JPS6032108A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6032108A JPS6032108A JP14013783A JP14013783A JPS6032108A JP S6032108 A JPS6032108 A JP S6032108A JP 14013783 A JP14013783 A JP 14013783A JP 14013783 A JP14013783 A JP 14013783A JP S6032108 A JPS6032108 A JP S6032108A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- thin film
- gap
- wear resistance
- nonmagnetic
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｍ集土の利用分野
本発明は磁気ヘッド特［Ｖ’ｌｔ用等の磁気ヘッドに関
する。
する。
背景技術とその問題点
近年、磁気配り技術の発展に伴ないＶＴＩ（用の磁気ヘ
ッドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープへの記
録再生が可能であること又、磁気テープの面内での記録
密度を向上させるため番でできるだけ狭トラツク化が可
能であることが要求さ４゜ている。この要求に応じるた
め虻第１［ｉｆＫ示すごとく、センダネト、アモルノー
ス合金等からなる金属磁性薄膜（２）を両側から非磁性
セラミック（３１とフェライト（４）から成、る複合板
ｆ５１ ｆ５１で挾んだタイプの磁気ヘッド（１１が用
いられている。このように磁気ヘッドのテープ摺動部忙
配される非磁性セラミックとしては耐摩耗性の観点より
高硬度セラミツクが使用される。しかし、このようなサ
ファイヤ、フォステライト、Ｚｎ−７エライト、マグネ
シャ、ベリリヤ等の耐摩耗材（３）で金属磁性薄膜１２
１ ′？挾んだ従来技術による磁気ヘッド（１１けテー
プ摺動に際し、第２図に示すごとく、金属磁性薄膜（２
）ザ′優先摩耗な生じること忙なる。元来金属書性材料
は酸化物強磁性材料に比べて摩耗が大キくテープとの摺
動に際し表面に段差を生じることが；重刑である＠この
様にテープ摺動面に段差が生じるとギヤツブ部忙おいて
テープと金属磁性薄膜コア間に空隙を形成することにな
り、いわゆるスペーシングロスによりヘッドの再生出力
が大幅に低下する。これを解決するためにスペーシング
ロスを生じさせないようにテープ摺動面に段差を生じな
いような非磁性ガード材を用いるとガード材自体の摩耗
も大きいため磁気ヘッドの寿命が短かぐなる不都合があ
る。
ッドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープへの記
録再生が可能であること又、磁気テープの面内での記録
密度を向上させるため番でできるだけ狭トラツク化が可
能であることが要求さ４゜ている。この要求に応じるた
め虻第１［ｉｆＫ示すごとく、センダネト、アモルノー
ス合金等からなる金属磁性薄膜（２）を両側から非磁性
セラミック（３１とフェライト（４）から成、る複合板
ｆ５１ ｆ５１で挾んだタイプの磁気ヘッド（１１が用
いられている。このように磁気ヘッドのテープ摺動部忙
配される非磁性セラミックとしては耐摩耗性の観点より
高硬度セラミツクが使用される。しかし、このようなサ
ファイヤ、フォステライト、Ｚｎ−７エライト、マグネ
シャ、ベリリヤ等の耐摩耗材（３）で金属磁性薄膜１２
１ ′？挾んだ従来技術による磁気ヘッド（１１けテー
