JPS6038289Y2 - 気密端子 - Google Patents

気密端子

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Publication number
JPS6038289Y2
JPS6038289Y2 JP8848180U JP8848180U JPS6038289Y2 JP S6038289 Y2 JPS6038289 Y2 JP S6038289Y2 JP 8848180 U JP8848180 U JP 8848180U JP 8848180 U JP8848180 U JP 8848180U JP S6038289 Y2 JPS6038289 Y2 JP S6038289Y2
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JP
Japan
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stem
glass
plating layer
iron
eyelet
Prior art date
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Expired
Application number
JP8848180U
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English (en)
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JPS5712755U (ja
Inventor
孝一 薦田
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Filing date
Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は金属外環の透孔内にガラスを介してリード線
を封着してなる気密端子に関し、特に半導体装置用ステ
ムの改良に関する。
キャン封止型の電力用半導体装置は、第1図および第2
図に示す構造を有する。
図において、aは気密端子よりなるステムであり、1は
鉄よりなる菱形状のステム基板で、長手方向の両端部に
シャーシ等への取付孔2,2を有し、中央部の近傍にリ
ード封着孔3,3を有する。
4,4は鉄・ニッケル合金製のリード線で、前記リード
封着孔3.3にガラス5,5を介して気密に封着されて
いる。
6はステム基板1の表面に固着された半導体素子7,7
は半導体素子6の表面電極とリード線4,4を接続する
金属細線、8はステム基板1に抵抗溶接された鉄製キャ
ップである。
上記ステムaは次のようにして製造される。
すなわち、ガラス封着までの耐食のため、およびガラス
封着時にグラファイト製封着治具の遊離炭素がステム基
板1の鉄の結晶粒界へ浸入する、いわゆる浸炭現象防止
のために、一般に第3図に示すように、予めステム基板
1の全面に銅メッキ層9を形成しておき、リード線4,
4のガラス封着後、ステム基板1およびリード線4,4
の露出表面に仕上げ電気ニッケルメッキ層10を形成し
ている。
しかしながら、ステム基板1に銅メッキ層9が形成され
ていると、キャップ8の抵抗溶接時に、前記銅メッキ層
9が溶融した金属粒が半導体素子6に付着して半導体素
子6の特性を劣化せしめるという問題があった。
このため、半導体素子6の表面にプリコート樹脂やシリ
コンゴム等を被着することも考えられているが満足すべ
き結果は得られていない。
この考案はこのような点にかんがみ提案されたもので、
キャップの抵抗溶接時に溶融金属粒による悪影響のない
気密端子を提供することを目的とする。
以下、この考案の実施例を図面により説明する。
第4図は第1の実施例のステムbの断面図を示し、図に
おいて、第2図と同一部分または対応部分には同一参照
符号を付してその説明を省略する。
第2図との相違点は、第2図ではリード封着孔3,3に
直接リード線4,4がガラス5,5で封着されているの
に対して、第4図では鉄製のハトメ11を介してリード
線4,4がガラス封着されていることである。
また、ステム基板1の全面にはガラス封着までの耐食の
ため、およびガラス封着時の浸炭現象防止のために、予
め第5図に示すように厚さ1〜7μ程度の電気ニッケル
メッキ層12が形成されており、かつステム基板1およ
びリード線4,4の露出表面に厚さ2〜10μ程度の仕
上げ電気ニッケルメッキ層13が形成されている。
上記ステム基板1とハトメ11との固着は次の任意の方
法および工程で行なわれる。
まず、固着方法としては、抵抗溶接による方法と、銅ロ
ウあるいはニッケルリンロウ等のロウ付けによる方法と
がある。
また、固着工程としては、リード線4.4のガラス封着
前に行なう方法と、ガラス封着時に同時に行なう方法と
、ガラス封着後に行なう方法とがある。
特に、ガラス封着後にステム基板1とハトメ11とを封
着する場合は、固着に先立ってガラス封着したハトメ1
