JPS6035536U - 減圧式気相成長装置 - Google Patents

減圧式気相成長装置

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JPS6035536U
JPS6035536U JP12748683U JP12748683U JPS6035536U JP S6035536 U JPS6035536 U JP S6035536U JP 12748683 U JP12748683 U JP 12748683U JP 12748683 U JP12748683 U JP 12748683U JP S6035536 U JPS6035536 U JP S6035536U
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JP
Japan
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reduced pressure
vapor phase
phase growth
pressure vapor
growth equipment
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Application number
JP12748683U
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English (en)
Inventor
湯上 清也
Original Assignee
九州日本電気株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は減圧式気相成長装置の横断面図であり、第2図
は第1図の減圧式気相成長装置の正面図である。 なお図に於て、1・・・反応管、2・・・半導体基板、
3・・・半導体基板保持治具、である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体基板に減圧下で薄膜を生成する工程に於て使用す
    る半導体基板の径より内径が631!rIn以上大きい
    反応管を有することを特徴とする減圧式気相長装置。
JP12748683U 1983-08-18 1983-08-18 減圧式気相成長装置 Pending JPS6035536U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52132675A (en) * 1976-04-30 1977-11-07 Fujitsu Ltd Vapor-phase growth method of thin film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52132675A (en) * 1976-04-30 1977-11-07 Fujitsu Ltd Vapor-phase growth method of thin film

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