プ摺動に際し、第２図に示すごとく、金属磁性薄膜（２
）ザ′優先摩耗な生じること忙なる。元来金属書性材料
は酸化物強磁性材料に比べて摩耗が大キくテープとの摺
動に際し表面に段差を生じることが；重刑である＠この
様にテープ摺動面に段差が生じるとギヤツブ部忙おいて
テープと金属磁性薄膜コア間に空隙を形成することにな
り、いわゆるスペーシングロスによりヘッドの再生出力
が大幅に低下する。これを解決するためにスペーシング
ロスを生じさせないようにテープ摺動面に段差を生じな
いような非磁性ガード材を用いるとガード材自体の摩耗
も大きいため磁気ヘッドの寿命が短かぐなる不都合があ
る。
発明の目的
本発明は斯る点に鑑み、テープ摺動部のギャップ部にお
ける金属磁性薄膜とこれを挾む非磁性材料との間の段差
の発生を防止し、又耐摩耗性にも富む磁包、ヘッドを提
供するものである。
ける金属磁性薄膜とこれを挾む非磁性材料との間の段差
の発生を防止し、又耐摩耗性にも富む磁包、ヘッドを提
供するものである。
発明の概要
本発明は上記の目的を璋蜘するため、金剛強磁性薄膜と
強磁性酸化物醍び非磁性材料とが接合さ４て金８磁性１
嘆により磁気ギャップが形成さ創。
強磁性酸化物醍び非磁性材料とが接合さ４て金８磁性１
嘆により磁気ギャップが形成さ創。
碍気記優媒体対向面に金属磁性薄膜と非磁性材料とが共
存【２てなる磁気ヘッドにおいて、Ｍｊ気ギャップ近傍
の非磁性材料が他の部分の非磁性材料に比べて低耐ｑ粍
性の非磁性材料より形ｒＴ２したものである。
存【２てなる磁気ヘッドにおいて、Ｍｊ気ギャップ近傍
の非磁性材料が他の部分の非磁性材料に比べて低耐ｑ粍
性の非磁性材料より形ｒＴ２したものである。
実施例
以下第３図以降を参庶して本発明の実施例？説明する。
第３図は本発明による一例の硝気ヘッドの缶視図で、こ
の磁気ヘッド（１１）はセンダスト、アモルハス合金等
からなる金属強υ苓性ＷＩ膜（１２１を両側から高耐摩
耗非磁性材例えば非磁性セラミック（１３１と金Ｆｎ磁
性酸化物例えばフェライ） １１４＋からなる複合ガー
ド板ｕｓ ｎ４により挾んで構成さガ、この暉合ガード
板ｆ１５１ Ｑ５１のテープ摺動部（１５ａ ） （１
５ａ’）を形成する非磁性セラミックｆ１３１０３１の
磁気ギャップ）の近傍部を低耐摩耗の非磁性材料例えば
低融点ガラス（１陀川により形成しである。
の磁気ヘッド（１１）はセンダスト、アモルハス合金等
からなる金属強υ苓性ＷＩ膜（１２１を両側から高耐摩
耗非磁性材例えば非磁性セラミック（１３１と金Ｆｎ磁
性酸化物例えばフェライ） １１４＋からなる複合ガー
ド板ｕｓ ｎ４により挾んで構成さガ、この暉合ガード
板ｆ１５１ Ｑ５１のテープ摺動部（１５ａ ） （１
５ａ’）を形成する非磁性セラミックｆ１３１０３１の
磁気ギャップ）の近傍部を低耐摩耗の非磁性材料例えば
低融点ガラス（１陀川により形成しである。
この様に磁気ヘッド０１）を形成することにまり磁気ギ
ャップ）から離れた部分では第４図に示す様に金剛強磁
性薄膜（１２１と両側のガード板ｎｒＨ＋５ｉのテープ
摺動部（１５ａ）（１５ａ’）との間釦少し段差を生じ
るが、磁気ギャップ３の近傍においては第５臣に示す様
釦金属強磁性薄膜１２とガード板１１５１１腎のテープ
摺動部（１５ａ）（１５ａ’）との段差がほとんど消失
する。
ャップ）から離れた部分では第４図に示す様に金剛強磁
性薄膜（１２１と両側のガード板ｎｒＨ＋５ｉのテープ
摺動部（１５ａ）（１５ａ’）との間釦少し段差を生じ
るが、磁気ギャップ３の近傍においては第５臣に示す様
釦金属強磁性薄膜１２とガード板１１５１１腎のテープ
摺動部（１５ａ）（１５ａ’）との段差がほとんど消失
する。
