JPH0454187A - フルオラン化合物の製造方法 - Google Patents
フルオラン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH0454187A JPH0454187A JP2161296A JP16129690A JPH0454187A JP H0454187 A JPH0454187 A JP H0454187A JP 2161296 A JP2161296 A JP 2161296A JP 16129690 A JP16129690 A JP 16129690A JP H0454187 A JPH0454187 A JP H0454187A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lower alkyl
- formula
- acid
- sulfuric acid
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 fluoran compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 44
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 abstract description 23
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 10
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N fluoran Chemical class C12=CC=CC=C2OC2=CC=CC=C2C11OC(=O)C2=CC=CC=C21 FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- JQXCKOOKGDIOJS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-5-methylbenzoyl)benzoic acid Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C(O)=O)=C1 JQXCKOOKGDIOJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004207 3-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N fluoridochlorine Chemical compound ClF OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Color Printing (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感熱記録紙、感圧複写紙等の発色性記録材料
における発色性染料として有用なフルオラン化合物の製
造方法に関する。
における発色性染料として有用なフルオラン化合物の製
造方法に関する。
発色性配録材料に使用されるフルオラン化合物としては
、２−アニリノ−３−メチル−６−ジニチルアミノフル
オラン等が知られており、該化合物は２−（４−ジエチ
ルアミン−２−ヒドロキンベンゾイル）安息香酸と４−
メトキシ−２−メチルジフェニルアミンとを濃硫酸中で
反応させて製造される。他の公知のフルオラン化合物も
同様に製造されることが知られている。また、本発明方
法の目的化合物であるフェニルアミノフェニルアミノ基
等を有するフルオラン化合物類も、同様の方法で製造で
きることか知られてｔ）る（特開昭５７−１６９４８４
、特開昭６３−３７１５８号）。
、２−アニリノ−３−メチル−６−ジニチルアミノフル
オラン等が知られており、該化合物は２−（４−ジエチ
ルアミン−２−ヒドロキンベンゾイル）安息香酸と４−
メトキシ−２−メチルジフェニルアミンとを濃硫酸中で
反応させて製造される。他の公知のフルオラン化合物も
同様に製造されることが知られている。また、本発明方
法の目的化合物であるフェニルアミノフェニルアミノ基
等を有するフルオラン化合物類も、同様の方法で製造で
きることか知られてｔ）る（特開昭５７−１６９４８４
、特開昭６３−３７１５８号）。
公知の方法で本発明方法の目的化合物である式ＩＩＩで
表される化合物を製造する場合は１．他の公知フルオラ
ン化合物の場合と異なり副反応か起こり易く、反応液か
ら目的化合物を単離する工程番こおいて多量のタール状
物質か生成し、作業性か非常に損なわれる。また、他の
フルオラン化合物番こ比べると反応収率も低い。
表される化合物を製造する場合は１．他の公知フルオラ
ン化合物の場合と異なり副反応か起こり易く、反応液か
ら目的化合物を単離する工程番こおいて多量のタール状
物質か生成し、作業性か非常に損なわれる。また、他の
フルオラン化合物番こ比べると反応収率も低い。
本発明の目的は、式ＩＩＩで表されるフルオラン化合物
の製造方法を改良し、工業的に優れた方法を提供するに
ある。
の製造方法を改良し、工業的に優れた方法を提供するに
ある。
本発明者らは、式■で表される化合物と式ＩＩで表され
る化合物とを濃硫酸中で反応させて、式ＩＩＩで表され
るフルオランを製造する方法の改良について種々検討し
た結果、リン酸を添加して該反応を行うことにより、副
反応によるタール状物質の生成が抑制され収率も向上す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
