JPS6039242U - 液処理装置 - Google Patents

液処理装置

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JPS6039242U
JPS6039242U JP13090683U JP13090683U JPS6039242U JP S6039242 U JPS6039242 U JP S6039242U JP 13090683 U JP13090683 U JP 13090683U JP 13090683 U JP13090683 U JP 13090683U JP S6039242 U JPS6039242 U JP S6039242U
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid
processing equipment
liquid processing
processing
processing liquid
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Pending
Application number
JP13090683U
Other languages
English (en)
Inventor
舘　良男
Original Assignee
関西日本電気株式会社
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は従来の液処理装置の二側を示す概略
部分断面図、第３図は本考案の一実施例の液処理装置を
示す概略部分断面図である。 ８・・・・・・被処理物（半導体ウェーハ）、１４・・
・・・・液槽、１５・・・・・・処理液（エツチング液
）、１６・・・・・・多孔中空部材、２１・・・・・・
気体（Ｎ２ガス）。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. １つの液槽内に収容さ、れた処理液に被処理物を浸漬す
    る装置において、前記処理液の温度変化に応じて温度制
    御された気体を泡状にして処理液内に噴出する温度制御
    用多孔中空部材を液槽の底部に設置したことを特徴とす
    る液処理装置。
JP13090683U 1983-08-23 1983-08-23 液処理装置 Pending JPS6039242U (ja)

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JP13090683U JPS6039242U (ja) 1983-08-23 1983-08-23 液処理装置

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JP13090683U JPS6039242U (ja) 1983-08-23 1983-08-23 液処理装置

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JPS6039242U true JPS6039242U (ja) 1985-03-19

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ID=30296130

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