JPS6040165A - フルオラン化合物の製造方法 - Google Patents
フルオラン化合物の製造方法Info
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- JPS6040165A JPS6040165A JP58148434A JP14843483A JPS6040165A JP S6040165 A JPS6040165 A JP S6040165A JP 58148434 A JP58148434 A JP 58148434A JP 14843483 A JP14843483 A JP 14843483A JP S6040165 A JPS6040165 A JP S6040165A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感圧、感熱記録紙等記録材料用色素として有
用なフルオラン(F、合物の改良された製造法に関する
ものである。
用なフルオラン(F、合物の改良された製造法に関する
ものである。
従来、一般式(I)
ノ
(
(X
(式中、R1、R2は各々独立に水素原子、4非水溶性
基で置換されていてもよいアルキ ヲル基、アラルキル
基、アルケニル基、シフ 90アルキル基または非水溶
性基で置換されていてもよいフェニル基を示し、または
、 4R1、R,が互いに連結して複素環を形成 ]し
ていてもよ(、X、Yは各々独立に低級 くアルコキシ
基、低級アルキル基、トリフル 釦オロメチル基または
ハロゲン原子を示し、m 、 nは各々独立に0−8の
整数を示す。) 完で表わされるフルオラン化合物の製
造法とし 辛で、例えば、(1)ケトカルボンN?、4
とジフェニルアミン類とを濃硫酸中で反応させる方法:
特開昭58−7451号公報実施例1)。
基で置換されていてもよいアルキ ヲル基、アラルキル
基、アルケニル基、シフ 90アルキル基または非水溶
性基で置換されていてもよいフェニル基を示し、または
、 4R1、R,が互いに連結して複素環を形成 ]し
ていてもよ(、X、Yは各々独立に低級 くアルコキシ
基、低級アルキル基、トリフル 釦オロメチル基または
ハロゲン原子を示し、m 、 nは各々独立に0−8の
整数を示す。) 完で表わされるフルオラン化合物の製
造法とし 辛で、例えば、(1)ケトカルボンN?、4
とジフェニルアミン類とを濃硫酸中で反応させる方法:
特開昭58−7451号公報実施例1)。
≧)2−アミノフルオラン誘A一体とアリール化1jと
を、銅、アルカリの存在下で反応させる乙1 アリール化の際、高温ん長時間反応させる必卦があり、
副反応も多く、目的物の純度及び又率が低(なるという
問題があり、一方(1)のj法についても、濃硫酸がフ
ェノール性出発171質(ジフェニルアミン類)に作用
してスルトン化物を生じ、(特公昭56−88619号
公報2頁参照)、かつビスラクトン化合物が生成して目
的物の収率が低下して純度も低:なるという問題があり
、いずれ、の方法も更こ高次の精製が必要となる欠点を
有している。
を、銅、アルカリの存在下で反応させる乙1 アリール化の際、高温ん長時間反応させる必卦があり、
副反応も多く、目的物の純度及び又率が低(なるという
問題があり、一方(1)のj法についても、濃硫酸がフ
ェノール性出発171質(ジフェニルアミン類)に作用
してスルトン化物を生じ、(特公昭56−88619号
公報2頁参照)、かつビスラクトン化合物が生成して目
的物の収率が低下して純度も低:なるという問題があり
、いずれ、の方法も更こ高次の精製が必要となる欠点を
有している。
本発明者らは、前記フル1゛ラン化合物の製なにおける
問題を解消するべく鋭意検討した占果、本発明を完成す
るに至ったものである。
問題を解消するべく鋭意検討した占果、本発明を完成す
るに至ったものである。
即ち、本発明は、一般式([)
(式中、”1 * ”2は各々独立に水素原子、非水溶
性基で置換されていてもよいアルキル基、アラルキル基
、アルケニル基、シクロアルキル基または非水溶性基で
置換されていてもよいフェニル基を示し、または、R,
、R2が互いに連結して複素環を形成していてもよく、
λ3は水素原子または低級アルキル基を示す。) で表わされるケトカルボン酸類と一般式(聞(式中、艮
4は水素原子または低級アルキル基、艮6はアシル基、
X、Yは各々独立に低級アルコキシ基、低級アルキル基
、トリフルオロメチル基またはハロゲン原子を示し、m
、 nは各々独立に0〜Bの整数を示す。) で表わされるジフェニルアミン類を縮合させて一般式(
[V) (式中、R1、R,、R1、R4,艮5.X、Y、m。
性基で置換されていてもよいアルキル基、アラルキル基
、アルケニル基、シクロアルキル基または非水溶性基で
置換されていてもよいフェニル基を示し、または、R,
、R2が互いに連結して複素環を形成していてもよく、
λ3は水素原子または低級アルキル基を示す。) で表わされるケトカルボン酸類と一般式(聞(式中、艮
4は水素原子または低級アルキル基、艮6はアシル基、
X、Yは各々独立に低級アルコキシ基、低級アルキル基
、トリフルオロメチル基またはハロゲン原子を示し、m
、 nは各々独立に0〜Bの整数を示す。) で表わされるジフェニルアミン類を縮合させて一般式(
[V) (式中、R1、R,、R1、R4,艮5.X、Y、m。
nは前記の意味を示す。)