即ちガード板ｔ＋ｓ＋ １１５１のテープ摺動部（Ｊ５
ａ）（１５ａ’） ノ磁気ギャップ９近傍に比較的摩耗
度の高い非磁性材例えば低融点ガラス１１６１１１ＲＩ
’％’配すること釦よりテープＴはその自らの堅さに
より第６図に示すごとく低融点ガラス部１１１ｆ１６１
の摩耗に−沿ってテープ摺動部（１５ａ）（１５ａ’）
は曲面をなし金剛強磁性薄膜（１２の表面、ＮＤちテー
プ摺動部への衝撃及び摩擦は少なくなる。一方、低融点
ガラス１１６１１＋（ｉｔのない領域叩ち非磁性セラミ
ックｆ＋３）ｆ１３１のみの領域は殆んど摩耗されずテ
ープとの枡触時の断面は第７図に示すごとく平面に近い
ためテープＴの微妙な撮動により金属強磁性＠ 膜ｔｔ
ａへの衝撃、摩擦が多くなるが高耐摩耗であるためヘッ
ド寿命の点で好ましい。
ａ）（１５ａ’） ノ磁気ギャップ９近傍に比較的摩耗
度の高い非磁性材例えば低融点ガラス１１６１１１ＲＩ
’％’配すること釦よりテープＴはその自らの堅さに
より第６図に示すごとく低融点ガラス部１１１ｆ１６１
の摩耗に−沿ってテープ摺動部（１５ａ）（１５ａ’）
は曲面をなし金剛強磁性薄膜（１２の表面、ＮＤちテー
プ摺動部への衝撃及び摩擦は少なくなる。一方、低融点
ガラス１１６１１＋（ｉｔのない領域叩ち非磁性セラミ
ックｆ＋３）ｆ１３１のみの領域は殆んど摩耗されずテ
ープとの枡触時の断面は第７図に示すごとく平面に近い
ためテープＴの微妙な撮動により金属強磁性＠ 膜ｔｔ
ａへの衝撃、摩擦が多くなるが高耐摩耗であるためヘッ
ド寿命の点で好ましい。
この様に木例忙おける磁気ヘッド（１１）はスペーシン
グロスと関係のない磁気ギャップ９から＃第１た領域に
おいてはガード板ｆ１５１ Ｃ１０と金１＋１強磁性薄
＋１Ｈ２１との段差を生じるがガード板ＬＬ５１ＬＩイ
の高耐摩耗性により磁気ヘッドの長寿命化を図ることか
で六磁気ギャップ番近傍においては低耐摩耗性の非磁性
材＋ＩＩ ＩＩ（ｉ）を存在させることによりヘッド断
面−Ｕちテープ摺動部を曲面としてテープの曲面自著接
触にょる衝撃緩和忙よりスペーシングロスが極めて少な
くなる。
グロスと関係のない磁気ギャップ９から＃第１た領域に
おいてはガード板ｆ１５１ Ｃ１０と金１＋１強磁性薄
＋１Ｈ２１との段差を生じるがガード板ＬＬ５１ＬＩイ
の高耐摩耗性により磁気ヘッドの長寿命化を図ることか
で六磁気ギャップ番近傍においては低耐摩耗性の非磁性
材＋ＩＩ ＩＩ（ｉ）を存在させることによりヘッド断
面−Ｕちテープ摺動部を曲面としてテープの曲面自著接
触にょる衝撃緩和忙よりスペーシングロスが極めて少な
くなる。
次に以上の様に構成される本例の磁気ヘッドの製造工程
例を第８図〜第１４回圧ついて説明する。
例を第８図〜第１４回圧ついて説明する。
先ず第８図に示すごとく非磁性セラミックブロック（１
３１に回転砥石等妊より溝加工を施し溝（１３ａｌ）、
（１３ａ２）・・・を形成し、この＃（１３ａｘ）、（
１３ａ２）・・・に低融点ガラス（１６１を溶融充填し
た後、所定の幅に切断しく第９図参照）、このセラミッ
クとガラスの複合非磁性相を第１０図に示す様にフェラ
イト板Ｉにガラス充填部の一端面側を対応させて接合し
た後、平面研摩加工を行なって傷合ガード板（１９を形
成する。この複合ガード板（１９にセンダスト薄１［１
２１をスパッタリングにより形成しく第、１１図参照）
、このセンダスト薄膜（１２１の表面１Ｎ！ｌに第１２
図に示すごとく第１θ図の複合カード板（１５１と同様
に形成した複合ガード板ａ９を接合して素１’ ｌ Ｉ
Ｉを形成する。この素材ａυの低融点ガラスｆ１６１ｆ
ｌｆｉｌの充填部の中央部から切断し、一方の切断面に
巻線用の溝＋１７１を形成して一対のコア半休（ｌｌａ
