JPS6033289B2 - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6033289B2 JPS6033289B2 JP54091318A JP9131879A JPS6033289B2 JP S6033289 B2 JPS6033289 B2 JP S6033289B2 JP 54091318 A JP54091318 A JP 54091318A JP 9131879 A JP9131879 A JP 9131879A JP S6033289 B2 JPS6033289 B2 JP S6033289B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- oxygen
- coercive force
- thin film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 55
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 26
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 18
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 240000000530 Alcea rosea Species 0.000 description 1
- 235000017334 Alcea rosea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017303 Althaea rosea Nutrition 0.000 description 1
- 229910020676 Co—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/16—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
- Y10S428/9265—Special properties
- Y10S428/928—Magnetic property
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/1266—O, S, or organic compound in metal component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12931—Co-, Fe-, or Ni-base components, alternative to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12944—Ni-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属薄膜型磁気記録媒体に関するもので、そ
の磁気特性および耐蝕性を改善し、かつ生産性の向上を
も図ることを目的としたものである。
の磁気特性および耐蝕性を改善し、かつ生産性の向上を
も図ることを目的としたものである。
近年来、磁気記録の分野では高密度化の要求が高まって
きており、それにつれてこの要求を満足させる金属薄膜
型の磁気記録媒体の研究開発が意欲的に進められている
。
きており、それにつれてこの要求を満足させる金属薄膜
型の磁気記録媒体の研究開発が意欲的に進められている
。
この金属薄膜型磁気記録媒体の製作方法には大別して次
の二通りがあげられる。一つは化学メッキによる湿式法
であり、もつ一つはスパッタ、イオンプレーテイング、
真空蒸着等による乾式法である。この一つの方式のうち
乾式法は、製造時において磁性層の磁気特性の再現性に
すぐれ、かつ長手方向、幅方向に対しても均一なものが
得られ易く、さらに湿式法に見られるように廃液処理に
よる公害等の問題のないことから企業化する場合には、
魅力のある方式と考えられている。本発明者らも主に、
ガラス、金属、プラスチック等の基板の上にスパッタ、
イオンプレーティング、真空蒸着等の乾式法で強磁性金
属の薄膜を形成させて記録媒体としての諸特性、例えば
各種、電磁変換特性、実用特性等の検討を進めてきた。
その中で次に述べるような問題点があることが判明した
。｛１｝ 高密度記録化のために磁性層に要求される条
件として抗磁力が高いこと（だいたいの目安として１０
０のｅ近傍）と飽和磁束密度が高いことがあげられる。
の二通りがあげられる。一つは化学メッキによる湿式法
であり、もつ一つはスパッタ、イオンプレーテイング、
真空蒸着等による乾式法である。この一つの方式のうち
乾式法は、製造時において磁性層の磁気特性の再現性に
すぐれ、かつ長手方向、幅方向に対しても均一なものが
得られ易く、さらに湿式法に見られるように廃液処理に
よる公害等の問題のないことから企業化する場合には、
魅力のある方式と考えられている。本発明者らも主に、
ガラス、金属、プラスチック等の基板の上にスパッタ、
イオンプレーティング、真空蒸着等の乾式法で強磁性金
属の薄膜を形成させて記録媒体としての諸特性、例えば
各種、電磁変換特性、実用特性等の検討を進めてきた。
その中で次に述べるような問題点があることが判明した
。｛１｝ 高密度記録化のために磁性層に要求される条
件として抗磁力が高いこと（だいたいの目安として１０
０のｅ近傍）と飽和磁束密度が高いことがあげられる。
この抗磁力を高くする方法として一般に知られているの
は、基板に対して斜めに蒸発原子を入射させて成膜させ
る方法がある。しかし、この方法により今必要とされる
