JPS6035552A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS6035552A JPS6035552A JP58143866A JP14386683A JPS6035552A JP S6035552 A JPS6035552 A JP S6035552A JP 58143866 A JP58143866 A JP 58143866A JP 14386683 A JP14386683 A JP 14386683A JP S6035552 A JPS6035552 A JP S6035552A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は半導体装置、さらには、樹脂封止型の半導体装
置に適用して効果のある技術に関するものである。
置に適用して効果のある技術に関するものである。
[背景技術]
樹脂封止型の半導体装置においては、リードフレームの
ペレット取り付は部(タブ)」二に半導体ペレットをボ
ンディングし、そのペレットのアルミニウム(At)電
極を金(Au)等のワイヤでリードフレームのインナー
リード部と電気的に接続することが考えられる。また、
ペレソ1−の表面部は内部配線、特にアルミニウム配線
を腐食から保護するため、ファイナルバッジベージラン
としてたとえばPSG、P−3iN、P−5i02等の
表面像gff Nを設けている。しかし、ペレットの表
面部にはワイヤボンディング用の電極を形成しなければ
ならず、しかも樹脂封止型半導体装置ではリードフレー
ムと樹脂の間等から水分等が侵入し易いので、このアル
ミニウム電極部を如何にして腐食から保護するかが重要
な課題となる。
ペレット取り付は部(タブ)」二に半導体ペレットをボ
ンディングし、そのペレットのアルミニウム(At)電
極を金(Au)等のワイヤでリードフレームのインナー
リード部と電気的に接続することが考えられる。また、
ペレソ1−の表面部は内部配線、特にアルミニウム配線
を腐食から保護するため、ファイナルバッジベージラン
としてたとえばPSG、P−3iN、P−5i02等の
表面像gff Nを設けている。しかし、ペレットの表
面部にはワイヤボンディング用の電極を形成しなければ
ならず、しかも樹脂封止型半導体装置ではリードフレー
ムと樹脂の間等から水分等が侵入し易いので、このアル
ミニウム電極部を如何にして腐食から保護するかが重要
な課題となる。
そこで、ポンディングパッド部のアルミニウム電極の耐
湿性向上のため、アルミニウム電極の表面に金の被膜を
形成することが本出願人によって提案されている(特開
昭54−128280号)。
湿性向上のため、アルミニウム電極の表面に金の被膜を
形成することが本出願人によって提案されている(特開
昭54−128280号)。
この従来構造は耐湿性の向上による高信頼性を得るとい
う所期の目的を達成することができるものであることが
確認されているが、金被膜を使用しているためコストが
高くなるという問題がある。
う所期の目的を達成することができるものであることが
確認されているが、金被膜を使用しているためコストが
高くなるという問題がある。
さらにまた、素子のボンディングバンドからのびるワイ
ヤを受け止めるリードフレームのインナーリード部やタ
ブに接着性を向上させるため同様に金や銀等の貴金属の
めっきをすることも考えられるが、やはりコストの上昇
をもたらすという問題がある。
ヤを受け止めるリードフレームのインナーリード部やタ
ブに接着性を向上させるため同様に金や銀等の貴金属の
めっきをすることも考えられるが、やはりコストの上昇
をもたらすという問題がある。
[発明の目的]
本発明の目的は、低いコストでポンディングパッドの耐
湿性を向上させることのできる半導体装置を提供するこ
とにある。
湿性を向上させることのできる半導体装置を提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は、リードフレームのコスト低減を実
現する半導体装置を提供することにある。
現する半導体装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
[発明の概要]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、ペレットのボンディングバンドの表面を安価
な錫またはその合金で覆うことにより前記目的を達成す
るものである。
な錫またはその合金で覆うことにより前記目的を達成す
るものである。
また、リードフレームの少なくともワイヤボンディング
領域を安価な錫またはその合金で覆うことにより前記目
的を達成するものである。
領域を安価な錫またはその合金で覆うことにより前記目
的を達成するものである。
[実施例1]
第1図は本発明の一実施例による半導体装置の断面図、
第2図はその要部の拡大部分断面図である。
第2図はその要部の拡大部分断面図である。
この実施例1において、リードフレームlのタブ2上に
はシリコン(St)等の半導体ペレット3が取り付けら
れている。このペレット3のポンディングパッドは金等
のワイヤ4により、リードフレーム1のインナーリード
部5とボンディングされ、電気的に接続されている。
はシリコン(St)等の半導体ペレット3が取り付けら
れている。このペレット3のポンディングパッドは金等
のワイヤ4により、リードフレーム1のインナーリード
部5とボンディングされ、電気的に接続されている。
また、前記ペレット3、ワイヤ4等は樹脂のモールドに
よりパッケージ6の中に封止されている前記ペレット3
のポンディングパッドは第2図に示すように、シリコン
基板7−Lのアルミニウム配線8の上に形成したP−3