）、（＋１ｂ）を形成する（Ｉ！８１３図参照）。この
一対のコア半休（ｌｌａ）（ｌｌｂ）間にギャップスペ
ーサ（１８１を配して接合する（第１４腰参照）。更に
、こ４を両側面及びアープ摺動部の研字加工を施すこと
により第３図に示すごとくガード板１１刹糧のアープ摺
動部（１５ａ）、（１５ａ’の磁気ギヤツブ嘗の近傍に
低碧点ガラス１７［１ち似耐摩耗性磁性材料ｆ＋６１
ｆｔ６１が表…した磁気ヘッドｆｉｌｌが得ら４る。
３１に回転砥石等妊より溝加工を施し溝（１３ａｌ）、
（１３ａ２）・・・を形成し、この＃（１３ａｘ）、（
１３ａ２）・・・に低融点ガラス（１６１を溶融充填し
た後、所定の幅に切断しく第９図参照）、このセラミッ
クとガラスの複合非磁性相を第１０図に示す様にフェラ
イト板Ｉにガラス充填部の一端面側を対応させて接合し
た後、平面研摩加工を行なって傷合ガード板（１９を形
成する。この複合ガード板（１９にセンダスト薄１［１
２１をスパッタリングにより形成しく第、１１図参照）
、このセンダスト薄膜（１２１の表面１Ｎ！ｌに第１２
図に示すごとく第１θ図の複合カード板（１５１と同様
に形成した複合ガード板ａ９を接合して素１’ ｌ Ｉ
Ｉを形成する。この素材ａυの低融点ガラスｆ１６１ｆ
ｌｆｉｌの充填部の中央部から切断し、一方の切断面に
巻線用の溝＋１７１を形成して一対のコア半休（ｌｌａ
）、（＋１ｂ）を形成する（Ｉ！８１３図参照）。この
一対のコア半休（ｌｌａ）（ｌｌｂ）間にギャップスペ
ーサ（１８１を配して接合する（第１４腰参照）。更に
、こ４を両側面及びアープ摺動部の研字加工を施すこと
により第３図に示すごとくガード板１１刹糧のアープ摺
動部（１５ａ）、（１５ａ’の磁気ギヤツブ嘗の近傍に
低碧点ガラス１７［１ち似耐摩耗性磁性材料ｆ＋６１
ｆｔ６１が表…した磁気ヘッドｆｉｌｌが得ら４る。
尚、以上の工程において両コア半休（１１３Ｓ、（１１
ｂ’）を接合しギャップスペーサｆｌｌ？ｌとなる舒幹
点ガラスはアープ摺動部に配するイ斤耐摩耗性非磁性材
ＮＯち低望点ガラス１１６１ （１６１より側に似＠点
のものを使用する。
ｂ’）を接合しギャップスペーサｆｌｌ？ｌとなる舒幹
点ガラスはアープ摺動部に配するイ斤耐摩耗性非磁性材
ＮＯち低望点ガラス１１６１ （１６１より側に似＠点
のものを使用する。
又、線上の構成において非磁性材セラミックブロックｏ
ｆ形成する溝（１３ａ１）、（１３ａ２）・・・＆ｔ
するべく深＜ ｐ＋＋ち溝（１３１２）、（１３ａ２）
・・−の底部の肉厚をできるだけ薄くすることにより
研気ギャップ各の近傍に表出さ才１．る非磁性利器ち非
磁性セラミック１１３の表出幅が少なくなり金属強磁性
薄膜（１２とガード板ｎｓ＋−ｎ４との間の段差の発生
ケ押えることがでキる。従ってこの磁気ギヤツブ各の近
傍の非磁性セラミック１１３１、Ｑ３１の暉みをできる
限り薄くし、好畔しくは非磁性セラミックｔ１１．１１
％がガード板１１．５１ ＋１５１のアープ摺動部（１
５ａ）（１５ａ’）に表出しないように形咬することが
９才しし・。
ｆ形成する溝（１３ａ１）、（１３ａ２）・・・＆ｔ
するべく深＜ ｐ＋＋ち溝（１３１２）、（１３ａ２）
・・−の底部の肉厚をできるだけ薄くすることにより
研気ギャップ各の近傍に表出さ才１．る非磁性利器ち非
磁性セラミック１１３の表出幅が少なくなり金属強磁性
薄膜（１２とガード板ｎｓ＋−ｎ４との間の段差の発生
ケ押えることがでキる。従ってこの磁気ギヤツブ各の近
傍の非磁性セラミック１１３１、Ｑ３１の暉みをできる
限り薄くし、好畔しくは非磁性セラミックｔ１１．１１
％がガード板１１．５１ ＋１５１のアープ摺動部（１
５ａ）（１５ａ’）に表出しないように形咬することが