る化合物とを濃硫酸中で反応させて、式ＩＩＩで表され
るフルオランを製造する方法の改良について種々検討し
た結果、リン酸を添加して該反応を行うことにより、副
反応によるタール状物質の生成が抑制され収率も向上す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、式Ｉて表される安息香酸誘導体と式Ｉ
Ｉで表されるフェノール誘導体とを濃硫酸中で反応させ
て式ＩＩＩで表されるフルオラン化合物を製造する方法
において、該反応をリン酸の存在下において行うことを
特徴とするフルオラン化合物の製造方法である。
Ｉで表されるフェノール誘導体とを濃硫酸中で反応させ
て式ＩＩＩで表されるフルオラン化合物を製造する方法
において、該反応をリン酸の存在下において行うことを
特徴とするフルオラン化合物の製造方法である。
（式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を、Ｘは同−
又は相異なり、低級アルキル基又はｌＸロケン原子を、
ｍはｌ又は２を、Ａｒは同−又は相異なり、置換基を有
していてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基を、
Ｒ’及びＲ２は水素原子又は低級アルキル基を、Ｙは水
素原子又は式Ｎ ＣＲ”）Ｒ’で表される置換アミノ
基を、Ｒ３は水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ４は低
級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基
もしくはナフチル基を示す。） 式■又は式■の化合物において、Ａｒ又はＲ４で表され
るベンゼン環又はナフタレン環の有する置換基としては
、低級アルキル基、／１０ゲン原子等か挙げられる。
又は相異なり、低級アルキル基又はｌＸロケン原子を、
ｍはｌ又は２を、Ａｒは同−又は相異なり、置換基を有
していてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基を、
Ｒ’及びＲ２は水素原子又は低級アルキル基を、Ｙは水
素原子又は式Ｎ ＣＲ”）Ｒ’で表される置換アミノ
基を、Ｒ３は水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ４は低
級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基
もしくはナフチル基を示す。） 式■又は式■の化合物において、Ａｒ又はＲ４で表され
るベンゼン環又はナフタレン環の有する置換基としては
、低級アルキル基、／１０ゲン原子等か挙げられる。
本発明方法は、１硫酸中で安息香酸誘導体とフェノール
誘導体とを反応させる従来方法に準し、該濃硫酸中にリ
ン酸を存在させることにより実施することができる。即
ち、リン酸を含有する９０〜ｌＯＯ％濃硫酸中において
、０〜５０℃の温度で３〜５０時間反応させ、得られた
縮合物を常法により閉環反応させて目的のフルオラン化
合物を得ることができる。
誘導体とを反応させる従来方法に準し、該濃硫酸中にリ
ン酸を存在させることにより実施することができる。即
ち、リン酸を含有する９０〜ｌＯＯ％濃硫酸中において
、０〜５０℃の温度で３〜５０時間反応させ、得られた
縮合物を常法により閉環反応させて目的のフルオラン化
合物を得ることができる。
濃硫酸に添加するリン酸としては、オルトリン酸、メタ
リン酸及びポリリン酸類等のリン酸と総称されるものか
挙げられる。また、これらの塩類あるいは無水リン酸を
使用することもできる。好ましくは、オルトリン酸か使
用され、工業的には、通常、リン酸水溶液か使用される
か、この場合、更に無水リン酸を添加してもよい。
リン酸及びポリリン酸類等のリン酸と総称されるものか
挙げられる。また、これらの塩類あるいは無水リン酸を
使用することもできる。好ましくは、オルトリン酸か使
用され、工業的には、通常、リン酸水溶液か使用される
か、この場合、更に無水リン酸を添加してもよい。
リン酸の量は、硫酸の０．５〜２５重量％である。リン
酸量の上限は臨界的ではないか、余り多量であると実質
的硫酸１度か低くなり収率を低下させることになり好ま
しくない。
酸量の上限は臨界的ではないか、余り多量であると実質
的硫酸１度か低くなり収率を低下させることになり好ま
しくない。
リン酸を添加しない従来法では、縮合反応中に多量の副
生物が生成して収率低下の原因となる。
生物が生成して収率低下の原因となる。
また、後処理の際に、多量のタール状物質か析出して後
処理操作か極めて煩雑なものとなる。リン酸の作用は明
確ではないか、原料物質である式ＩＩで表されるフェノ
ール誘導体か濃硫酸によりスルホン化され易い化合物で
あり、タール状物質の生成はこの副反応に起因するもの
と考えられ、リン酸の存在下に反応を行うと、この副反
応か抑制されるものと考えられる。
処理操作か極めて煩雑なものとなる。リン酸の作用は明
確ではないか、原料物質である式ＩＩで表されるフェノ
ール誘導体か濃硫酸によりスルホン化され易い化合物で
あり、タール状物質の生成はこの副反応に起因するもの
と考えられ、リン酸の存在下に反応を行うと、この副反
応か抑制されるものと考えられる。
本発明方法においては、上記の如く副反応か抑制される
ので、反応時間を短縮するために縮合反応の反応温度を
高めに設定しても、タール状物質の生成が少なく、高収
率で目的物を得ることかできる。
ので、反応時間を短縮するために縮合反応の反応温度を
高めに設定しても、タール状物質の生成が少なく、高収