iOまたはP−SiN等の表面保護M9の窓開部にクロ
ームI’W10および銅(またはニッケル)Wlllを
形成し、さらにその上に錫(S n)または錫の合金よ
りなる層12(以下、単に錫層と称する。)を形成した
ものである。
よりパッケージ6の中に封止されている前記ペレット3
のポンディングパッドは第2図に示すように、シリコン
基板7−Lのアルミニウム配線8の上に形成したP−3
iOまたはP−SiN等の表面保護M9の窓開部にクロ
ームI’W10および銅(またはニッケル)Wlllを
形成し、さらにその上に錫(S n)または錫の合金よ
りなる層12(以下、単に錫層と称する。)を形成した
ものである。
したがって、本実施例では、アルミニウム配線8の電極
部すなわちボンディングバンド部の最上層は錫層12で
覆われていることになり、ワイヤ4は、この錫層12の
上にボンディングされる。
部すなわちボンディングバンド部の最上層は錫層12で
覆われていることになり、ワイヤ4は、この錫層12の
上にボンディングされる。
それにより、ワイヤ4と錫層12はそれぞれの材質であ
る金−錫(Au−3n)の共晶により確実に接続される
。
る金−錫(Au−3n)の共晶により確実に接続される
。
前記錫層12はめっき、蒸着、スパツク等の方法で形成
し、その後に化学的処理等で規定の形状にパターニング
することにより作られる。
し、その後に化学的処理等で規定の形状にパターニング
することにより作られる。
錫層12の錫材料はアルミニウムよりもイオン傾向が小
さいので、外部から侵入して来た水分等の腐食性物質に
対して抗力を有し、ポンディングパッドの耐湿性、耐食
性を大rpに向」二させることができる。しかも、錫は
金や銀の如き貴金属よりもはるかに安価であり、コスト
の大中な低減が図られる。
さいので、外部から侵入して来た水分等の腐食性物質に
対して抗力を有し、ポンディングパッドの耐湿性、耐食
性を大rpに向」二させることができる。しかも、錫は
金や銀の如き貴金属よりもはるかに安価であり、コスト
の大中な低減が図られる。
[実施例2コ
第3図は本発明の他の実施例である半導体装置の拡大部
分断面図である。
分断面図である。
この実施例2では、リードフレーム1のタブ2のペレッ
ト取り付は面およびインナーリード部5のワイヤボンデ
ィング面に錫または錫の合金よりなる錫層13をめっき
等で形成した点が実施例1と異なる。
ト取り付は面およびインナーリード部5のワイヤボンデ
ィング面に錫または錫の合金よりなる錫層13をめっき
等で形成した点が実施例1と異なる。
この錫JFt13を設けたことにより、ペレット3の導
電性接着材によるボンディングおよびワイヤ4の熱圧着
ボンディングの接着性能が改善される上に、金や銀の如
き貴金属と比較して非常に安価に半導体装置を形成でき
る。
電性接着材によるボンディングおよびワイヤ4の熱圧着
ボンディングの接着性能が改善される上に、金や銀の如
き貴金属と比較して非常に安価に半導体装置を形成でき
る。
したがって、本実施例では、ボンディング性能およびボ
ンディングバンドの耐食性の向上に加えて、コストの低
減も相乗的に奏せられる。
ンディングバンドの耐食性の向上に加えて、コストの低
減も相乗的に奏せられる。
[効果]
(1)、ペレットのワイヤボンディング用のポンディン
グパッドの表面に錫または錫の合金の屑を形成したこと
により、低いコストで高い耐湿性を得ることができる。
グパッドの表面に錫または錫の合金の屑を形成したこと
により、低いコストで高い耐湿性を得ることができる。
(2)、リードフレームの少なくともワイヤボンディン
グ領域の上に錫または錫の合金の層を形成したことによ
り、低いコストで良好なボンディング性能を得ることが
できる。
グ領域の上に錫または錫の合金の層を形成したことによ
り、低いコストで良好なボンディング性能を得ることが
できる。
(3)、前記(1)と(2)の組合せにより、耐湿性お
よびボンディング性能が良好な半導体装置を低コストで
得ることができる。
よびボンディング性能が良好な半導体装置を低コストで
得ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸説しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸説しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、錫の合金の種類、あるいはポンディングパッ
ドの錫層の下側の中間層の構造等は前記実施例に限定さ
れるものではない。
ドの錫層の下側の中間層の構造等は前記実施例に限定さ
れるものではない。
第1図は本発明の一実施例による半導体装置の断面図、
第2図はその要部の拡大部分断面図、
第3図は本発明の他の実施例の拡大部分断面図である。
1・・・リードフレーム、2・・・クプ、3・・・ペレ
ット、4・・・ワイヤ、5・・・インナーリード部、6
・・・パンケージ、7・・・シリコン基板、8・・・ア
ルミニウム配線、9・・・表面保護層、10・・・クロ
ーム層、11・・・ 銅(またはニッケル)層、12.
13・・・錫または錫の合金の層。
ット、4・・・ワイヤ、5・・・インナーリード部、6
・・・パンケージ、7・・・シリコン基板、8・・・ア
ルミニウム配線、9・・・表面保護層、10・・・クロ
ーム層、11・・・ 銅(またはニッケル)層、12.
13・・・錫または錫の合金の層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、樹脂封止型の半導体装置において、ペレットのワイ
ヤボンディング用のポンディングパッドの表面に錫また
は錫の合金の層を形成したことを特徴とする半導体装置