１００瓜史近い抗磁力を有する磁性層を作製しようとし
た場合、実験によるとＮｉではどの入射角領域を取って
も得られず、また、Ｆｅ，Ｃｏに関しては入射角（基板
にたてた垂線と蒸気の方向との作る角度：８）が８０ｑ
０以上とならなければ得ることができないことがわかっ
た。８０００の入射角の蒸気とは基板に対してほぼ水平
方向にスレスレ‘こ入ってくるため成膜速度が極めて低
く、したがって蒸気のあたる時間を長くしなければなら
ないため生産性が低くまた価格高となるため、企業化す
る場合に一つの障害となっている。
は、基板に対して斜めに蒸発原子を入射させて成膜させ
る方法がある。しかし、この方法により今必要とされる
１００瓜史近い抗磁力を有する磁性層を作製しようとし
た場合、実験によるとＮｉではどの入射角領域を取って
も得られず、また、Ｆｅ，Ｃｏに関しては入射角（基板
にたてた垂線と蒸気の方向との作る角度：８）が８０ｑ
０以上とならなければ得ることができないことがわかっ
た。８０００の入射角の蒸気とは基板に対してほぼ水平
方向にスレスレ‘こ入ってくるため成膜速度が極めて低
く、したがって蒸気のあたる時間を長くしなければなら
ないため生産性が低くまた価格高となるため、企業化す
る場合に一つの障害となっている。
また、このような高入射角の磁性層の膜構造を観察する
と、パッキングファイターが下っており（約０．２〜０
．３）、このことは、磁束密度の低下を招き思っていた
程記録密度が向上しない。■ 従来の塗布型の記録媒体
に比べ、金属薄膜型磁気記録媒体の問題点の１つに耐蝕
性が劣っていることがあげられる。
と、パッキングファイターが下っており（約０．２〜０
．３）、このことは、磁束密度の低下を招き思っていた
程記録密度が向上しない。■ 従来の塗布型の記録媒体
に比べ、金属薄膜型磁気記録媒体の問題点の１つに耐蝕
性が劣っていることがあげられる。
本発明者らの実験によってもｉ Ｎｉは磁気特性は良く
ないが、耐蝕性には勝れている。
ないが、耐蝕性には勝れている。
１１ 一方、Ｃｏ，Ｆｅにおいては、磁気特性は斜め蒸
着法により得られるが、耐蝕性に関しては高温中に放置
した場合斑点状の腐蝕が発生し、それが時間とともに拡
大し、さらに進むと基板からの剥離が生ずるといったこ
とが観察されている。
着法により得られるが、耐蝕性に関しては高温中に放置
した場合斑点状の腐蝕が発生し、それが時間とともに拡
大し、さらに進むと基板からの剥離が生ずるといったこ
とが観察されている。
このような状態では、記録および再生はもちろんできな
くなるために、記録媒体としては使用不可能となる重欠
陥で、これもまた工業化の隆路となっていた。本発明は
、前記問題点を解決するもので、以下にその実施例を図
面ととももこ説明する。
くなるために、記録媒体としては使用不可能となる重欠
陥で、これもまた工業化の隆路となっていた。本発明は
、前記問題点を解決するもので、以下にその実施例を図
面ととももこ説明する。
第１図は、金属薄膜型磁気記録媒体の斜視図である。
これは非磁性のガラス、プラスチック、金属等からなる
基板１の上にスパッタ、イオンプレーティング、真空蒸
着等によりＣｏ−Ｎｊの強磁性金属からなる磁性層２を
酸素雰囲気中で形成させたものである。第２図は、本発
明を検討した実験装置の概略断面正面図を示す。
基板１の上にスパッタ、イオンプレーティング、真空蒸
着等によりＣｏ−Ｎｊの強磁性金属からなる磁性層２を
酸素雰囲気中で形成させたものである。第２図は、本発
明を検討した実験装置の概略断面正面図を示す。
図において、３は真空蒸着室を示し、その室３内は真空
ポンプ系４により排気され適宜の真空度に保たれている
。また室３の下方には、強磁性金属５を収納し、それを
加熱溶融、蒸発させる蒸発源が設置されている。その上
方には、ガラス、プラスチック、金属等の非磁性材料よ
りなる基板１が基板支持台７に蒸気の方向に対して斜め
に設定されている。この斜めの角度８は任意に可変でき
るようになっている。本発明者らは、この入射角８を種
々変化させて実験を行った。
ポンプ系４により排気され適宜の真空度に保たれている
。また室３の下方には、強磁性金属５を収納し、それを
加熱溶融、蒸発させる蒸発源が設置されている。その上
方には、ガラス、プラスチック、金属等の非磁性材料よ
りなる基板１が基板支持台７に蒸気の方向に対して斜め
に設定されている。この斜めの角度８は任意に可変でき
るようになっている。本発明者らは、この入射角８を種
々変化させて実験を行った。
蒸発源６と基板１との間には、必要な時間のみ基板１に
蒸着されるようにシャッター８が設けられている。また
、９は蒸着中の雰囲気を決めるガス導入口で、これは外
部の導入ガスボンベ１０と連結されている。種々のガス
を真空葵着室３内に導入し実験を行った。磁性層材料の
選択 ｉ耐蝕性には問題があるが、抗磁力、角型比等の磁気特
性がすぐれてるＣｏと、磁気特性には問題があるが、耐
蝕性のすぐれているＮｉとを組合せた合金の磁性膜の検
討を行い、第３図、第４図に示す腐蝕および磁気特性の
組成依存性の結果を得た。
蒸着されるようにシャッター８が設けられている。また
、９は蒸着中の雰囲気を決めるガス導入口で、これは外
部の導入ガスボンベ１０と連結されている。種々のガス
を真空葵着室３内に導入し実験を行った。磁性層材料の
選択 ｉ耐蝕性には問題があるが、抗磁力、角型比等の磁気特
性がすぐれてるＣｏと、磁気特性には問題があるが、耐
蝕性のすぐれているＮｉとを組合せた合金の磁性膜の検
討を行い、第３図、第４図に示す腐蝕および磁気特性の
組成依存性の結果を得た。
腐蝕電流はポテソションスタットで求め、測定は、１皮