で表わされるフタリド化合物を製造し、次いでこれを加
水分解して一般式(Vl (式中、R1+ R2s R11* R4* x* Y
m m*nは前記の意味を示す。) で表わされるフタリド化合物とし、次いでこれを閉環し
て一般式(Il (式中、R1,R2、X 、 Y 、 m 、 nは前
記の意味を示す。) で表わされるフルオラン化合物とすることを特徴とする
フルオラン化合物の改良された製造方法である。
水分解して一般式(Vl (式中、R1+ R2s R11* R4* x* Y
m m*nは前記の意味を示す。) で表わされるフタリド化合物とし、次いでこれを閉環し
て一般式(Il (式中、R1,R2、X 、 Y 、 m 、 nは前
記の意味を示す。) で表わされるフルオラン化合物とすることを特徴とする
フルオラン化合物の改良された製造方法である。
本発明方法によれば、ケトカルボン酸類とジフェニルア
ミン類との縮合の際、一般式叫)で表わされるN−アシ
ルジフェニルアミン類を使用することにより、スルホン
化、ビスラクトン化合物の生成などの副反応が著しく抑
制され、その結果目的物の収率が大巾に向上し、純度も
著しく高くなり、高次の精製を必要としないなどの利点
を有する。
ミン類との縮合の際、一般式叫)で表わされるN−アシ
ルジフェニルアミン類を使用することにより、スルホン
化、ビスラクトン化合物の生成などの副反応が著しく抑
制され、その結果目的物の収率が大巾に向上し、純度も
著しく高くなり、高次の精製を必要としないなどの利点
を有する。
本発明において、一般式(II)のケトカルボン酸類と
一般式tlII)のジフェニルアミン類との反応は、脱
水縮合剤、例えば、df(硫酸、発煙硫酸、無水リン酸
、ポリリン酸、ポリリン酸エーテルなどの存在下に行な
われる。脱水縮合剤の好ましい例としては、90−10
0%硫酸があげられる。脱水縮合剤は、通常、一般式(
町の化合物に対して大過剰、好ましくは、5〜20倍量
用いられる。またこの反応は、冷却下、室温下、加温下
のいずれでも行ない得るが、通常、−20−150℃、
好ましくは、−10〜70℃にて好適に進行し、通常、
t−too時間で反応は終了する。
一般式tlII)のジフェニルアミン類との反応は、脱
水縮合剤、例えば、df(硫酸、発煙硫酸、無水リン酸
、ポリリン酸、ポリリン酸エーテルなどの存在下に行な
われる。脱水縮合剤の好ましい例としては、90−10
0%硫酸があげられる。脱水縮合剤は、通常、一般式(
町の化合物に対して大過剰、好ましくは、5〜20倍量
用いられる。またこの反応は、冷却下、室温下、加温下
のいずれでも行ない得るが、通常、−20−150℃、
好ましくは、−10〜70℃にて好適に進行し、通常、
t−too時間で反応は終了する。
こうして生成した一般式([V)で表わされるフタリド
化合物は、反応液を大量の水にジスチャージすることに
より結晶として析出するので、これを戸別することによ
り、結晶としてとり出すことができる。また、場合によ
っては、結晶をとり出さず、そのまま酸性条件で次の加
水分解反応を行なうことも可能である。
化合物は、反応液を大量の水にジスチャージすることに
より結晶として析出するので、これを戸別することによ
り、結晶としてとり出すことができる。また、場合によ
っては、結晶をとり出さず、そのまま酸性条件で次の加
水分解反応を行なうことも可能である。
次にフタリド化合物の加水分解反応は、硫酸、塩酸など
の鉱酸中で、場合によっては、トルエン、ベンゼン、キ
シレン、モノクロルベンゼン、ニトロベンゼン、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、酢酸、
プロピオン酸などの有機溶媒の存在下、50−105℃
で加熱する方法により容易に達成される。
の鉱酸中で、場合によっては、トルエン、ベンゼン、キ
シレン、モノクロルベンゼン、ニトロベンゼン、メタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、酢酸、
プロピオン酸などの有機溶媒の存在下、50−105℃
で加熱する方法により容易に達成される。
こうして生成した一般式(Vlで表わされるフタリド化
合物は、トルエン、キシレン、デカリン、ベンゼン、モ
ノクロルベンゼン、ニトロベンゼンなどの有機溶媒中で
場合により、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
トリエタノールアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン
などの有機アミンの存在下に還流下またはそれ以下に加
熱する方法、カセイソーダ、カセイカリ、ソーダ灰、炭
酸カリウムなどの希アルカリ水溶液中で場合によりトル
エン、キシレン、ベンゼン、デカリン、モノクロルベン
ゼン、ニトロベンゼンなどの有機溶媒の存在下に50−
105℃に加熱する方法、あるいはまた、フタリド化合
物を加熱して溶融させる方法などにより容易に閉環して
、一般式(I)で表わされるフルオラン化合物を得るこ
とができる。
合物は、トルエン、キシレン、デカリン、ベンゼン、モ
ノクロルベンゼン、ニトロベンゼンなどの有機溶媒中で
場合により、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
トリエタノールアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン
