JPS6035994Y2

JPS6035994Y2 - 高周波加熱装置

Info

Publication number: JPS6035994Y2
Application number: JP18445280U
Authority: JP
Inventors: 正治米倉; 幸雄鈴木
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1980-12-22
Filing date: 1980-12-22
Publication date: 1985-10-25
Also published as: JPS57106200U

Description

【考案の詳細な説明】この考案は低誘電体からなる基板上に励振口を形成する
金属片が配設されてなる回転円板を加熱室の高周波受入
口に設けた高周波加熱装置に関する。

第１図および第２図は高周波加熱装置、例えば電子レン
ジ全体の概略構成を示すものである。

本体１には加熱室２とマグネトロン（高周波発振器）３
とが収納されている。

加熱室２の底部には食品等を載せる載置板４が設けられ
、さらに加熱室２の天井面には円形の高周波受入口５が
設けられている。

高周波受入口５の下方は低誘電体からなり、後述する回
転円板６を遮蔽する仕切板７により閉塞され、さらに高
周波受入口５の上方は空胴箱８−によって閉塞されてい
る。

この空胴箱８はマグネトロン３から出力された高周波を
導く連結部９に連結され、この連結部９とともに導波管
を構成するものである。

また、高周波受入口５には、この高周波受入口５より若
干中さい前記回転円板６が設けられている。

この回転円板６は空胴箱８に取付けられた支持部材１０
腎より回転自在に支持されているとともに、上面には複
数の風受部１１・・・・・・が立設されており、例えば
マグネトロン３を冷却する送風機（図示せず）から発せ
られる風が空胴箱８内に導入され、空胴箱８内に導入さ
れた風によって回転駆動されるようになっている。

第３図および第４図は従来の前記回転円板６の構成を示
すものである。

すなわち、回転円板６は低誘電体からなる円形の基板１
２とこの基板１２上に配設された４枚の金属片１３・・
・・・・とから構成されている。

各金属片１３・・・・・・は基板１２の周縁部１２ａに
沿って配設されているとともに、各金属片１３・・・・
・・間は所定間隔離間されており、各金属片１３・・・
・・・によって略十字状の励振口１４が形成されている
。

そして、マグネトロン３から出力された高周波は導波管
を通じて高周波受入口５へ導かれ、各金属片１３・・・
・・・の表面で略全反射され、励振口１４を通じて加熱
室２内へ導入されることになり、励振口１４は回転円板
６の回転にともない回転されるので、加熱室２内に導入
される高周波エネルギの分布を良好な状態に調整するこ
とができるようになっている。

ところで、加熱室２における高周波受入口５の内周部位
２ａと回転円板６との間には高周波の漏洩が生じない程
度の比較的狭い間隙しか設けられていないのが普通であ
る。

しかしながら、回転円板６は基板１２の周縁部１２ａに
沿わせた状態で各金属片１３・・・・・・が配設される
構成になっていたので、高周波受入口５の中心線に対し
て回転円板６の中心線がずれた位置に回転円板６が取付
けられたり、回転円板６と回転軸との取付状態が不安定
であったり、回転円板６が偏心位置で支持されていたり
、或いは基板１２から金属片１３・・・・・・が剥離す
る等の不具合が製造工程中に生じた場合には、使用時に
加熱室２における高周波受入口５の内周部位２ａと回転
円板６とが接触するおそれがあった。

この場合、各金属片１３・・・・・・と金属等から形成
されている前記加熱室２の内周部位２ａとが直接衝突す
ることになるので、両者の衝突時における衝撃によって
、スパークが生じ各金属片１３・・・・・・が発熱し、
基板１２が熱変形を起こすおそれがある。

基板１２が熱変形を起こした場合には、回転円板６を円
滑に回転させることができないので、加熱室２内に導入
される高周波エネルギの分布を良好な状態に調整するこ
とができなくなる問題があり、電子レンジ全体の耐久性
の向上が図れない難点があった。

この考案は上記事情を考慮してなされたもので、その目
的は、製造工程中に製作誤差等の不具合が生じて、使用
時に回転円板が加熱室に直接接触したとしても、基板が
熱変形を起こすおそれを少なくすることができ、回転円
板を円滑に回転させることができ、全体の耐久性の向上
を図ることのできる高周波加熱装置を提供することにあ
る。

以下、この考案の一実施例を第５図乃至第８図を参照し
て説明する。

第５図乃至第８図において、２１は本体、２２は加熱室
、２３はマグネトロン（高周波発振器）のアンテナ部、
２４は空胴箱、２５は空胴箱２４とともに導波管を構成
する連結部である。

前記加熱室２２の天井面に設けられた円形の高周波受入
口２６には回転円板２７が配設されている。

この回転円板２７は低誘電体からなる円形の基板２８と
この基板２８上に配設された４枚の金属片２９・・・・
・・とから形成されている。

基板２８は高周波受入口２６より大径に形成されており
、前記高周波受入口２６を下方から閉塞する状態で配設
されている。

さらに、この基板２８上には複数の風受部３０が突設さ
れている。

また、前記各金属片２９・・・・・・は基板２８の周縁
部２８ａより内側で、しかも高周波受入口２６の内側に
位置する状態で配設されているとともに、各金属片２９
・・・・・・間は所定間隔離間されている。