０の３％ＮａＣＩ溶液中に１肌×１伽の試料を浸潰させ
て行った。抗磁力の測定にはＶＳＭ（振動試料型磁化測
定装置）を用いた。
０の３％ＮａＣＩ溶液中に１肌×１伽の試料を浸潰させ
て行った。抗磁力の測定にはＶＳＭ（振動試料型磁化測
定装置）を用いた。
第３図によると、腐蝕電流はＮｉの含有量とともに指数
関数的に減少し、それにともない腐蝕しにくくなる。
関数的に減少し、それにともない腐蝕しにくくなる。
耐蝕性に関する従来のテープの評価基準として４０℃９
０％高湿中１週間により腐蝕による析出が観察されない
ことが規定されているがこれを満足させるためには後述
する酸素雰囲気中黍着ではＮｉ含有量を少なくとも１０
％以上必要とすることがわかった。また、残留ガス中蒸
着においてもＮｉ量を増加することにより基準をパスで
きる。また、第４図の組成と磁気特性（抗磁力）の関係
より、Ｎｉ含有量がある組成以上になると急に抗磁力が
落ちてくる遷移領域とさらにＮｉが増えると低い抗磁力
で安定する安定領域があることがわかった。これは、酸
素雰囲気中で成膜して磁性膜（図中１）においても、残
留ガス中で成膜した磁性膜（図中ロ）においても類似し
た傾向が観察され、成膜条件の差（入射角、０２の有無
、膜厚等）により遷移領域は若干シフトすることも観察
されている。
０％高湿中１週間により腐蝕による析出が観察されない
ことが規定されているがこれを満足させるためには後述
する酸素雰囲気中黍着ではＮｉ含有量を少なくとも１０
％以上必要とすることがわかった。また、残留ガス中蒸
着においてもＮｉ量を増加することにより基準をパスで
きる。また、第４図の組成と磁気特性（抗磁力）の関係
より、Ｎｉ含有量がある組成以上になると急に抗磁力が
落ちてくる遷移領域とさらにＮｉが増えると低い抗磁力
で安定する安定領域があることがわかった。これは、酸
素雰囲気中で成膜して磁性膜（図中１）においても、残
留ガス中で成膜した磁性膜（図中ロ）においても類似し
た傾向が観察され、成膜条件の差（入射角、０２の有無
、膜厚等）により遷移領域は若干シフトすることも観察
されている。
一方、磁気記録媒体としては高い抗磁力を必要とするこ
とから、おのずからＮｉ含有量のの上限が決定される。
この場合、数多く実験した結果、５５％Ｎｉの近傍にな
ると抗磁力の低下（約２０〜３０％の低下）はもちろん
起ってくるが、磁気特性のデータにバラッキが大きくな
り、再現性、安定性に欠けてくることが観察されている
。したがって、多くともＭ含有量は５５％以下に押えな
ければならないことがわかった。なお、第３図、第４図
の成膜条件は次表のとおりである。
とから、おのずからＮｉ含有量のの上限が決定される。
この場合、数多く実験した結果、５５％Ｎｉの近傍にな
ると抗磁力の低下（約２０〜３０％の低下）はもちろん
起ってくるが、磁気特性のデータにバラッキが大きくな
り、再現性、安定性に欠けてくることが観察されている
。したがって、多くともＭ含有量は５５％以下に押えな
ければならないことがわかった。なお、第３図、第４図
の成膜条件は次表のとおりである。
以上をまとめると、磁性層としては耐軸性、磁気特性の
面からＣｏ−Ｎｊ合金系で、かつその組成範囲が１０％
ミＮｉＳ５５％であることが必要とされる。
面からＣｏ−Ｎｊ合金系で、かつその組成範囲が１０％
ミＮｉＳ５５％であることが必要とされる。
導入ガスの選択
斜め蒸着法により抗磁力が向上されることは公知であり
、Ｃｏ−Ｎｉ合金系においても同様の効果が観察されて
いる。
、Ｃｏ−Ｎｉ合金系においても同様の効果が観察されて
いる。
本発明者らは、蒸着中に導入するガスの種類を量を種々
検討している中で、低い入射角における蒸着でも飛躍的
に抗磁力を向上させることができる条件を見出した。
検討している中で、低い入射角における蒸着でも飛躍的
に抗磁力を向上させることができる条件を見出した。
検討したガスは、０２，Ｃ０２，〜，Ｈｅ，ＣＨ４，Ｃ
２日等で、この中で０２のみが非常に顕著な特性改善の
効果があった。各組成領域に対してそれらの結果を第５
図、第６図、第７図に示す。図中で、横藤は膜中の酸素
量、縦軸は抗磁力を示す。
２日等で、この中で０２のみが非常に顕著な特性改善の
効果があった。各組成領域に対してそれらの結果を第５
図、第６図、第７図に示す。図中で、横藤は膜中の酸素
量、縦軸は抗磁力を示す。
第５図のＣｏのみの場合は、酸素量とともに抗磁力が顕
著に増加しある領域で飽和する。第７図のＮｉが６０％
以上の試料では酸素量とともにわずかに抗磁力が増加す
るのみで、Ｃｏ程の顕著な効果はない。一方、Ｃｏ−Ｎ
ｉ合金系において１０％ＳＮｉＳ５５％の領域では、酸
素量に対して山型の特性を示し、すなわゆ酸素量の増加
とともに抗磁力が増加し、ついにあるピーク点に達し、
さらに酸素量を増加させると今度は、反対に減少してく
る現象が観察されている。
著に増加しある領域で飽和する。第７図のＮｉが６０％
以上の試料では酸素量とともにわずかに抗磁力が増加す
るのみで、Ｃｏ程の顕著な効果はない。一方、Ｃｏ−Ｎ
ｉ合金系において１０％ＳＮｉＳ５５％の領域では、酸
素量に対して山型の特性を示し、すなわゆ酸素量の増加
とともに抗磁力が増加し、ついにあるピーク点に達し、
さらに酸素量を増加させると今度は、反対に減少してく
る現象が観察されている。
この山型の形やピークの高さ‘ま成膜条件（特に入射角
、膜厚、成膜速度）により変化することが観察されてい
る。特に抗磁力に関しては、Ｃｏと同様に０２ガスは、
斜入射角をさらに増幅させる作用をしているのが特徴的
である。
、膜厚、成膜速度）により変化することが観察されてい
る。特に抗磁力に関しては、Ｃｏと同様に０２ガスは、
