピル、イタコン酸イソプロピル
、イタコン酸ジイソプロピル、メチレンマロン酸メチル
エステル、メチレンマロン酸ジメチルエステル、メチレ
ンマロン酸フェニルエステル、メチレンマロン酸ジフェ
ニルエステル、メチレンマロン酸エチルエステル、メチ
レンマロン酸ジエチルエステル等がある。
淘、本発明のコンタクトレンズ材料は、PSM−1のよ
うなポリシロキサニルアルキルエステルとメチルメタク
リレートのよう′なアルカノールエステルの外に、例え
ば第3成分としてメタクリル酸等のカルボン酸等をも用
いて、共重合させたコポリマー等も含まれる。
うなポリシロキサニルアルキルエステルとメチルメタク
リレートのよう′なアルカノールエステルの外に、例え
ば第3成分としてメタクリル酸等のカルボン酸等をも用
いて、共重合させたコポリマー等も含まれる。
次に、本発明の具体的実施例の幾つかについて述べる。
実施例1
前記PSM−+約40重量部、メチルメタクリレート(
MMA)約55重i*L、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート(2−HEMA)約5重量部、エチレングリコ
ールジメタクリレート(EDMA)約4重量部、2,2
′−アゾビス、−(2,4−ジメチルバレロニトリル)
(’V−65)約0.2′重量部をガラス菅に注入し、
上部空間を窒素置換した後、10℃でUV照射を行なっ
て硬化したものを70℃、80℃、90℃で各々5時間
オーブン中で加熱し、コンタクトレンズブロックを得る
。
MMA)約55重i*L、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート(2−HEMA)約5重量部、エチレングリコ
ールジメタクリレート(EDMA)約4重量部、2,2
′−アゾビス、−(2,4−ジメチルバレロニトリル)
(’V−65)約0.2′重量部をガラス菅に注入し、
上部空間を窒素置換した後、10℃でUV照射を行なっ
て硬化したものを70℃、80℃、90℃で各々5時間
オーブン中で加熱し、コンタクトレンズブロックを得る
。
そして、このコンタクトレンズブロックを、通常の例え
ば切削研磨加工によってコンタクトレンズに構成する。
ば切削研磨加工によってコンタクトレンズに構成する。
伺、上記コンタクトレンズブロックは、無色透明であり
、かつ機械的加工に富んだ硬質々ものであり(シヨアD
硬度87)、さらには酸素透過性も1、 Ox 10−
10(d (、STP )c7rL/cr&・sec
−+nmHg)と太きく、コンタクトレンズの長時間の
連続装着に支障のないものであり、又水濡れ性について
もそれ程問題のないものである。
、かつ機械的加工に富んだ硬質々ものであり(シヨアD
硬度87)、さらには酸素透過性も1、 Ox 10−
10(d (、STP )c7rL/cr&・sec
−+nmHg)と太きく、コンタクトレンズの長時間の
連続装着に支障のないものであり、又水濡れ性について
もそれ程問題のないものである。
実施例2〜6
PSM−+、MMA、EDMA及び親水性単量体として
メタクリル酸(MA)といった重合体成分を用いて、実
施例1と同様にしてコンタクトレンズを得る。
メタクリル酸(MA)といった重合体成分を用いて、実
施例1と同様にしてコンタクトレンズを得る。
イ44 > /7+l ? A 1771イ4Ui l
’−オー/−−リ/;l /I L 1−、− ノブロ
ックは、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質
なものであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ
性についてもそれ程問題のないものであり、その詳細を
表1に示す。
’−オー/−−リ/;l /I L 1−、− ノブロ
ックは、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質
なものであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ
性についてもそれ程問題のないものであり、その詳細を
表1に示す。
表 1
、酸素透過性は7 (S、T I) ) crrL/
d−sec、 ’ 7nTnl−’1−で、接触角は度
で示す。
d−sec、 ’ 7nTnl−’1−で、接触角は度
で示す。
実施例7〜9
PSM−Y、MMA12−HEMA、 EDMAといっ
た重合体成分を用いて、実施例1と同様にしてコンタク
トレンズを得る。
た重合体成分を用いて、実施例1と同様にしてコンタク
トレンズを得る。
伺、このようにして得られたコンタクトレンズブロック
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性に
ついてもそれ程問題のないものでアリ、その詳細を表2
に示す。
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性に
ついてもそれ程問題のないものでアリ、その詳細を表2
に示す。
表 2
・酸素透過性はd (STP )crIL/ci −s
ec 、tnmlJgで、接触角は度で示す。
ec 、tnmlJgで、接触角は度で示す。
実施例10〜24
PSM−130重量部、EDMA4重量部メタクリル酸
メチル等65重量部、2−HEMA又はメタクリル酸等
5重量部といった重合体成分及び重合開始剤(V−65
)をガラス管に注入し、上部空間を窒素置換した後、3
0℃、50℃、70℃、?0℃、110℃で各々5時間
オープン中で加熱し、コンタクトレンズブロックを得る
。
メチル等65重量部、2−HEMA又はメタクリル酸等
5重量部といった重合体成分及び重合開始剤(V−65
)をガラス管に注入し、上部空間を窒素置換した後、3
0℃、50℃、70℃、?0℃、110℃で各々5時間
オープン中で加熱し、コンタクトレンズブロックを得る
。
そして、このコンタクトレンズブロックを切削研磨加工
してコンタクトレンズを得る。
してコンタクトレンズを得る。
同、上記コンタクトレンズブロックは、無色透明であり
、かつ機械的加工に富んだ硬質なものであり、さらには
酸素透過性も大きく、又水濡れ性についてもそれ程問題
のないものであり、その詳細を表3に示す。− 表 3 ・DHEI=イタコン酸ジ(ヒドロキシエチルエステル
)、MHEI=イタコン酸メチルヒドロキシエチルエス
テル ・酸素透過性はcfL、(S TP ) cm / c
tl 、sec 、BzHgで、接触角は度で示す。
、かつ機械的加工に富んだ硬質なものであり、さらには
酸素透過性も大きく、又水濡れ性についてもそれ程問題
のないものであり、その詳細を表3に示す。− 表 3 ・DHEI=イタコン酸ジ(ヒドロキシエチルエステル
)、MHEI=イタコン酸メチルヒドロキシエチルエス
テル ・酸素透過性はcfL、(S TP ) cm / c
tl 、sec 、BzHgで、接触角は度で示す。
実施例25〜29
PSM−11X、MMA、2−HEMA、EDMAとイ
ッた重合体成分を用いて、実施例1と同様にしてコンタ
クトレンズを得る。
ッた重合体成分を用いて、実施例1と同様にしてコンタ