９才しし・。
又、ＪＪ ｈの措我において金鴨１１・■磁性薄膜（１
２は絶Ｒ３を介したセンダスト薄膜のｆｆｆ一体又はア
モルハス合金の積層体であってもよいことは言う１でも
ない。
２は絶Ｒ３を介したセンダスト薄膜のｆｆｆ一体又はア
モルハス合金の積層体であってもよいことは言う１でも
ない。
又、本発明は第１５図に示す１１に金属強磁性薄膜ｆ１
７１が磁気ギャップ３近傍のみに表出する凸形状の金３
強磁性薄膜・フェライト複合ラリヘッドにおいても有効
であり又、単磁極型ヘッドにお（・でも有効である。尚
、第１５図において金属強磁性薄膜ｆ１３の表出部と同
幅のテープ摺動面部（］ ５ｂ）をフェライト（１４）
により形成してもよい。
７１が磁気ギャップ３近傍のみに表出する凸形状の金３
強磁性薄膜・フェライト複合ラリヘッドにおいても有効
であり又、単磁極型ヘッドにお（・でも有効である。尚
、第１５図において金属強磁性薄膜ｆ１３の表出部と同
幅のテープ摺動面部（］ ５ｂ）をフェライト（１４）
により形成してもよい。
発明の効果
以上の様に本発明によればテープ摺動面に金属強磁性薄
膜と非磁性ガード利とが共存してなる磁気ヘッドにおい
て磁気ギャップ近傍の非磁性ガード部を低耐摩耗性の非
磁性材料により形成したものでテープ摺動に伴なうテー
プ慴動面の磨耗による段差を磁気ギャップ近傍におし・
て極少に押えるコトかでキスベーシングロスが極めて少
なく１つ高耐摩耗性であって配り再生効率の大穴な信頓
性の高い磁便ヘッドを得ろことカーで般る。
膜と非磁性ガード利とが共存してなる磁気ヘッドにおい
て磁気ギャップ近傍の非磁性ガード部を低耐摩耗性の非
磁性材料により形成したものでテープ摺動に伴なうテー
プ慴動面の磨耗による段差を磁気ギャップ近傍におし・
て極少に押えるコトかでキスベーシングロスが極めて少
なく１つ高耐摩耗性であって配り再生効率の大穴な信頓
性の高い磁便ヘッドを得ろことカーで般る。
第１図は従来の磁気ヘッドの斜ネ見飢第２−＆１第１図
のＩ−４腺における摩耗状態の拡大断面Ｍ、第３図は本
発明による磁気ヘット°の一４１Ａ１の斜ネ兄図、第４
図は第３ｍの且−Ｉｎ線における摩耗状態の拡大断面図
、第５図は同、ｍ−ｉ線の拡大断面図、第６図は第５図
におけるテープ摺動状卵を示す一部分の断面図、第７図
は第３ＭのΔ−■線におけるテープ摺動状態の断面図、
第８図〜第１４区ＩＩＬｔ本発明による磁気ヘッドの一
例の製造工程を示す斜視図、第１５図は本発明による五
電気ヘッドの（ＩＰ例の斜視図である。 図中、 ＋１１１は磁気ヘッド、ｆｌＺは金属強磁性薄
膜ｑ１１Ｉ ７１１−）絢ｍ姓霞／に物曲分−０１は非
磁性材料部分、ｔ＋５１Ｑ４は複合ガード板、％は磁気
ギャップ、１１．６１１まイ氏閉耗性非磁性拐料部分で
ある０ 、４°゛′１１．）、 代 理 人 伊 藤 ｆ′Ｌ’、ｖ、＋、’、、 ；、
、’５．’同 松 隈 ４′、シ、１で゛・・・・・１
、１．１− 第３図 第５図 第２図 第１頁の続き ロダクツ株式会社内 ６丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ ロ丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ
のＩ−４腺における摩耗状態の拡大断面Ｍ、第３図は本
発明による磁気ヘット°の一４１Ａ１の斜ネ兄図、第４
図は第３ｍの且−Ｉｎ線における摩耗状態の拡大断面図
、第５図は同、ｍ−ｉ線の拡大断面図、第６図は第５図
におけるテープ摺動状卵を示す一部分の断面図、第７図
は第３ＭのΔ−■線におけるテープ摺動状態の断面図、
第８図〜第１４区ＩＩＬｔ本発明による磁気ヘッドの一