そして、各金属片２９・・・・・・によって略十字状の
励振口３１が形成されている。

基板２８の中央には回転軸３２が取着されており、回転
円板２７は空胴箱２４に取付けられた支持部材３３にこ
の回転軸３２が軸支され、回転自在となっている。

そして、回転円板２７は後述する導入口３６から送り込
まれる冷却風によって回転駆動されるようになっている
。

一方、３４はマグネトロンを冷却する冷却風を送風する
送風機で、この送風機３４から連結部２５内に送り込ま
れた冷却風はダクト３５に導かれて空胴箱２４の一部に
設けられた前記導入口３６から空胴箱２４内に送り込ま
れるようになっている。

また、空胴箱２４内には金属製の風向板３７が取付けら
れており、導入口３６から空胴箱２４内に送り込まれた
冷却風が回転円板２７の回転を妨げる方向へ流れること
が防止されている。

そこで、上記構成のものにあっては、回転円板２７は基
板２８の周縁部２８ａより内側に配置される構成になっ
ているので、製造工程中に高周波受入口２６の中心線に
対して回転円板２７の中心線がずれた位置に回転円板２
７が取付けられたり、回転円板２７と回転軸３２との取
付状態が不安定であったり、回転円板２７が偏心位置で
支持されていたり、或いは基板２８から金属片２９・・
・・・・が剥離する等の不具合が生じ、使用中に回転円
板２７と加熱室２４における高周波受入口２６の近傍部
位２４ａとが接触したとしても、基板２８のみが加熱室
２４の前記近傍部位２４ａと接触することが多い。

そのため、金属同志が直接衝突する不都合を少なくする
ことができる。

なお、加熱室２４の前記近傍部位２４ａと基板２８とが
接触したとしても、スパーク等が生じることはなく、基
板２８に多少傷が付く程度の損傷が生じるのみである。

そのため、従来のように金属片２９・・・・・・の発熱
によって基板２８が熱変形を起こすおそれを少なくする
ことができるので、回転円板２７を常に円滑に回転させ
ることができ、全体の耐久性の向上を図ることができる
。

また、高周波受入口２６よりも大径な基板２８によって
高周波受入口２６が閉塞されているので、この基板２８
によって食品の調理時等に生じる塵埃等が高周波受入口
２６を通じて加熱室２４から漏洩することを防ぐことが
できる。

そのため、従来のものに設けられていた仕切板７を省略
することができる。

さらに、空胴箱２４内に風向板３７を設けたので、導入
口３６から空胴箱２４内に送り込まれる冷却風が回転円
板２７の回転を妨げる方向へ向って流れることはなく、
回転円板２７を円滑に回転することができる。

また、風向板３７は金属製のものであり、マグネトロン
と加熱室２４内とを製合させるマツチング素子として機
能するので、電界集中、モーディング等の発生を少なく
することができる。

なお、この考案は上記実施例に限定されるものではない
。

例えば、第９図に示すように回転円板４１は基板４２が
高周波受入口４３よりも小径に形成され、この基板４２
の周縁部４２ａの内側に各金属片４４・・・・・・が配
設される構成のものであってもよい。

また、第１０図に示すように回転円板５１は小径部５２
と大径部５３とを有し大径部５３が高周波受入口５４よ
り大径に、小径部５２が高周波受入口５４より小径に形
成された基板５５と小径部５２の周縁部５２ａの内側に
配設された複数の金属片５６・・・・・・とから形成さ
れたものであってもよい。

さらに、第５図乃至第８図に示した実施例の風受部３０
は金属片２９・・・・・・の一部を折曲して形成しても
よい。

また、回転円板はモータ等によって回転駆動されるもの
であってもよい。

以上説明したように、この考案は低誘電体からなる基板
上に励振口を形成する金属片が配設されてなる回転円板
を備えた高周波加熱装置において、前記回転円板におけ
る基板の周縁部より内側に金属片を配置するようにした
ことを特徴とするものである。

したがって、製造工程中に製作誤差等の不具合が生じる
ことにより、使用時に回転円板が加熱室に接触したとし
ても、金属片と加熱室とが直接接触するおそれを少なく
することができるので、基板が熱変形を起こすおそれを
少なくすることができる。

そのため、回転円板を常に円滑に回転させることができ
、全体の耐久性の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は従来例を示すもので、第１図は全体
構成を示す横断面図、第２図は第１図の■−■線断面図
、第３図は回転円板の取付状態を示す平面図、第４図は
第３図のＩＶ−ＩＶ線断面図、第５図乃至第８図はこの
考案の一実施例を示すもので、第５図は全体構成を示す
横断面図、第６図は回転円板の取付状態を示す平面図、
第７図は第６図の■−■線断面図、第８図は要部を示す
斜視図、第９図および第１０図はそれぞれ異なる別の実
施例を示す縦断面図である。２２・・・・・・加熱室、２４・・・・・・空胴箱（導
波管）、２５・・・・・・連結部（導波管）、２６・・
・・・・高周波受入口、２７，４１．５１・・・・・・
回転円板、２８，４２．５５・・・・・・基板、２９，
４４，５６・・・・・・金属片、３１・・・・・・励振
口。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

（１）高周波発振器から出力された高周波を導波管を介
して加熱室内へ導くとともに、この加熱室の高周波受入
口に、低誘電体からなる基板上に金属片を配設して励振
口を形成した回転円板を配設した高周波加熱装置におい
て、前記回転円板における前記金属片を前記基板の周縁
部より内側に配置したことを特徴とする高周波加熱装置
。
（２）回転円板は、加熱室の高周波受入口より大径で前
記高周波受入口を閉塞する状態で配設された基板と、前
記高周波受入口の内側に位置する状態で配設された金属
片とから形成したことを特徴とする実用新案登録請求の
範囲第（１）項記載の高周波加熱装置。