クトレンズを得る。
同、このようにして得られたコンタクトレンズブロック
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり1、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性
についてもそれ程問題のないものであり、その詳細を表
4に示す。
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり1、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性
についてもそれ程問題のないものであり、その詳細を表
4に示す。
表 4
・酸素透過性はcrit (STP )cm/i ・s
ec−vunHgで、接触角は度で示す。
ec−vunHgで、接触角は度で示す。
実施例30〜39
PSM−+ −PSM−xとMMAといった重合体成分
を用いて、実施例1と同様にしてコンタクトレンズを得
る。
を用いて、実施例1と同様にしてコンタクトレンズを得
る。
尚、このようにして得られたコンタクトレンズブロック
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性に
ついてもそれ程問題のないものであり、その詳細を表5
に示す。
は、無色透明であり、かつ機械的加工に富んだ硬質なも
のであり、さらには酸素透過性も大きく、又水濡れ性に
ついてもそれ程問題のないものであり、その詳細を表5
に示す。
表 5
・酸素透過性はd (S T P ) cm/ad ・
sec −tnwHg f、接触角は度で示す。
sec −tnwHg f、接触角は度で示す。
特許出願人 日本コンタクトレンズ製造株式会社代理人
宇 ・高 克 己
宇 ・高 克 己
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 0H。 0=O−0−R。 又は 0=O−0−R4 H,C!=0 篭 (但し、式中、E、2.R3はC1〜C5のアルキル基
、芳香族基及びX基からなる群から選ばれ、R1′ R0′ C2゜のアルキル基、芳香族基、及びY基からなる群か
ら選ばれ、Y基は R,、R□/、BJI//は01〜C5のアルキル基及
び芳香族基からなる群から選ばれ、tは1〜5の整数で
ある) で表わされるポリシロキサニルアルキルニステルト、O
□〜OHの1価又は多価アルカノール若しくは芳香族ア
ルコールとメタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、メ
チレンマロン酸からなる群より選ばれる酸とからなるエ
ステルとを少なくとも用いて共重合したことを特徴とす
るコンタクトレンズ材料。 ■ 特許請求の範囲第1項記載のコンタクトレンズ材料
において、ポリゾロキサニルアルキルエステル1重量部
に対して共重合成分のエステルが0.25〜19重量部
であるもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14114583A JPS6032022A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | コンタクトレンズ材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14114583A JPS6032022A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | コンタクトレンズ材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032022A true JPS6032022A (ja) | 1985-02-19 |
| JPS6230612B2 JPS6230612B2 (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=15285200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14114583A Granted JPS6032022A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | コンタクトレンズ材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032022A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4977229A (en) * | 1988-09-22 | 1990-12-11 | The University Of Southern Mississippi | Polymeric compositions for optical devices |
| WO2010104000A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 日油株式会社 | シリコーンモノマー |
| CN101942083A (zh) * | 2010-09-10 | 2011-01-12 | 广东标美硅氟新材料有限公司 | 一种有机硅化合物及其制备方法和应用 |
-
1983
- 1983-08-03 JP JP14114583A patent/JPS6032022A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4977229A (en) * | 1988-09-22 | 1990-12-11 | The University Of Southern Mississippi | Polymeric compositions for optical devices |
| WO2010104000A1 (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-16 | 日油株式会社 | シリコーンモノマー |
| US20110319583A1 (en) * | 2009-03-09 | 2011-12-29 | Nof Corporation | Silicone monomer |
| US8580904B2 (en) | 2009-03-09 | 2013-11-12 | Nof Corporation | Silicone monomer |
| CN101942083A (zh) * | 2010-09-10 | 2011-01-12 | 广东标美硅氟新材料有限公司 | 一种有机硅化合物及其制备方法和应用 |
| CN101942083B (zh) | 2010-09-10 | 2012-08-22 | 广东标美硅氟新材料有限公司 | 一种有机硅化合物及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6230612B2 (ja) | 1987-07-03 |
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