斜入射角をさらに増幅させる作用をしているのが特徴的
である。
次に本実験の試料の作製条件は次表のとおりである。
抗磁力の測定は、前述と同じＶＳＭで測定し、膜中の酸
素量はオージェ電子分光分析法により測定したが、ＸＰ
Ｓ（光電子分光分析法）、イオンマイクロアナライザー
でも測定可能である。
素量はオージェ電子分光分析法により測定したが、ＸＰ
Ｓ（光電子分光分析法）、イオンマイクロアナライザー
でも測定可能である。
ただし酸素量のパーセテージは磁性層中のＣｏとＮｉに
対する原子数比で示している。なお、膜厚方向に酸素量
が均一でないため膜厚に対する平均値で酸素量を表わし
ている。
対する原子数比で示している。なお、膜厚方向に酸素量
が均一でないため膜厚に対する平均値で酸素量を表わし
ている。
次に膜中の酸素量について述べる。
‘１｝ 抗磁力は高い方が良い（図の山の中央付近）。
‘２ー 量産時を考慮すると、再現性、安安定性にすぐ
れた領域を使うこと。第６図によると、３％未満と４５
％を超える値ではデータのバラッキが顕著になつ〃くる
。この原因として前者は、導入酸素量が少ないため残留
ガスの影響を受けやすいこと、後者では酸素過多による
結晶成長への妨害等が考えられるが、今のところはっき
りしていない。‘３｝ 酸素量が４５％を超える値にな
ると、抗磁力の低下、磁束密度の低下、角型比の低下等
の相乗効果で、記録密度の低下が顕著になる。
れた領域を使うこと。第６図によると、３％未満と４５
％を超える値ではデータのバラッキが顕著になつ〃くる
。この原因として前者は、導入酸素量が少ないため残留
ガスの影響を受けやすいこと、後者では酸素過多による
結晶成長への妨害等が考えられるが、今のところはっき
りしていない。‘３｝ 酸素量が４５％を超える値にな
ると、抗磁力の低下、磁束密度の低下、角型比の低下等
の相乗効果で、記録密度の低下が顕著になる。
■ 酸素量が３％禾満の場合は、Ｎｉ含有量が１０％に
近いところで、前述の環境試験で腐蝕の発生するものが
見られた。
近いところで、前述の環境試験で腐蝕の発生するものが
見られた。
以上のようなＮｉ組成依存性、酸素量依存性をまとめた
ものが第８図である。
ものが第８図である。
耐蝕性すぐれかつ磁気特性が良好である領域が存在する
ことが示されている。図では斜線で表わされている領域
である。図において、腐は腐蝕性を、磁は磁気特性を、
０は良好を、×は不良をそれぞれ表わしている。第９図
は、本発明を工業規模で製造実施するための装置の一例
で、真空槽内にフィルム搬送系を設置し、蓮続蒸着する
ことにより長尺の磁気記録媒体を得ることができるもの
である。図において、第２図と異なるところについて説
明すると、１１は巻出しロールで、プラスチックフィル
ム１２が捲回されていて、フィルム１２がキャン１３に
沿って搬送し、この時キャン１３も同方向に回転してい
て走行を補助し、続いて巻取ロール１４で巻取られる。
ことが示されている。図では斜線で表わされている領域
である。図において、腐は腐蝕性を、磁は磁気特性を、
０は良好を、×は不良をそれぞれ表わしている。第９図
は、本発明を工業規模で製造実施するための装置の一例
で、真空槽内にフィルム搬送系を設置し、蓮続蒸着する
ことにより長尺の磁気記録媒体を得ることができるもの
である。図において、第２図と異なるところについて説
明すると、１１は巻出しロールで、プラスチックフィル
ム１２が捲回されていて、フィルム１２がキャン１３に
沿って搬送し、この時キャン１３も同方向に回転してい
て走行を補助し、続いて巻取ロール１４で巻取られる。
この間、キャン１３の下方で蒸着が行われる。１５はマ
スクで、蒸気の斜め成分を制御するものである。
スクで、蒸気の斜め成分を制御するものである。
この時は、高範囲な入射角成分を含むが最小入射角ａｍ
ｉｎで入射角を代表させている。このようにして作製し
た膜の磁気特性、耐蝕試験の結果は、第８図にまとめた
結果と基本的に一致していた。
ｉｎで入射角を代表させている。このようにして作製し
た膜の磁気特性、耐蝕試験の結果は、第８図にまとめた
結果と基本的に一致していた。
本発明は、Ｃｏ，Ｎｉ，０の関係について規定するもの
で、他の元素を含む場合もＣｏ，Ｎｉ，０が本発明の範
囲内にあるものか本発明の範囲となるものである。なお
、種々の環境試験の結果も本発明の優位性を裏付けるも
のであるが、特長的な結果以外は省略した。
で、他の元素を含む場合もＣｏ，Ｎｉ，０が本発明の範
囲内にあるものか本発明の範囲となるものである。なお
、種々の環境試験の結果も本発明の優位性を裏付けるも
のであるが、特長的な結果以外は省略した。
以上のように本発明は、Ｃｏ−Ｎｊ磁性層において、ｉ
）１０〜５５Ｍ％Ｎｉ，ｉｉ）３〜４５％の酸素量の組
合せにより、○｝ ４０ｏの入射角においても従来の８
０ｏ入射角並みの磁気特性が得られ生産性が向上した。
）１０〜５５Ｍ％Ｎｉ，ｉｉ）３〜４５％の酸素量の組
合せにより、○｝ ４０ｏの入射角においても従来の８
０ｏ入射角並みの磁気特性が得られ生産性が向上した。
すなわち従来フィルム速度が２肌／ｍｉｎのものが２０
の／ｍｉｎ以上となった。しかも耐軸性は例えば３０％
Ｎｉのものでは、前述の試験で１ケ月近く試験をしても
何ら変化は見られていないことから、実用上全く問題は
ないと思われる。（２｝ 士５％の精度で磁気特性を制
御でき、再現性、安定性がある。
の／ｍｉｎ以上となった。しかも耐軸性は例えば３０％
Ｎｉのものでは、前述の試験で１ケ月近く試験をしても
何ら変化は見られていないことから、実用上全く問題は
ないと思われる。（２｝ 士５％の精度で磁気特性を制
御でき、再現性、安定性がある。