1およびリード線4.4の表面に仕上げメッキを施して
おけば、ステム基板1上の仕上げメッキを省略すること
もできる。
さらに、上記ハトメは鉄素地の表面に直接酸化膜を形成
してガラス封着する方法、あるいは全面に銅メッキ層を
形成してから酸化膜を形成してガラス封着する方法が採
用できる。
銅メッキ層を介してガラス封着した場合は、直接ガラス
封着した場合に比較して、耐熱温度が30〜50℃程度
向上する。
以上の構成によれば、ハトメ11とガラス6とは直接ま
たは銅メッキ層を介して強固かつ気密に封着されており
、しかもステム基板1の表面には銅メッキ層が形成され
ていないから、キャップ8の抵抗溶接時の溶融金属粒が
半導体素子に付着するおそれが少なくなり、特性のよい
半導体装置が得られる。
第6図はこの考案の他の実施例のステムCの断面図を示
す。
この実施例の特徴は、ステム基板1の略中央部にヒート
シンク嵌合孔14を穿設し、このヒートシンク嵌合孔1
4に銅製のヒートシンク15を嵌合し、機械的にかしめ
た上でロウ付けしたものである。
第7図はこの考案のさらに他の実施例のステムdの断面
図を示す。
この実施例の特徴は、ステム基板1の略中央部にヒート
シンク嵌合用の凹部16を形成腰この凹部16に銅製の
ヒートシンク17を嵌合し、機械的にかしめた上でロウ
付けしたものである。
なお、この考案の別の実施例として、平坦なステム基板
1上に銅製のヒートシンクをロウ付けしたり、モリブデ
ンやタングステン等の中間金属板をロウ付けしたり、さ
らにはセラミック板をロウ付けするようにしてもよい。
また、この考案は図示例に示した電力用半導体装置用ス
テムのみならず、キャップを抵抗溶接して素子を封止す
るための気密端子にはすべて適用できるものである。
さらに、金属外環およびハトメの材質としては、鉄製の
みならず鉄を主成分とする合金でもよい。
この考案は以上のように、鉄系の金属外環には電気ニッ
ケルメッキ層が形成され、金属外環の透孔に鉄系のハト
メが固着され、このハトメ内にガラスを介してリード線
が封着された気密端子であるから、金属外環に融点の低
い銅メッキ層がなく、金属外環に金属キャップを抵抗溶
接する際に銅メッキ層が溶融した金属粒が半導体素子等
の素子に付着して素子の特性を劣化せしめることがなく
、しかもリード線はステム基板の透孔に封着強度が小さ
くなる電気ニッケルメッキ層を介してガラス封着されて
いないから、気密性および封着強度が高い気密端子が得
られるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の背景となる半導体装置の一部を切開
した平面図、第2図は第1図の■−■線に沿う断面図、
第3図は第2図の要部拡大断面図、第4図はこの考案の
一実施例の半導体装置用ステムの断面図、第5図は第4
図の要部拡大断面図、第6図および第7図はこの考案の
異なる実施例の半導体装置用ステムの断面図である。 b、 c、 d・・・・・・気密端子(ステム)、1・
・・・・・金属外環(ステム基板)、3・・・・・・透
孔、4,4・・・・・・リード線、5,5・・・・・・
ガラス、8・・・・・・金属キャップ、11・・・・・
・ハトメ、12.13・・・・・・電気ニッケルメッキ
層、15. 17−・−−−−ヒートシンク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 鉄系の金属外環の透孔にガラスを介してリード線が封着
    され金属キャップが抵抗溶接される気密端子において、
    前記金属外環には電気ニッケルメッキ層が形成され、前
    記透孔に鉄系のハトメが固着され、このハトメ内にガラ
    スを介してリード線が封着されていることを特徴とする
    気密端子。
JP8848180U 1980-06-23 1980-06-23 気密端子 Expired JPS6038289Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP8848180U JPS6038289Y2 (ja) 1980-06-23 1980-06-23 気密端子

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JP8848180U JPS6038289Y2 (ja) 1980-06-23 1980-06-23 気密端子

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Publication Number Publication Date
JPS5712755U JPS5712755U (ja) 1982-01-22
JPS6038289Y2 true JPS6038289Y2 (ja) 1985-11-15

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ID=29450556

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