例の製造工程を示す斜視図、第１５図は本発明による五
電気ヘッドの（ＩＰ例の斜視図である。 図中、 ＋１１１は磁気ヘッド、ｆｌＺは金属強磁性薄
膜ｑ１１Ｉ ７１１−）絢ｍ姓霞／に物曲分−０１は非
磁性材料部分、ｔ＋５１Ｑ４は複合ガード板、％は磁気
ギャップ、１１．６１１まイ氏閉耗性非磁性拐料部分で
ある０ 、４°゛′１１．）、 代 理 人 伊 藤 ｆ′Ｌ’、ｖ、＋、’、、 ；、
、’５．’同 松 隈 ４′、シ、１で゛・・・・・１
、１．１− 第３図 第５図 第２図 第１頁の続き ロダクツ株式会社内 ６丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ ロ丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ
Claims (1)
- 金属磁性薄膜と強磁性酸化物及び非磁性材料とが接合さ
れて上記金曜強磁性薄膜により硝気ギャップが形成され
磁気記録媒体対向面に上記金属磁性薄膜と上記非磁性材
料とが共存してなる磁気ヘッドにおいて、上記磁気ギャ
ップ近傍の上記非磁性材料が上記非磁性材料に比して低
耐摩耗性の非磁性利料より成ることＶ特徴とする磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14013783A JPS6032108A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14013783A JPS6032108A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032108A true JPS6032108A (ja) | 1985-02-19 |
| JPH0467247B2 JPH0467247B2 (ja) | 1992-10-27 |
Family
ID=15261738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14013783A Granted JPS6032108A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032108A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0322592A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 把手装置 |
-
1983
- 1983-07-30 JP JP14013783A patent/JPS6032108A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0322592A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 把手装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0467247B2 (ja) | 1992-10-27 |
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| JPS62219217A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3104185B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
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