糊 磁性膜中に酸素を含むことにより耐蝕性も向上する
。
。
｛４）また磁性膜中に酸素を含むことにより、基板との
付着強度が強くなっている。
付着強度が強くなっている。
これらの数多し、効果により本発明は、金属薄膜型磁気
記録媒体の企業化に多大の貢献をするものである。
記録媒体の企業化に多大の貢献をするものである。
第１図は金属薄膜型磁気記録媒体の斜視図、第２図は同
磁気記録媒体の実験装置の一例の断面正面図、第３図は
磁性層中のＮｉ量に対する腐蝕電流特性図、第４図は同
抗磁力特性図、第５図〜第７図はそれぞれ磁性層中の酸
素量に対する抗磁力特性図、第８図は磁性層中のＮｉ量
と酸素量との適正量を示す図、第９図は金属薄膜型磁気
記録媒体の製造装置の他の例の断面正面図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・磁性層。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第８図 第７図 第９図
磁気記録媒体の実験装置の一例の断面正面図、第３図は
磁性層中のＮｉ量に対する腐蝕電流特性図、第４図は同
抗磁力特性図、第５図〜第７図はそれぞれ磁性層中の酸
素量に対する抗磁力特性図、第８図は磁性層中のＮｉ量
と酸素量との適正量を示す図、第９図は金属薄膜型磁気
記録媒体の製造装置の他の例の断面正面図である。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・磁性層。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第８図 第７図 第９図
Claims (1)
- 非磁性基板上に形成された磁性層が主にニツケル、コ
バルト、酸素からなり、ニツケルとコバルトの組成比は
ニツケルの重量％で１０〜５５％の間を範囲とし、さら
に前記磁性層中の酸素原子数が磁性層中のニツケルとコ
バルトの原子数の和に対して３〜４５％であることを特
徴とする金属薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54091318A JPS6033289B2 (ja) | 1979-07-18 | 1979-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| US06/167,418 US4323629A (en) | 1979-07-17 | 1980-07-11 | Metallic thin film magnetic recording medium |
| CA000356405A CA1149686A (en) | 1979-07-18 | 1980-07-17 | Metallic thin film magnetic recording medium |
| EP80104249A EP0023328A1 (en) | 1979-07-18 | 1980-07-18 | Metallic thin film magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54091318A JPS6033289B2 (ja) | 1979-07-18 | 1979-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5615014A JPS5615014A (en) | 1981-02-13 |
| JPS6033289B2 true JPS6033289B2 (ja) | 1985-08-02 |
Family
ID=14023106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54091318A Expired JPS6033289B2 (ja) | 1979-07-17 | 1979-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4323629A (ja) |
| EP (1) | EP0023328A1 (ja) |
| JP (1) | JPS6033289B2 (ja) |
| CA (1) | CA1149686A (ja) |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3175106D1 (en) * | 1980-08-18 | 1986-09-18 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Magnetic recording media and process for fabricating the same |
| JPS5798133A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57196508A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-02 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS57198615A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS57198614A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS57199209A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-07 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape |
