JPS6037115A - 固体電解コンデンサ - Google Patents
固体電解コンデンサInfo
- Publication number
- JPS6037115A JPS6037115A JP14437583A JP14437583A JPS6037115A JP S6037115 A JPS6037115 A JP S6037115A JP 14437583 A JP14437583 A JP 14437583A JP 14437583 A JP14437583 A JP 14437583A JP S6037115 A JPS6037115 A JP S6037115A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solid electrolytic
- poly
- electrolytic capacitor
- para
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 23
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims description 10
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 6
- -1 poly(para-phenylene) Polymers 0.000 description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 13
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 10
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 8
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YBGKQGSCGDNZIB-UHFFFAOYSA-N arsenic pentafluoride Chemical compound F[As](F)(F)(F)F YBGKQGSCGDNZIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017049 AsF5 Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 3
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920002863 poly(1,4-phenylene oxide) polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N sulfurochloridic acid Chemical compound OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 5-[bis(2-chloroethyl)amino]-6-methyl-1h-pyrimidine-2,4-dione Chemical compound CC=1NC(=O)NC(=O)C=1N(CCCl)CCCl SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002089 NOx Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- ZRZKFGDGIPLXIB-UHFFFAOYSA-N fluoroform;sulfuric acid Chemical compound FC(F)F.OS(O)(=O)=O ZRZKFGDGIPLXIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N iodine monobromide Chemical compound IBr CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical group [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBCUTHMOOONNBS-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentafluoride Chemical compound FP(F)(F)(F)F OBCUTHMOOONNBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高分子化合物にドーパントをドープして1!
7られる電導性高分子化合物を固体電解質とする固体電
解コンデンサ関する。
7られる電導性高分子化合物を固体電解質とする固体電
解コンデンサ関する。
固体電解コンデンサはN極酸化皮膜を有するアルミニウ
ム、タンタルなどの皮膜形成金属に固体電解質を付着し
た構造を有している。従来のこの種の固体コンデンサの
固体電解質には、主に硝酸マンガンの熱分解により形成
される二酸化マンガンが用いられている。しかし、この
熱分解の際に要する高熱と発生するN Oxガスの酸化
作用などによって、誘電体であるアルミニウム、タンタ
ルなどの金属酸化皮膜の損傷があり、そのため耐電圧は
低下し、もれ電流が大きくなり、誘電特性を劣化さゼる
など極めて大きな欠点がある。また、再化成という工程
も必要である。
ム、タンタルなどの皮膜形成金属に固体電解質を付着し
た構造を有している。従来のこの種の固体コンデンサの
固体電解質には、主に硝酸マンガンの熱分解により形成
される二酸化マンガンが用いられている。しかし、この
熱分解の際に要する高熱と発生するN Oxガスの酸化
作用などによって、誘電体であるアルミニウム、タンタ