などの有機アミンの存在下に還流下またはそれ以下に加
熱する方法、カセイソーダ、カセイカリ、ソーダ灰、炭
酸カリウムなどの希アルカリ水溶液中で場合によりトル
エン、キシレン、ベンゼン、デカリン、モノクロルベン
ゼン、ニトロベンゼンなどの有機溶媒の存在下に50−
105℃に加熱する方法、あるいはまた、フタリド化合
物を加熱して溶融させる方法などにより容易に閉環して
、一般式(I)で表わされるフルオラン化合物を得るこ
とができる。
一般式([I)のケトカルボン酸類は、公知の方法、例
えば特開昭52−82248号公報に記載の方法により
、また一般式[11で表わされるジフェニルアミン類は
、特公昭52−5489号公報に記載の方法により容易
に合成される。
えば特開昭52−82248号公報に記載の方法により
、また一般式[11で表わされるジフェニルアミン類は
、特公昭52−5489号公報に記載の方法により容易
に合成される。
一般式(Illのケトカルボン酸類としては、例えば、
次のものをあげることができる。
次のものをあげることができる。
4/ −ジメチルアミノ−2′ −ヒドロキシベンゾフ
ェノン−2−カルボン酸、 41−ジエチルアミノ−2′ −ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4′−ジプロピルアミノ−2/−ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4′−ジブチルアミノ−2/−ヒドロキシベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸、 4I−ジペンチルアミノー2′−ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−エチル−N−インペンチル)アミノ−2
/−メトキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4′−β−ヒドロサシエチルアミノ−2′−エトキシベ
ンゾフェノン−2−カルボン酸、41−ピペリジノ−2
I −ヒドロキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4′−モルホリノ−2/−ヒドロキシベンゾフェノン−
2−カルボン酸、 41−β−フェノキシエチルアミノ−2′−プロポキシ
ベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−メチル−N−ベンジル)アミノ−2/−
ブトキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−フェニル−N−p−)リル)アミ、′−
2−ヒドロキシベンゾフェノキシー2−カルボン酸。
ェノン−2−カルボン酸、 41−ジエチルアミノ−2′ −ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4′−ジプロピルアミノ−2/−ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4′−ジブチルアミノ−2/−ヒドロキシベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸、 4I−ジペンチルアミノー2′−ヒドロキシベンゾフェ
ノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−エチル−N−インペンチル)アミノ−2
/−メトキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4′−β−ヒドロサシエチルアミノ−2′−エトキシベ
ンゾフェノン−2−カルボン酸、41−ピペリジノ−2
I −ヒドロキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4′−モルホリノ−2/−ヒドロキシベンゾフェノン−
2−カルボン酸、 41−β−フェノキシエチルアミノ−2′−プロポキシ
ベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−メチル−N−ベンジル)アミノ−2/−
ブトキシベンゾフェノン−2−カルボン酸、 4’ −(N−フェニル−N−p−)リル)アミ、′−
2−ヒドロキシベンゾフェノキシー2−カルボン酸。
一般式([)で表わされるジフェニルアミン類としては
、例えば、次のものがあげられる。
、例えば、次のものがあげられる。
N−アセチル−2−メチル−4−メトキシジフェニルア
ミン、 N−アセチル−クロロ−4−メトキシジフェニルアミン
、 N−アセチル−2−フルオロ−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−2−メトキシ−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−4−メトキシジフェニルアミ ン、 N−アセチル−21−フルオロ−4−メトキシジフェニ
ルアミン、 N−7”ロピオニルー2−10ロー4−エトキシジフェ
ニルアミン、 N−プロピオニル−2−トリフルオロメチル−4−プロ
ポキシジフェニルアミン、N−アセチル−2,2’、4