| JPS57207307A (en) * | 1981-06-16 | 1982-12-20 | Nippon Gakki Seizo Kk | Magnetic recording tape and manufacture thereof |
| JPS5883327A (ja) * | 1981-11-12 | 1983-05-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58108030A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS5958804A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5961105A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5974606A (ja) * | 1982-10-21 | 1984-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59119532A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59119531A (ja) * | 1982-12-25 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59119534A (ja) * | 1982-12-26 | 1984-07-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS59160828A (ja) * | 1983-03-01 | 1984-09-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59198707A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体 |
| JPS59163810A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-14 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体並びにその製造法 |
| EP0122030B1 (en) * | 1983-03-08 | 1987-08-26 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| US4599280A (en) * | 1983-04-25 | 1986-07-08 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPS59201221A (ja) * | 1983-04-29 | 1984-11-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPS59203238A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4741967A (en) * | 1983-06-08 | 1988-05-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium |
| US4575475A (en) * | 1983-07-12 | 1986-03-11 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| US4610911A (en) * | 1983-11-03 | 1986-09-09 | Hewlett-Packard Company | Thin film magnetic recording media |
| JPS60154323A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-14 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0766507B2 (ja) * | 1984-02-16 | 1995-07-19 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0610856B2 (ja) * | 1984-08-04 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4554217A (en) * | 1984-09-20 | 1985-11-19 | Verbatim Corporation | Process for creating wear and corrosion resistant film for magnetic recording media |
| KR890004257B1 (ko) * | 1984-10-29 | 1989-10-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록매체 및 그 제조법 |
| US4686151A (en) * | 1985-04-09 | 1987-08-11 | Dynamic Disk | Substrate material for magnetic recording media |
| JPH0777018B2 (ja) * | 1985-05-27 | 1995-08-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 磁気記録媒体 |