率で目的物を得ることかできる。
縮合反応後の閉環反応及び後処理は、常法に従い実施す
ればよい。例えば、縮合反応液を氷水中に分散して縮合
物を析出させるか、あるいは縮合反応液をアルカリ水溶
液中に分散して、中和と同時に縮合物を析出させ、濾別
した縮合物を水酸化ナトリウム水溶液とトルエン等の有
機溶媒との混合液に加え、加熱処理して閉環反応させる
。次いで、有機溶媒溶液を濃縮する等の方法により、目
的物を得ることかできる。更に、要すれば再結晶等の方
法により精製してもよい。
ればよい。例えば、縮合反応液を氷水中に分散して縮合
物を析出させるか、あるいは縮合反応液をアルカリ水溶
液中に分散して、中和と同時に縮合物を析出させ、濾別
した縮合物を水酸化ナトリウム水溶液とトルエン等の有
機溶媒との混合液に加え、加熱処理して閉環反応させる
。次いで、有機溶媒溶液を濃縮する等の方法により、目
的物を得ることかできる。更に、要すれば再結晶等の方
法により精製してもよい。
以下に、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明する。
実施例 １
９５％硫酸９８ｇと８５％リン酸水溶液９．８ｇとの混
合液を５℃に冷却した中に、２−（５クロル−２−ヒド
ロキシ−４−メチルベンゾイル）安息香酸１４． ５
ｇ（０，０５モル）を溶解した。
合液を５℃に冷却した中に、２−（５クロル−２−ヒド
ロキシ−４−メチルベンゾイル）安息香酸１４． ５
ｇ（０，０５モル）を溶解した。
次に、１０°Ｃ以下でＮ−ｆ４−［（３−メトキシフェ
ニル）アミノコフェニルｌ−Ｎ’ −フェニル−１，４
−フェニレンジアミン１９． Ｏｇ（０，０５モル）
を添加した後昇温し、２０〜２５℃で８時間反応させた
。反応終了後、反応液を２〇九苛性ソーダ４００ｄ中に
分散し、モノクロルベンゼン３００−を加え１時間還流
させた。次いで、分液した有機層に１５％苛性ソーダ水
溶液１００−を仕込み、１時間加熱還流させた後、熱水
１００ｄを加え不溶解物を溶解させた。分液後、有機層
を熱水２００−で洗浄した後、熱濾過した。濾液を減圧
濃縮乾固した後、メタノール４０ｒＲ１を加えて結晶を
析出させた。濾別した結晶を少量のメタノールで洗浄し
乾燥して、融点１９８．４〜２００４℃の３− Ｃ４−
（４−フェニルアミノフェニル）アミノフェニルコアミ
ノ−６−メチル−７クロルフルオランの結晶２６． ８
ｇ （８６，２％）を得た。
ニル）アミノコフェニルｌ−Ｎ’ −フェニル−１，４
−フェニレンジアミン１９． Ｏｇ（０，０５モル）
を添加した後昇温し、２０〜２５℃で８時間反応させた
。反応終了後、反応液を２〇九苛性ソーダ４００ｄ中に
分散し、モノクロルベンゼン３００−を加え１時間還流
させた。次いで、分液した有機層に１５％苛性ソーダ水
溶液１００−を仕込み、１時間加熱還流させた後、熱水
１００ｄを加え不溶解物を溶解させた。分液後、有機層
を熱水２００−で洗浄した後、熱濾過した。濾液を減圧
濃縮乾固した後、メタノール４０ｒＲ１を加えて結晶を
析出させた。濾別した結晶を少量のメタノールで洗浄し
乾燥して、融点１９８．４〜２００４℃の３− Ｃ４−
（４−フェニルアミノフェニル）アミノフェニルコアミ
ノ−６−メチル−７クロルフルオランの結晶２６． ８
ｇ （８６，２％）を得た。
実施例 ２
９５％硫酸９８ｇと８５％リン酸水溶液４５ｇとの混合
液を５℃に冷却した中に、２−（５クロル−２−ヒドロ
キシ−４−メチルベンゾイル）安息香酸１４． ５ ｇ
＜ ０．０５モル）を溶解した。
液を５℃に冷却した中に、２−（５クロル−２−ヒドロ
キシ−４−メチルベンゾイル）安息香酸１４． ５ ｇ
＜ ０．０５モル）を溶解した。
次に、１０℃以下で、Ｎ−フェニル−Ｎ（３−ヒドロキ
シフェニル）−１，４−フェニレンジアミン１３． ８
ｇ（０，０５モル）を添加した後昇温し、２０〜２５
℃で８時間攪拌反２させた。
シフェニル）−１，４−フェニレンジアミン１３． ８
ｇ（０，０５モル）を添加した後昇温し、２０〜２５
℃で８時間攪拌反２させた。
反応終了後、反応液を氷水５００−中に攪拌分散し、析
出した結晶を２０％苛性ソーダ水溶液１００−とモノク
ロルベンゼン２００ｄとの混合液中に仕込み、２時間還
流させた。次いで、分液した有機層を熱水２００−で洗
浄したのち、熱濾過した。濾液を減圧濃縮乾固した後、
トルエン４０＋＋／を加えて結晶を析出させ、少量のト
ルエンで洗浄して乾燥し、融点２２１．０〜２２４．０
”Ｃの３−（４−フェニルアミノフェニル）アミノ−６
メチルー７−クロルフルオランの結晶１５．２ｇ（５７
，４％）を得た。
出した結晶を２０％苛性ソーダ水溶液１００−とモノク
ロルベンゼン２００ｄとの混合液中に仕込み、２時間還
流させた。次いで、分液した有機層を熱水２００−で洗
浄したのち、熱濾過した。濾液を減圧濃縮乾固した後、
トルエン４０＋＋／を加えて結晶を析出させ、少量のト
ルエンで洗浄して乾燥し、融点２２１．０〜２２４．０
”Ｃの３−（４−フェニルアミノフェニル）アミノ−６
メチルー７−クロルフルオランの結晶１５．２ｇ（５７
，４％）を得た。
実施例 ３
９５％硫酸９８ｇと８５％リン酸水溶液９．８ｇとの混
合液を５℃に冷却した中に、２− （２−ヒドロキシ−
５−メチルベンゾイル）安息香酸１２．８ｇ（０，０５
モル）を溶解した。 次に、１゜℃以下で、Ｎ’ −＋
４− （（３−メトキンフェニル）アミノ〕フェニルｌ
−Ｎ、Ｎ−ジメチル−１１４−フェニレンジアミン１６
． ７ ｇ（０，０５モル）を添加した後、実施例２と
同様に反応させ、融点１９９．０〜２０２０℃の３−
［４−（４−ＮＮ−ジメチルアミノフェニル）アミノフ