’ −トリメチル−4−メトキシジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−4−ヒドロキシジフェニル
アミン、 N−ブチリル−2,2I−ジクロロ−4−ブトキシジフ
ェニルアミン、 N−マレイニル−2−メチル−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−2−クロロ−41−メチル−4−エトキ
シジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−3′−メチル−4−メトキ
シジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−4,4′−ジメトキシジフ
ェニルアミン、 N−プロピオニル−2−メトキシ−4−エトキシジフェ
ニルアミン。
ミン、 N−アセチル−クロロ−4−メトキシジフェニルアミン
、 N−アセチル−2−フルオロ−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−2−メトキシ−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−4−メトキシジフェニルアミ ン、 N−アセチル−21−フルオロ−4−メトキシジフェニ
ルアミン、 N−7”ロピオニルー2−10ロー4−エトキシジフェ
ニルアミン、 N−プロピオニル−2−トリフルオロメチル−4−プロ
ポキシジフェニルアミン、N−アセチル−2,2’、4
’ −トリメチル−4−メトキシジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−4−ヒドロキシジフェニル
アミン、 N−ブチリル−2,2I−ジクロロ−4−ブトキシジフ
ェニルアミン、 N−マレイニル−2−メチル−4−メトキシジフェニル
アミン、 N−アセチル−2−クロロ−41−メチル−4−エトキ
シジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−3′−メチル−4−メトキ
シジフェニルアミン、 N−アセチル−2−クロロ−4,4′−ジメトキシジフ
ェニルアミン、 N−プロピオニル−2−メトキシ−4−エトキシジフェ
ニルアミン。
以下、実施例をあげて、更に詳しく本発明を説明する。
実施例中、部および%は各々、重量部、電磁%を意味す
る。
る。
実施例1
4′−ジエチルアミノ−2′−ヒドロキシベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸81.8部、N−アセチル−2−メ
チル−4−メトキシジフェニルアミン25.5部、98
%硫酸200部の混合物を室温で40時間反応して縮合
させた。反応終了後、反応液を氷水で希釈して90%硫
酸に調整し、85〜90℃で3時間反応させて加水分解
し、反応液を氷水中にジスチャージして結晶を析出させ
た。析出した結晶を戸別、水洗、乾燥して、式(1−1
)で表わされるフタリド化合物44,7部が得られた。
ン−2−カルボン酸81.8部、N−アセチル−2−メ
チル−4−メトキシジフェニルアミン25.5部、98
%硫酸200部の混合物を室温で40時間反応して縮合
させた。反応終了後、反応液を氷水で希釈して90%硫
酸に調整し、85〜90℃で3時間反応させて加水分解
し、反応液を氷水中にジスチャージして結晶を析出させ
た。析出した結晶を戸別、水洗、乾燥して、式(1−1
)で表わされるフタリド化合物44,7部が得られた。
このフタリド化合物の全量をトルエン
250部に溶解し、トルエチルアミン10部を加えた後
、還流下で10時間反応させて閉環し、ついでトルエン
を減圧蒸留で留去した後、インプロパツールから再結晶
して、式(1−2)で表6されるフルオラン化合物40
.0部から得られた。通算収率84%、融点192〜1
98℃。
、還流下で10時間反応させて閉環し、ついでトルエン
を減圧蒸留で留去した後、インプロパツールから再結晶
して、式(1−2)で表6されるフルオラン化合物40
.0部から得られた。通算収率84%、融点192〜1
98℃。
この化合物は白色粉末であり、活性白土上で黒紫色に発
色する。
色する。
実施例2
4′−ジエチルアミノ−2′−ヒドロキシベンゾフェノ
ン−2−カルボン酸:111.8部、N−アセチル−2
−クロロ−4−メトキシジフェニルアミン27.6部、
96%硫酸200部の混合物を40℃で24時間反応し
て縮合させた。反応終了後、反応液を氷水で希釈して、
80%”M酸に調整し、85〜90℃で3時間反応させ
て加水分解し、反応液を氷水中にジスチャージして結晶
を析出さぜた。析出した結晶を戸別、水洗、乾燥して、
式(2−1)で表わされるフタリド化合物47.0 m
が得られた。
ン−2−カルボン酸:111.8部、N−アセチル−2
−クロロ−4−メトキシジフェニルアミン27.6部、
96%硫酸200部の混合物を40℃で24時間反応し
て縮合させた。反応終了後、反応液を氷水で希釈して、
80%”M酸に調整し、85〜90℃で3時間反応させ
て加水分解し、反応液を氷水中にジスチャージして結晶
を析出さぜた。析出した結晶を戸別、水洗、乾燥して、
式(2−1)で表わされるフタリド化合物47.0 m
が得られた。
このフタリド化合物の全量を5%カセイソーダ水溶液2
50部に溶解し、トルエン200部を加えた後、還流下
で2時間反応して閉環させ、室温まで冷却した後、静置