ルなどの金属酸化皮膜の損傷があり、そのため耐電圧は
低下し、もれ電流が大きくなり、誘電特性を劣化さゼる
など極めて大きな欠点がある。また、再化成という工程
も必要である。
これらの欠点を補うため、高熱をイリ加せずに固体電解
質層を形成する方法、つまりへ電導性の有機半導体材料
を固体電解質とづる方法が試みられている。その例とし
ては、特開昭52−79255号公報が記載されている
7、7,8.8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ
)銘塩を含む電導性高重合体組成物を固体電解質として
含む固体電解コンデンサ、特開昭58−17609号公
報に記載されているN−n−プロピルイソキノリンと
7.7,8.8−テトラシアノキノジメタンからなる1
11塩を固体電解コンデンサが知られている。これらT
NCQNC化合物は陽1fi酸化皮膜とのイ]看性に劣
り、電導度も10−3〜104 s −c+n−電と不
十分であるため、フンデンサの容量値は小さく誘電損失
も大きい。また熱的経時的な安定性も劣り信頼性が低い
。
質層を形成する方法、つまりへ電導性の有機半導体材料
を固体電解質とづる方法が試みられている。その例とし
ては、特開昭52−79255号公報が記載されている
7、7,8.8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ
)銘塩を含む電導性高重合体組成物を固体電解質として
含む固体電解コンデンサ、特開昭58−17609号公
報に記載されているN−n−プロピルイソキノリンと
7.7,8.8−テトラシアノキノジメタンからなる1
11塩を固体電解コンデンサが知られている。これらT
NCQNC化合物は陽1fi酸化皮膜とのイ]看性に劣
り、電導度も10−3〜104 s −c+n−電と不
十分であるため、フンデンサの容量値は小さく誘電損失
も大きい。また熱的経時的な安定性も劣り信頼性が低い
。
本発明の目的は上述した従来の欠点を解決するため、電
導度が高く、誘電体皮膜との付着性のよい有機半導体を
固体電解質に用いた固体電解コンデンサを提供すること
にある。
導度が高く、誘電体皮膜との付着性のよい有機半導体を
固体電解質に用いた固体電解コンデンサを提供すること
にある。
本発明は固体電解質に高電導度を有するドーパントをド
ープした高分子化合物を用いた固体電解コンデンサを特
徴どしており、本発明により得られる固体電解コンデン
サは従来の無機酸化半導体や有様半導体を用いた固体電
解コンデンサに比して容量、誘電損失、経時安定性にお
いて著しく優れた性能を有している。
ープした高分子化合物を用いた固体電解コンデンサを特
徴どしており、本発明により得られる固体電解コンデン
サは従来の無機酸化半導体や有様半導体を用いた固体電
解コンデンサに比して容量、誘電損失、経時安定性にお
いて著しく優れた性能を有している。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明で用いられる高分子化合物は下記のくりこれらの
高分子化合物の製造方法は特に限定されるものではない
が、例えば、ポリ(パラ−フェニレン)については、J
、 chem、pbys 、、711506(197
9)、Bull、cheIIl、Soc、JAPAN
512091 (1978) 、J 、DOIym、S
Ci、polym、CC11e。
高分子化合物の製造方法は特に限定されるものではない
が、例えば、ポリ(パラ−フェニレン)については、J
、 chem、pbys 、、711506(197
9)、Bull、cheIIl、Soc、JAPAN
512091 (1978) 、J 、DOIym、S
Ci、polym、CC11e。
E di、、旦357 (1974) 、ポリ(パラ−
フェニレンザルファイド)についてはJ、Δppl 、
polym。
フェニレンザルファイド)についてはJ、Δppl 、
polym。
Sci、、202541 (1976) 、ポリ(パラ
−フェニレンオキシド)についてはMakromol
cl+em、126130 (1969) 、ポリ(パ
ラ−フェニレンビニレン)についてはJ 、 Awe、
chem、soc、、824669 (1960)等の
方法によって製造することができる。
−フェニレンオキシド)についてはMakromol
cl+em、126130 (1969) 、ポリ(パ
ラ−フェニレンビニレン)についてはJ 、 Awe、
chem、soc、、824669 (1960)等の
方法によって製造することができる。
上記の高分子化合物にドーパン1−をドーピングしてお
くことが必要である。ドーピングは化学的ドーピング、
電気化学的ドーピングのいずれの方法を採用してもよい
。
くことが必要である。ドーピングは化学的ドーピング、
電気化学的ドーピングのいずれの方法を採用してもよい
。
例えばポリパラフェニレンを化学的ドーピングするドー
パントとしては、従来知られている種々の電子受容性化
合物および電子供与性化合物、即ち、(I)ヨウ素、臭
素J3よびヨウ化臭素の如きハロゲン、(■)五フッ化
ヒ素、五フッ化アンチモン、四フッ化ケイ素、五塩化リ
ン、五フッ化リン、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ムおよびフッ化アルミニウムの如き金属ハロゲン化物、
(III)硫酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメ
タン硫酸およびクロロ硫酸の如きプロトン酸、(IV)
三酸化イオウ、二酸化窒素、ジフルオロスルホニルパー
オキシドの如き酸化剤、 (V)AU ClO4、(Vl)7トラシ7/エチレン
、テ1〜ラシアノキノジメタン、フロラニール、2.3
−ジクロル−5,6−ジシアツバラベンゾキノン、2.