。 2、樹脂封止型の半導体装置において、リードフレーム
の少な(ともワイヤボンディング領域の上の一部に錫ま
たは錫の合金の眉を形成したことを特徴とする半導体装
置。 3、リードフレーム上に取り付けたペレットのワイヤボ
ンディング用のポンディングパッドの表面に錫または錫
の合金の層を形成したことを特徴とする特許端2求の範
囲第2項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143866A JPS6035552A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143866A JPS6035552A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035552A true JPS6035552A (ja) | 1985-02-23 |
Family
ID=15348808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58143866A Pending JPS6035552A (ja) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035552A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5965943A (en) * | 1997-10-01 | 1999-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with bonding pad electrode |
| WO2000057472A1 (de) * | 1999-03-24 | 2000-09-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum verbinden eines anschlussdrahtes mit einem anschlusskontakt eines integrierten schaltkreises |
| JP2002373910A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-12-26 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| ITTO20120374A1 (it) * | 2012-04-27 | 2013-10-28 | St Microelectronics Srl | Struttura a semiconduttore con regioni conduttive a bassa temperatura di fusione e metodo per riparare una struttura a semiconduttore |
| JP2018067680A (ja) * | 2016-10-21 | 2018-04-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 半導体装置 |
-
1983
- 1983-08-08 JP JP58143866A patent/JPS6035552A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5965943A (en) * | 1997-10-01 | 1999-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with bonding pad electrode |
| WO2000057472A1 (de) * | 1999-03-24 | 2000-09-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum verbinden eines anschlussdrahtes mit einem anschlusskontakt eines integrierten schaltkreises |
| JP2002373910A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-12-26 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| ITTO20120374A1 (it) * | 2012-04-27 | 2013-10-28 | St Microelectronics Srl | Struttura a semiconduttore con regioni conduttive a bassa temperatura di fusione e metodo per riparare una struttura a semiconduttore |
| US9318313B2 (en) | 2012-04-27 | 2016-04-19 | Stmicroelectronics S.R.L. | Semiconductor structure with low-melting-temperature conductive regions, and method of repairing a semiconductor structure |
| JP2018067680A (ja) * | 2016-10-21 | 2018-04-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 半導体装置 |
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