分液して、トルエン層とアルカリ水層とに分ケた。トル
エン層のトルエンを減圧蒸留で留去した後、インプロパ
ツールから再結晶して式(2−2)で表わされるフルオ
ラン化合物42.2部が得られた。通算収率85%、融
点178〜180℃。
50部に溶解し、トルエン200部を加えた後、還流下
で2時間反応して閉環させ、室温まで冷却した後、静置
分液して、トルエン層とアルカリ水層とに分ケた。トル
エン層のトルエンを減圧蒸留で留去した後、インプロパ
ツールから再結晶して式(2−2)で表わされるフルオ
ラン化合物42.2部が得られた。通算収率85%、融
点178〜180℃。
この化合物は白色粉末であり、活性白土上で黒紫色に発
色する。
色する。
実施例8
4’ −(N−エチル−N−インアミル−2I−ヒドロ
キシベンゾフェノン−2−カルボン酸86.5部、N−
プロピオニル−2−メチル−4−エトキシジフェニルア
ミン28.8部、100%硫酸150部の混合物を10
℃で10時間反応して縮合させた。
キシベンゾフェノン−2−カルボン酸86.5部、N−
プロピオニル−2−メチル−4−エトキシジフェニルア
ミン28.8部、100%硫酸150部の混合物を10
℃で10時間反応して縮合させた。
反応終了後、反応液を氷水中にジスチャージし、カセイ
ソーダで中和し、析出した結晶を戸別、水洗して、式(
8−”l )で表わされるフタリド化合物のウェットケ
ーキが得られた。
ソーダで中和し、析出した結晶を戸別、水洗して、式(
8−”l )で表わされるフタリド化合物のウェットケ
ーキが得られた。
このウェットケーキ全量を、20%塩酸250部に分散
し、85〜95℃で6時間反応させて加水分解し、反応
液を氷水中にジスチャージした後、結晶を戸別、水洗し
て、式(8−2)で表わされるフタリド化合物のウェッ
トケーキが得られた。
し、85〜95℃で6時間反応させて加水分解し、反応
液を氷水中にジスチャージした後、結晶を戸別、水洗し
て、式(8−2)で表わされるフタリド化合物のウェッ
トケーキが得られた。
このウェットケーキ全量を水800部に分散し、p H
を11−12に調整した後、80〜90℃で5時間反応
させて閉環し、室温まで冷却した後、析出している結晶
を戸別、水洗、乾燥し、式(L−8)で表わされるフル
オラン化合物43.7部が得られた。通算収率84%、
融点164〜166℃ この化合物は白色粉末であり、活性白土1で黒紫色に発
色する。
を11−12に調整した後、80〜90℃で5時間反応
させて閉環し、室温まで冷却した後、析出している結晶
を戸別、水洗、乾燥し、式(L−8)で表わされるフル
オラン化合物43.7部が得られた。通算収率84%、
融点164〜166℃ この化合物は白色粉末であり、活性白土1で黒紫色に発
色する。
実施例4
実施例1において、N−アセチル−2−メチル−4−メ
トキシジフェニルアミンの代ワリにN−7’ロピオニル
−2−クロロ−4−メトキシ−4′−メチルジフェニル
アミン24.8部を使用し、同様にして、式(4−1)
で表わされるフルオラン化合物42.9部が得られた。
トキシジフェニルアミンの代ワリにN−7’ロピオニル
−2−クロロ−4−メトキシ−4′−メチルジフェニル
アミン24.8部を使用し、同様にして、式(4−1)
で表わされるフルオラン化合物42.9部が得られた。
通算収率84%。
融点181.0−181.5℃
参考例
〔特開昭58−52366号公報実施例1に従って、前
記式(4−1)で表わされるフルオラン化合物を合成し
た。〕 4′−ジエチルアミ、ノー2′ −ヒドロキシベンゾフ
ェノン−2−カルボン酸12.0部、2−クロロ−4−
メトキシ−4′−メチルジフェニルj′ミン10.4部
、98%硫酸54答最部の混合物を室温で24時間反応
させた後、氷水700部にジスチャージして、析出した
結晶をt別、水洗し、カセイソーダで洗浄した。この結
晶をトノレニンより再結晶して前記式(4−1)で表わ
されるフルオラン化合物11.1部が得られた。
記式(4−1)で表わされるフルオラン化合物を合成し
た。〕 4′−ジエチルアミ、ノー2′ −ヒドロキシベンゾフ
ェノン−2−カルボン酸12.0部、2−クロロ−4−
メトキシ−4′−メチルジフェニルj′ミン10.4部
、98%硫酸54答最部の混合物を室温で24時間反応
させた後、氷水700部にジスチャージして、析出した
結晶をt別、水洗し、カセイソーダで洗浄した。この結
晶をトノレニンより再結晶して前記式(4−1)で表わ
されるフルオラン化合物11.1部が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l)一般式([I) (式中、R,、R,は各々独立に水素原子、非水溶性基
で置換されていてもよいアルキル基、アラルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルキル基または非水溶性基で置換
されていてもよいフェニル基を示し、または、R1*
R2が互いに連結して複素環を形成していてもよく、R
3は水素原子または低級アルキル基を示す。) で表わされるケトカルボン酸類と一般式[1)(式中、
R4は水素原子または低級アルキル基、Rsはアシル基
、X、Yは各々独立に低級アルコキシ基、低級アルキル
基、トリフルオロメチル基またはハロゲン原子を示し、
m 、 nは各々独立に0〜8の整数を示す。) で表わされるジフェニルアミン類を縮合させて一般式(