3ジブロム−5,6−ジシアツパラベンゾキノン、(l
Li 、Na SKの如きアルカリ金属等をあげるこ
とができる。
パントとしては、従来知られている種々の電子受容性化
合物および電子供与性化合物、即ち、(I)ヨウ素、臭
素J3よびヨウ化臭素の如きハロゲン、(■)五フッ化
ヒ素、五フッ化アンチモン、四フッ化ケイ素、五塩化リ
ン、五フッ化リン、塩化アルミニウム、臭化アルミニウ
ムおよびフッ化アルミニウムの如き金属ハロゲン化物、
(III)硫酸、硝酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメ
タン硫酸およびクロロ硫酸の如きプロトン酸、(IV)
三酸化イオウ、二酸化窒素、ジフルオロスルホニルパー
オキシドの如き酸化剤、 (V)AU ClO4、(Vl)7トラシ7/エチレン
、テ1〜ラシアノキノジメタン、フロラニール、2.3
−ジクロル−5,6−ジシアツバラベンゾキノン、2.
3ジブロム−5,6−ジシアツパラベンゾキノン、(l
Li 、Na SKの如きアルカリ金属等をあげるこ
とができる。
一方、電気化学的にドーピングするドーパントとしては
、(f)PFe、SbF二、AS Fa、3b CJL
;の如きVa族の元素のハロゲン化物アニオン、BF:
の如きl[a族の元素のハロゲン化物アニオン、I−(
Ii >、Br 、GfL−の如きハロゲンアニオン、
C吏O′4の如き過塩素酸アニオンなどの陰イオン・ド
ーパントおよび(ii)Li”、Na”、K+の如きア
ルカリ金属イオン、R4N”(R:炭素数1〜20の炭
化水素基)の如き4級アンモニウムイオンなどの陽イオ
ン・ドーパント等をあげることができるが、必ずしもこ
れ等に限定されるものでは゛ない。
、(f)PFe、SbF二、AS Fa、3b CJL
;の如きVa族の元素のハロゲン化物アニオン、BF:
の如きl[a族の元素のハロゲン化物アニオン、I−(
Ii >、Br 、GfL−の如きハロゲンアニオン、
C吏O′4の如き過塩素酸アニオンなどの陰イオン・ド
ーパントおよび(ii)Li”、Na”、K+の如きア
ルカリ金属イオン、R4N”(R:炭素数1〜20の炭
化水素基)の如き4級アンモニウムイオンなどの陽イオ
ン・ドーパント等をあげることができるが、必ずしもこ
れ等に限定されるものでは゛ない。
上述の陰イオン・ドーパンh 83よび陽イオン・ドー
パントを与える化合物の具体例としてはLi PFa
、Li Sb Fo 、Li AS Fa、Li CL
C)+ 、Na I、Na PFe、Na Sb Fe
、Na As Fe 、 Na 0104、K I、
KPFa 、KSb Fa 、KAs Fa、K C斐
04 、 ((n −3u )4 N)十・(As Fa )−1
((n −BLI )4 N)” ・(PFe )−1
((n −Bu )4 N)” ・ClO4、Li A
n(,14、Li BF4 、No−As Fe、NO
2・AS Fa 、No−BF4、NO2・BF4、N
o−PF6をあげることができるが必ずしもこれ等に限
定されるものではない。
パントを与える化合物の具体例としてはLi PFa
、Li Sb Fo 、Li AS Fa、Li CL
C)+ 、Na I、Na PFe、Na Sb Fe
、Na As Fe 、 Na 0104、K I、
KPFa 、KSb Fa 、KAs Fa、K C斐
04 、 ((n −3u )4 N)十・(As Fa )−1
((n −BLI )4 N)” ・(PFe )−1
((n −Bu )4 N)” ・ClO4、Li A
n(,14、Li BF4 、No−As Fe、NO
2・AS Fa 、No−BF4、NO2・BF4、N
o−PF6をあげることができるが必ずしもこれ等に限
定されるものではない。
これらのドーパントは一種類、または二種類以上を混合
して使用してもよい。
して使用してもよい。
前記以外の陰イオン・ドーパントとしては14F2アニ
オンであり、また、前記以外の陽イオン・ドーパントと
しては次式(II)で表わされる(式中、Xは酸素原子
またはM素原子、R″は水素原子または炭素数が1〜1
5のアルキル曇、炭素数6〜15のアリール(aryl
)基、RLlはハDゲン原子または炭素数が1〜1oの
アルキル基、炭素数が6〜15のアリール(aryl)
基、mはX /fiM素原子のとき0であり、Xが窒素