| EP0261240B1 (en) * | 1985-06-21 | 1992-05-06 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | Magnetic recording medium |
| JPH0626010B2 (ja) * | 1986-09-25 | 1994-04-06 | 日本電気株式会社 | 磁気記録体およびその製造方法 |
| JP2714698B2 (ja) * | 1989-05-12 | 1998-02-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US5139876A (en) * | 1990-03-05 | 1992-08-18 | Cleveland State University | Ceramic article having wear resistant coating |
| JP2623160B2 (ja) * | 1990-09-07 | 1997-06-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH05109046A (ja) * | 1990-12-13 | 1993-04-30 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| DE4221620C2 (de) * | 1992-07-01 | 2001-05-23 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
| DE4227588C2 (de) * | 1992-08-20 | 2001-05-03 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
| KR100239102B1 (ko) * | 1993-10-20 | 2000-01-15 | 모리시타 요이찌 | 자기기록매체의 제조방법 |
| US5518521A (en) * | 1993-11-08 | 1996-05-21 | Cts Corporation | Process of producing a low TCR surge resistor using a nickel chromium alloy |
| US5885930A (en) * | 1997-07-30 | 1999-03-23 | Eastman Kodak Company | Thin wear resistant and heat conductive slip layer for a reusable thermal dye donor belt |
| CN118441257A (zh) * | 2024-05-28 | 2024-08-06 | 济南量子技术研究院 | 可在线检测电阻率的钽薄膜制备方法及制备装置 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL101173C (ja) * | 1952-04-22 | |||
| BE603828A (ja) * | 1960-05-19 | 1900-01-01 | ||
| US3150939A (en) * | 1961-07-17 | 1964-09-29 | Ibm | High density record carrier |
| US3206325A (en) * | 1961-09-14 | 1965-09-14 | Alloyd Corp | Process for producing magnetic product |
| US3700500A (en) * | 1967-12-04 | 1972-10-24 | Gen Electric | Magnetic films having a predetermined coercivity |
| DE2001044A1 (de) * | 1970-01-12 | 1971-07-22 | Basf Ag | Starre Magnetogrammtraeger |
| JPS5719845B2 (ja) * | 1972-10-03 | 1982-04-24 | ||
| JPS4972699A (ja) * | 1972-11-16 | 1974-07-13 | ||
| JPS5642054B2 (ja) * | 1973-07-25 | 1981-10-02 | ||
| DE2365179C2 (de) * | 1973-12-29 | 1985-12-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Herstellung von magnetischen Teilchen mit Austausch-Anisotropie und deren Verwendung |
| JPS5910986B2 (ja) * | 1975-12-09 | 1984-03-13 | 大同特殊鋼株式会社 | テツ−ニツケルケイコウトウジリツゴウキン |
| GB1599161A (en) * | 1976-07-15 | 1981-09-30 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Magnetic recording medium and method of making the same |