ff) (式中、R,、R2,R,、R4,R6,X、Y、m。 nは前記の意味を示す。) で表わされるフタリド化合物を製造し、次いでこれを加
水分解して一般式ff) (式中、R−1、R2、RA 、 R4、X、 Y 、
rn、 nは前記の意味を示す。) で表わされるフタリド化合物とし、次いでとこれ閉環し
て一般式(I) (式中、R1+ ”2 r xe Y* ” + ”は
前記の意味を示す。) で表わされるフルオラン化合物とすることを特徴とする
フルオラン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58148434A JPS6040165A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | フルオラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58148434A JPS6040165A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | フルオラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6040165A true JPS6040165A (ja) | 1985-03-02 |
| JPH0219857B2 JPH0219857B2 (ja) | 1990-05-07 |
Family
ID=15452702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58148434A Granted JPS6040165A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | フルオラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6040165A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0632836U (ja) * | 1992-09-29 | 1994-04-28 | ニチアス株式会社 | ヘッドガスケット |
| JPH0953726A (ja) * | 1995-08-09 | 1997-02-25 | Marusan:Kk | シリンダヘッドガスケット |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836132A (ja) * | 1971-09-14 | 1973-05-28 | ||
| JPS5323975A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-06 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Production of fluorane compound |
| JPS57190049A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-22 | Yamada Kagaku Kogyo Kk | Fluoran compound, its preparation, and color-developing recording material containing the same |
| JPS5865754A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | フルオラン化合物及びそれを用いる発色性感熱又は感圧記録シ−ト |
-
1983
- 1983-08-12 JP JP58148434A patent/JPS6040165A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4836132A (ja) * | 1971-09-14 | 1973-05-28 | ||
| JPS5323975A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-06 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Production of fluorane compound |
| JPS57190049A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-22 | Yamada Kagaku Kogyo Kk | Fluoran compound, its preparation, and color-developing recording material containing the same |
| JPS5865754A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | フルオラン化合物及びそれを用いる発色性感熱又は感圧記録シ−ト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0219857B2 (ja) | 1990-05-07 |
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