原子のとぎ1である。
オンであり、また、前記以外の陽イオン・ドーパントと
しては次式(II)で表わされる(式中、Xは酸素原子
またはM素原子、R″は水素原子または炭素数が1〜1
5のアルキル曇、炭素数6〜15のアリール(aryl
)基、RLlはハDゲン原子または炭素数が1〜1oの
アルキル基、炭素数が6〜15のアリール(aryl)
基、mはX /fiM素原子のとき0であり、Xが窒素
原子のとぎ1である。
nは0または1〜5である。)
または次式([[I)もしくは(IV )で表わされる
カルボニウム・カチオン: および R’ C” (IV) 1 〔上式中、RI%R2、R3は水素原子(RI、R2、
R3は同時に水素原子であることはない)、炭素数1〜
15のアルキル基、アリル(allyl )基、炭素数
6〜15のアリール(aryl) Mまたは一0R5基
、但しR5は炭素数が1〜10のアルキル基または炭素
数6〜15のアリール(aryり基を示し、R4は水素
原素、炭素数が1へ・15のアルキル基、炭素数6〜1
5のアリール基である。〕である。
カルボニウム・カチオン: および R’ C” (IV) 1 〔上式中、RI%R2、R3は水素原子(RI、R2、
R3は同時に水素原子であることはない)、炭素数1〜
15のアルキル基、アリル(allyl )基、炭素数
6〜15のアリール(aryl) Mまたは一0R5基
、但しR5は炭素数が1〜10のアルキル基または炭素
数6〜15のアリール(aryり基を示し、R4は水素
原素、炭素数が1へ・15のアルキル基、炭素数6〜1
5のアリール基である。〕である。
用いられるHF2アニオンは通常、下記の一般式(1、
(Vl )または(■): R’ 4 N−HF2 (V) M−HF2 (vI) n 〔但し、上式中R′、R″は水素原子または炭素数が1
〜15のアルキル基、炭素数6〜15のアリール(ar
yl )基、R’は炭素数が1〜10のアルキル基、炭
素数6〜15のアリール(aryl)a、Xは酸素原子
または窒素原子、11はOまたは5以下の正の整数であ
る。Mはアルカリ金属である〕で表わされる化合物(フ
ッ化水素塩)を適当な有機溶媒に溶解することによって
得られる。上式(V)、(Vl )および(Vl)で表
わされる化合物の具体例としてはHqN−HF2、 n −Bu 4’N−HF2 、Na ・1−II2、
lく・HF2、Li −HF2および 日 上記式(n)で表わされるピリリウムもしくはごリジニ
ウムカチオンは、式(II)で表わされるカチオンとC
史04 、BF2 、A吏C愛:、Fe C0< 、
Sn Cps 5PFs 、PCILg、Sb Fs
、As Fs 、C’、R3SOi 、HF′2等のア
ニオンどの塩を適当な有機溶媒に溶解することによって
得られる。そのような塩の具体例としては く以下余白) 等をあげることができる。
(Vl )または(■): R’ 4 N−HF2 (V) M−HF2 (vI) n 〔但し、上式中R′、R″は水素原子または炭素数が1
〜15のアルキル基、炭素数6〜15のアリール(ar
yl )基、R’は炭素数が1〜10のアルキル基、炭
素数6〜15のアリール(aryl)a、Xは酸素原子
または窒素原子、11はOまたは5以下の正の整数であ
る。Mはアルカリ金属である〕で表わされる化合物(フ
ッ化水素塩)を適当な有機溶媒に溶解することによって
得られる。上式(V)、(Vl )および(Vl)で表
わされる化合物の具体例としてはHqN−HF2、 n −Bu 4’N−HF2 、Na ・1−II2、
lく・HF2、Li −HF2および 日 上記式(n)で表わされるピリリウムもしくはごリジニ
ウムカチオンは、式(II)で表わされるカチオンとC
史04 、BF2 、A吏C愛:、Fe C0< 、
Sn Cps 5PFs 、PCILg、Sb Fs
、As Fs 、C’、R3SOi 、HF′2等のア
ニオンどの塩を適当な有機溶媒に溶解することによって
得られる。そのような塩の具体例としては く以下余白) 等をあげることができる。
上記式(I[[)または(IV )で表わされるカルボ
ニウム・カチオンの具体例としては (Co R5)3 G” 、 (CI−13)3.’c
+、これらのカルボニウムカチオンは、それらと陰イオ
ンの塩(カルボニウム塩)を適当な有機溶媒に溶解する
ことによって得られる。ここで用いられる陰イオンの代