| JPS5319998A (en) * | 1976-08-09 | 1978-02-23 | Toda Kogyo Corp | Process for preparing cobalttdoped acicular magnetite particle having magnetic stability |
| JPS5419199A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium porcess |
| GB1596385A (en) * | 1976-12-29 | 1981-08-26 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Methods and apparatus for manufacturing magnetic recording media |
| US4245008A (en) * | 1978-10-30 | 1981-01-13 | International Business Machines Corporation | Corrosion resistant magnetic recording media |
-
1979
- 1979-07-18 JP JP54091318A patent/JPS6033289B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-07-11 US US06/167,418 patent/US4323629A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-07-17 CA CA000356405A patent/CA1149686A/en not_active Expired
- 1980-07-18 EP EP80104249A patent/EP0023328A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1149686A (en) | 1983-07-12 |
| EP0023328A1 (en) | 1981-02-04 |
| JPS5615014A (en) | 1981-02-13 |
| US4323629A (en) | 1982-04-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6033289B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| US4239835A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS5961105A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4521481A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4325733A (en) | Amorphous Co-Ti alloys | |
| US4002546A (en) | Method for producing a magnetic recording medium | |
| US4536443A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS6153770B2 (ja) | ||
| JPH0133924B2 (ja) | ||
| US4876113A (en) | Method for producing magnetic recording media | |
| JPS5987622A (ja) | 磁気記録体並にその製造法 | |
| JPS6148128A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61236025A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| Kunieda et al. | Metal evaporated video tape | |
| US4948626A (en) | Method for producing thin-film magnetic recording medium | |
| JPS59162622A (ja) | 垂直磁気記録体並にその製造法 | |
| JPS58194135A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS60124021A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61250827A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| KR890003584B1 (ko) | 자기 기록매체의 증착 방법 | |
| JPS58200513A (ja) | 磁気記憶媒体 | |
| JPS6194237A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61278027A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0479043B2 (ja) | ||
| Futamoto et al. | Influence of atmospheric gas on magnetic properties of Co Cr films prepared by vacuum deposition |