ェニル〕アミノ−７−メチル−フルオランの結晶２１．
０ｇ（７８，１％）を得た。
合液を５℃に冷却した中に、２− （２−ヒドロキシ−
５−メチルベンゾイル）安息香酸１２．８ｇ（０，０５
モル）を溶解した。 次に、１゜℃以下で、Ｎ’ −＋
４− （（３−メトキンフェニル）アミノ〕フェニルｌ
−Ｎ、Ｎ−ジメチル−１１４−フェニレンジアミン１６
． ７ ｇ（０，０５モル）を添加した後、実施例２と
同様に反応させ、融点１９９．０〜２０２０℃の３−
［４−（４−ＮＮ−ジメチルアミノフェニル）アミノフ
ェニル〕アミノ−７−メチル−フルオランの結晶２１．
０ｇ（７８，１％）を得た。
比較例 ｌ
実施例１と同じ反応を、リン酸を添加せずに実施し、融
点１９８．４〜２００．４℃の３−〔４−（４−７エニ
ルアミノフエニル）アミノフェニルコアミノ−６−メチ
ル−７−クロルフルオランの結晶２２． ０ ｇ（７０
，７％） を得た。
点１９８．４〜２００．４℃の３−〔４−（４−７エニ
ルアミノフエニル）アミノフェニルコアミノ−６−メチ
ル−７−クロルフルオランの結晶２２． ０ ｇ（７０
，７％） を得た。
この方法においては、硫酸中での縮合反応後、反応液を
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質が付着していた。
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質が付着していた。
比較例 ２
実施例２と同じ反応を、リン酸を添加せずに実施し、融
点２２１ Ｏ〜２２４．０℃の３−（４−フェニルアミ
ノフェニル）アミノル６−メチルフータロルフルオラン
の結晶１４．０ｇ（５２８％）を得た。
点２２１ Ｏ〜２２４．０℃の３−（４−フェニルアミ
ノフェニル）アミノル６−メチルフータロルフルオラン
の結晶１４．０ｇ（５２８％）を得た。
この方法においては、硫酸中での縮合反応後、反応液を
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質か付着していた。
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質か付着していた。
比較例 ３
実施例３と同し反応を、リン酸を添加せずに実施し、融
点１９９．０〜２０００℃の３〜〔４（４−Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ〜７−
メチル−フルオランの結晶１８．７ｇ （６９，５％）
を得た。
点１９９．０〜２０００℃の３〜〔４（４−Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ〜７−
メチル−フルオランの結晶１８．７ｇ （６９，５％）
を得た。
この方法においては、硫酸中での縮合反応後、反応液を
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質か付着していた。
苛性ソーダ水溶液と有機溶剤との混合液中で加熱した際
、容器壁に多量のタール状物質か付着していた。
本発明の方法は、従来方法の欠点であった、後処理時に
多量のタール状物質か副生ずるという問題点及び収率の
改善された、工業的に優れたフルオラン化合物の製造方
法である。
多量のタール状物質か副生ずるという問題点及び収率の
改善された、工業的に優れたフルオラン化合物の製造方
法である。
出願人 （４３０）日本曹達株式会社
代理人 （７１２５）構出 吉美
（９６４８）東海 裕作
Claims (1)
- （１）式 I で表される安息香酸誘導体と式IIで表され
るフェノール誘導体とを濃硫酸中で反応させて式IIIで
表されるフルオラン化合物を製造する方法において、該
反応をリン酸の存在下において行うことを特徴とするフ
ルオラン化合物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）▲数式、化
学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を、Ｘは同一
又は相異なり、低級アルキル基又はハロゲン原子を、ｍ
は１又は２を、Ａｒは同一又は相異なり、置換基を有し
ていてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基を、Ｒ
＾１及びＲ＾２は水素原子又は低級アルキル基を、Ｙは
水素原子又は式−Ｎ（Ｒ＾３）Ｒ＾４で表される置換ア
ミノ基を、Ｒ＾３は水素原子又は低級アルキル基を、Ｒ
＾４は低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフ
ェニル基もしくはナフチル基を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2161296A JPH0454187A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | フルオラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2161296A JPH0454187A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | フルオラン化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0454187A true JPH0454187A (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=15732414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2161296A