表例としては、BF;、へI)−C(L; 、AlBr
3 CI−、Fe C(L:、3n Cf1x 、P
F; 、PCl; 、811CI;、31)F;、C1
冗、CF3 SOi等をあげることができ、また、カル
ボニウム塩の具体例としては、例えば(Co 1−15
) 3 C−BF4、(CI−13>3 C−BF4
、HCO・A愛C1+、HCO−BF4 、Co H5
Co−8n C115等をあげることができる。
ニウム・カチオンの具体例としては (Co R5)3 G” 、 (CI−13)3.’c
+、これらのカルボニウムカチオンは、それらと陰イオ
ンの塩(カルボニウム塩)を適当な有機溶媒に溶解する
ことによって得られる。ここで用いられる陰イオンの代
表例としては、BF;、へI)−C(L; 、AlBr
3 CI−、Fe C(L:、3n Cf1x 、P
F; 、PCl; 、811CI;、31)F;、C1
冗、CF3 SOi等をあげることができ、また、カル
ボニウム塩の具体例としては、例えば(Co 1−15
) 3 C−BF4、(CI−13>3 C−BF4
、HCO・A愛C1+、HCO−BF4 、Co H5
Co−8n C115等をあげることができる。
上記のドーパントとして例えばASF5 (電子供与体
)をドープすることによりポリ(パラ−フェニレン)で
は104 S −cm−’ 、ポリ(パラ−フェニレン
サルファイド)では15−Cm−1、ポリ(パラ−フェ
ニレンオキサイド)では10−33− cm−1、ポリ
(パラ−フェニレンビニレン)では、3S−CIll“
1きる。
)をドープすることによりポリ(パラ−フェニレン)で
は104 S −cm−’ 、ポリ(パラ−フェニレン
サルファイド)では15−Cm−1、ポリ(パラ−フェ
ニレンオキサイド)では10−33− cm−1、ポリ
(パラ−フェニレンビニレン)では、3S−CIll“
1きる。
さらに、これら高分子化合物は、合成が容易で耐化学薬
品性、耐熱性もよく、成形加工性に優れ、軽いといった
従来の導7H性高分子にない特長を有している。
品性、耐熱性もよく、成形加工性に優れ、軽いといった
従来の導7H性高分子にない特長を有している。
したがって、一般式(i)で表わされるくり返し単位を
有する高分子化合物にドーパントをドープして得られる
電導性高分子化合物を電解質に用いれば、下記のごとき
゛効果が得られる。
有する高分子化合物にドーパントをドープして得られる
電導性高分子化合物を電解質に用いれば、下記のごとき
゛効果が得られる。
■ 高温加熱をすることなしに電j/1′買層を形成で
きるので陽極の酸化皮膜の損傷がなく、補修のための陽
極酸化(再化成)を行なう必要がない。
きるので陽極の酸化皮膜の損傷がなく、補修のための陽
極酸化(再化成)を行なう必要がない。
そのため定格電圧を従来の数倍にでき、間容毘、同定格
電圧のコンデンサを得るのに形状を小型化できる。
電圧のコンデンサを得るのに形状を小型化できる。
■ もれ電流が小さい。
■ 高耐圧のコンデンサを作製できる。
■ 電解質の電導度が十分に高いため、グラファイトな
ど9導電層を設【プる必要がなく、工程が簡略化される
。
ど9導電層を設【プる必要がなく、工程が簡略化される
。
本発明による固体電解コンデンサの概略を第1図に示し
た。
た。
アルミニウム、タンタル、ニオブ等の弁作用金属を陽極
酸化し、酸化皮膜上に電解層を形成する。
酸化し、酸化皮膜上に電解層を形成する。
さらに銀ペーストで陰極を取り出し、ケースに入れ、樹
脂等で密封外装して固体電解コンデンサを得る。
脂等で密封外装して固体電解コンデンサを得る。
以下実施例を示し、本発明の詳細な説明する。
実施例1
Ta粉末の焼結体をリン酸水溶液中で陽極酸化して、誘
電体皮膜を形成させた後、ポリ(パラ−フェニレンサル
ファイド)のジフェニルエーテル溶液に浸漬し、乾燥す
る。この浸漬、乾燥の操作をくり返し、高分子層を形成
し、ASF5ガスを接触させ、As F5ガスを接触さ
せ、AS F5をドープし、電解質層を形成する。つい
で銀ペーストで陰極を取り出し、ケースに入れ樹脂封口
して、固体電解コンデンサを作成した。
電体皮膜を形成させた後、ポリ(パラ−フェニレンサル
ファイド)のジフェニルエーテル溶液に浸漬し、乾燥す
る。この浸漬、乾燥の操作をくり返し、高分子層を形成