Pending JPH0454187A (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | フルオラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0454187A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2283562A (en) * | 1993-04-22 | 1995-05-10 | Nippon Oxygen Co Ltd | Method of and apparatus for manufacturing various kinds of gases to be supplied to semiconductor manufacturing factories |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP2161296A patent/JPH0454187A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2283562A (en) * | 1993-04-22 | 1995-05-10 | Nippon Oxygen Co Ltd | Method of and apparatus for manufacturing various kinds of gases to be supplied to semiconductor manufacturing factories |
| GB2283562B (en) * | 1993-04-22 | 1996-10-30 | Nippon Oxygen Co Ltd | Method of and apparatus for manufacturing various kinds of gases to be supplied to semiconductor manufacturing factories |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5922711B2 (ja) | ベンゾオキサゾリノン誘導体の製造法 | |
| US3873573A (en) | Phthalide compounds | |
| CN108047089B (zh) | 一种4-叔丁基邻苯二甲腈的制备方法 | |
| US4758380A (en) | Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis | |
| JPS5938228B2 (ja) | イミダゾ−ルと２−アルキルイミダゾ−ル類およびそれらの製造法 | |
| JPH0454187A (ja) | フルオラン化合物の製造方法 | |
| JP3501816B2 (ja) | ケト酸の製造方法 | |
| DK143654B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af et fluoranderivat af triphenylmethan | |
| SU677657A3 (ru) | Способ получени -формилированных соединений | |
| JPH04502150A (ja) | ２―（クロロ，ブロモ，またはニトロ）―４―（アルキルスルフォニル）安息香酸の調製および中間体 | |
| JPS60132933A (ja) | ニトロジアリ‐ルアミンの製造方法 | |
| JPS61189231A (ja) | ４，４′−ジアミノジフエニルエタン誘導体の製造法 | |
| US6011177A (en) | Process for 4-sulfonamidolphenyl hydrazines | |
| IL24732A (en) | Amides of sulphamylanthranilic acid and process for their preparation | |
| JP3060653B2 (ja) | フルオラン化合物の製造方法 | |
| US3549703A (en) | Process for making n-(3-halopropyl)-n-methylhydrocarbon sulfonamides | |
| DE1445775A1 (de) | Verfahren zur Herstellung basisch alkylierter Bisnaphthalimide | |
| JPS6040165A (ja) | フルオラン化合物の製造方法 | |
| US3524863A (en) | 9 - oxo - 2 - cyano - 2,3(1h) - xanthenedicarboximide compounds and process of preparation | |
| JPH04323267A (ja) | トリメチン色素の製造方法 | |
| JPH0356452A (ja) | 安息香酸誘導体の製造方法 | |
| JPS59112945A (ja) | Ｏ−置換−ヒドロキシルアミンの製造方法 | |
| JPS61151158A (ja) | ベンゾイル安息香酸誘導体及びその製造法 | |
| SU390076A1 (ru) | Ан ссср | |
| JPS6052174B2 (ja) | フルオラン誘導体の製造方法 |