し、ASF5ガスを接触させ、As F5ガスを接触さ
せ、AS F5をドープし、電解質層を形成する。つい
で銀ペーストで陰極を取り出し、ケースに入れ樹脂封口
して、固体電解コンデンサを作成した。
△SF5をドープしたポリ(パラ−フェニレンサルファ
イド)の電¥4度は1s −etc+ +’あった。
イド)の電¥4度は1s −etc+ +’あった。
実施例2
実施例1と同様に陽極酸化し7j T a素子をポリ(
パラーフエニレンオギザイド)のN、N−ジメチルホル
ムアミド溶液に浸漬し、乾燥する。この浸漬、乾燥の操
作をくり返し高分子層を形成しAs F5ガスを接触さ
せ、As F5をドープし、電解質層を形成する。つい
で実施例1と同様にして固体電解コンデンサを作成した
。
パラーフエニレンオギザイド)のN、N−ジメチルホル
ムアミド溶液に浸漬し、乾燥する。この浸漬、乾燥の操
作をくり返し高分子層を形成しAs F5ガスを接触さ
せ、As F5をドープし、電解質層を形成する。つい
で実施例1と同様にして固体電解コンデンサを作成した
。
As F5をドープしたポリ(パラーフェニレンAキサ
イド)の電導度は10−3 s −am−1であった。
イド)の電導度は10−3 s −am−1であった。
実施例3
実施例1と同様に陽極酸化したTa素子を、ポリ(パラ
−フェニレンビニレン)のN、N−ジメチルホルムアミ
ド溶液に浸漬し、乾燥づる。この浸漬、乾燥の操作をく
り返し、高分子層を形成し、AS F5ガスを接触させ
As r5をドープし、電解質層を形成する。ついで実
施例1と同様にして固体電解コンデンサを作成した。
−フェニレンビニレン)のN、N−ジメチルホルムアミ
ド溶液に浸漬し、乾燥づる。この浸漬、乾燥の操作をく
り返し、高分子層を形成し、AS F5ガスを接触させ
As r5をドープし、電解質層を形成する。ついで実
施例1と同様にして固体電解コンデンサを作成した。
AS F5をドープしたポリ(パラーフエニレンどニレ
ン)の電導度は3s −C11−1であった。
ン)の電導度は3s −C11−1であった。
実施例4
Ta粉末の焼結体をリン酸水溶液中で陽極酸化して誘電
体皮膜を形成させた後、Bull 、 chem。
体皮膜を形成させた後、Bull 、 chem。
Soc、 Jpn、、51.2091 (1978)記
載の方法で得られたポリ(パラ−フェニレン)を200
℃で熱プレスすることによって、ポリ(パラ−フェニレ
ン)を多孔性1−a素子に流し込み、Ta索子を被覆す
る。冷却後、ポリ(パラ−フェニレン)で被覆されたT
a素子にAS’F5ガスを接触させて、As F5をド
ープし、電解質層を形成する。ついで銀ペーストで陰極
を取り出し、ケースに入れ樹脂封口して固体電解コンデ
ンサを作成した。
載の方法で得られたポリ(パラ−フェニレン)を200
℃で熱プレスすることによって、ポリ(パラ−フェニレ
ン)を多孔性1−a素子に流し込み、Ta索子を被覆す
る。冷却後、ポリ(パラ−フェニレン)で被覆されたT
a素子にAS’F5ガスを接触させて、As F5をド
ープし、電解質層を形成する。ついで銀ペーストで陰極
を取り出し、ケースに入れ樹脂封口して固体電解コンデ
ンサを作成した。
As F5をドープしたポリ(パラ−フェニレン)の電
導度は102 S −am−+であった。
導度は102 S −am−+であった。
実施例5
実施例4と同様に陽極酸化した7a素子を、J 、po
lym、cllem、 E di、、12,357 (
1974)記載の方法で得られたポリ(4,4’ −ビ
フェニレン)のクロロホルム溶液に浸漬し、乾燥する。
lym、cllem、 E di、、12,357 (
1974)記載の方法で得られたポリ(4,4’ −ビ
フェニレン)のクロロホルム溶液に浸漬し、乾燥する。
この浸漬、乾燥の操作をくり返し、高分子層を形成し、
AS F5ガスを接触させAS F5をドープし、電解
質層を形成する。ついで実施例4と同様にして、固体電
解質コンデンサを作成した。AS F5をドープしたポ
リ(4,4’−ビフェニレン)の電導度は103103
s−墓であった。
AS F5ガスを接触させAS F5をドープし、電解
質層を形成する。ついで実施例4と同様にして、固体電
解質コンデンサを作成した。AS F5をドープしたポ
リ(4,4’−ビフェニレン)の電導度は103103
s−墓であった。
実施例4と同様な陽極酸化した°Ta索子を用いた従来
の二酸化マンガンを電解質とづる固体電解コンデンサを
比較例1とし、コンデンサの特性を比較したものを第1
表に示す。
の二酸化マンガンを電解質とづる固体電解コンデンサを
比較例1とし、コンデンサの特性を比較したものを第1
表に示す。
上表から明らかなように、本発明によるドーパントをド
ープした電導性高分子化合物を電解質とする固体電解コ
ンデンサは従来の二酸化マンガンを電解質とする固体電
解コンデンサに比して誘電損失、もれ電流が小さく、定
格電圧が高く、高耐電圧の固体電解コンデンサを作成す
ることができる。また、本発明による固体電解コンデン
サの容量×定格電圧の値は二酸化マンガンを用いた固体
電解コンデンサに比して大きく、同じ形状ならば大容伍
を得ることができる。
ープした電導性高分子化合物を電解質とする固体電解コ
ンデンサは従来の二酸化マンガンを電解質とする固体電
解コンデンサに比して誘電損失、もれ電流が小さく、定
格電圧が高く、高耐電圧の固体電解コンデンサを作成す
ることができる。また、本発明による固体電解コンデン
サの容量×定格電圧の値は二酸化マンガンを用いた固体
電解コンデンサに比して大きく、同じ形状ならば大容伍
を得ることができる。
上記実施例では、素子の金属は、タンタル焼結体であっ
たが他のアルミニウム、二Aブでもよく、形状も粉末焼
結体に限らない。
たが他のアルミニウム、二Aブでもよく、形状も粉末焼
結体に限らない。
第1図は本発明による固体電解コンデンサの一例を示す
断面図である。 1・・・Ta、A1等の金属焼結体 2・・・酸化皮膜 3・・・電導性高分子化合物 4・・・導電ペースト 5・・・半田 6・・・ケースおよび陰極 7・・・陽極 8・・・月日樹脂 代理人 弁理士 菊 地 粘 −
断面図である。 1・・・Ta、A1等の金属焼結体 2・・・酸化皮膜 3・・・電導性高分子化合物 4・・・導電ペースト 5・・・半田 6・・・ケースおよび陰極 7・・・陽極 8・・・月日樹脂 代理人 弁理士 菊 地 粘 −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 で表わされるくり返し単位を有する高分子化合物にドー
パントをドープして得られる電導性高分子化合物を固体
電解質と°ツることを特徴とする固体電解コンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14437583A JPS6037115A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 固体電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14437583A JPS6037115A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 固体電解コンデンサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6037115A true JPS6037115A (ja) | 1985-02-26 |
| JPH0155571B2 JPH0155571B2 (ja) | 1989-11-27 |
Family
ID=15360657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14437583A Granted JPS6037115A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 固体電解コンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037115A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0239413A (ja) * | 1988-07-28 | 1990-02-08 | Showa Denko Kk | 固体電解コンデンサ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4967153A (ja) * | 1972-11-01 | 1974-06-28 | ||
| JPS5185457A (ja) * | 1975-01-24 | 1976-07-27 | Nippon Electric Co |
-
1983
- 1983-08-09 JP JP14437583A patent/JPS6037115A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4967153A (ja) * | 1972-11-01 | 1974-06-28 | ||
| JPS5185457A (ja) * | 1975-01-24 | 1976-07-27 | Nippon Electric Co |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0239413A (ja) * | 1988-07-28 | 1990-02-08 | Showa Denko Kk | 固体電解コンデンサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0155571B2 (ja) | 1989-11-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6037114A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPS63173313A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH0650710B2 (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPH0448710A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH05144677A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ | |
| JPS6037115A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH0552656B2 (ja) | ||
| JPH03291909A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JP2700420B2 (ja) | アルミニウム焼結体固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPS6147625A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH0650711B2 (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JP2945100B2 (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPS6022311A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPS6191914A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JP3175747B2 (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPH033220A (ja) | タンタル固体電解コンデンサ | |
| JPS6122614A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH053129B2 (ja) | ||
| JPH04239712A (ja) | コンデンサの製造方法 | |
| JPH0546692B2 (ja) | ||
| JPH0487312A (ja) | コンデンサの製造方法 | |
| JPH0448709A (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| JPS6191913A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JPH02137310A (ja) | 固体電解コンデンサ | |
| JP3117222B2 (ja) | 固体電解コンデンサ |