JPS6041878B2 - 薄膜太陽電池装置 - Google Patents
薄膜太陽電池装置Info
- Publication number
- JPS6041878B2 JPS6041878B2 JP54016309A JP1630979A JPS6041878B2 JP S6041878 B2 JPS6041878 B2 JP S6041878B2 JP 54016309 A JP54016309 A JP 54016309A JP 1630979 A JP1630979 A JP 1630979A JP S6041878 B2 JPS6041878 B2 JP S6041878B2
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- solar cell
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- back electrode
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
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- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は太陽電池装置の電極構造の改良に関するもので
ある。
ある。
近年太陽エネルギーの有効利用を図るために、半導体基
板が比較的簡単な製造プロセスで得るこILとができ、
且つパネル状への素子組み立て作業が容易な太陽電池装
置として、アモルファスシリコン薄膜を利用した装置が
開発され、実用化が試みられている。
板が比較的簡単な製造プロセスで得るこILとができ、
且つパネル状への素子組み立て作業が容易な太陽電池装
置として、アモルファスシリコン薄膜を利用した装置が
開発され、実用化が試みられている。
この種の太陽電池素子は、ガラス等の透光性基板面に電
極が形成された後、該電極を2ι被つてアモルファスシ
リコン層を生長させ、適宜リン或いはボロン等の不純物
を導入して光起電力特性を備えた太陽電池装置が構成さ
れている。ここて上記薄膜太陽電池装置は比較的薄い半
導体層に形成されるため、受光面と相対する背面電極側
25に反射率の高い金属膜が用いられるならば、半導体
薄膜との屈折率の差によつて両者の界面で光の反射が生
じ、実質的に光の入射強度が増加したことに相当し、こ
のために太陽電池の効率向上が期待できる。一般的に半
導体薄膜の屈折率をn、、背面電極材料の複素屈折率を
n2−iR2とすれば、半導体薄膜側から垂直入射した
光の背面電極との界面反射率Rm−は次の式で与えられ
る。
極が形成された後、該電極を2ι被つてアモルファスシ
リコン層を生長させ、適宜リン或いはボロン等の不純物
を導入して光起電力特性を備えた太陽電池装置が構成さ
れている。ここて上記薄膜太陽電池装置は比較的薄い半
導体層に形成されるため、受光面と相対する背面電極側
25に反射率の高い金属膜が用いられるならば、半導体
薄膜との屈折率の差によつて両者の界面で光の反射が生
じ、実質的に光の入射強度が増加したことに相当し、こ
のために太陽電池の効率向上が期待できる。一般的に半
導体薄膜の屈折率をn、、背面電極材料の複素屈折率を
n2−iR2とすれば、半導体薄膜側から垂直入射した
光の背面電極との界面反射率Rm−は次の式で与えられ
る。
(n、−n0)゜+R漿
Rmロー
−(n、+ n。
)’+Rりシリコン結晶と金、銀、銅、ニッケル或いは
アルミニウムとの組合せについて上式により垂直反射率
Rmaxを求めると第1図のようになる。
アルミニウムとの組合せについて上式により垂直反射率
Rmaxを求めると第1図のようになる。
太陽光の放射スペクトルは主として0.3μmから2μ
mの波長域に存在するので、第1図からは銀、アルミニ
ウム、金、銅、ニッケルの順で反射特性がナぐれている
ことになる。ところでシリコン薄膜とこれらの電極材料
について実験して見ると、■R、金、銅等は予想される
程、太陽電池の効率を着加させることは出来なかつた。
これはシリコン寺膜とこれら電極材料が界面で合金層を
形成し、各電極材料それ自身がもつ優れた反射特性を維
持−11来ないことに原因があり、従つてシリコン薄膜
との間で合金層を形成する可能性のある全ての金叫材料
を背面電極材として用いた場合にこの問題プゞ生ずるが
、特に光反射性の高い銀、金あるいは伺を背面電極材と
して用いた場合に顕著に現われ60この光電変換率が予
想値を下回る現象についCは本発明者の実験によつて確
認された。本発明は上記電極材料及び半導体薄膜の特性
に鑑みてなされたもので、次に実施例を挙げて本発明の
詳細な説明する。
mの波長域に存在するので、第1図からは銀、アルミニ
ウム、金、銅、ニッケルの順で反射特性がナぐれている
ことになる。ところでシリコン薄膜とこれらの電極材料
について実験して見ると、■R、金、銅等は予想される
程、太陽電池の効率を着加させることは出来なかつた。
これはシリコン寺膜とこれら電極材料が界面で合金層を
形成し、各電極材料それ自身がもつ優れた反射特性を維
持−11来ないことに原因があり、従つてシリコン薄膜
との間で合金層を形成する可能性のある全ての金叫材料
を背面電極材として用いた場合にこの問題プゞ生ずるが
、特に光反射性の高い銀、金あるいは伺を背面電極材と
して用いた場合に顕著に現われ60この光電変換率が予
想値を下回る現象についCは本発明者の実験によつて確
認された。本発明は上記電極材料及び半導体薄膜の特性
に鑑みてなされたもので、次に実施例を挙げて本発明の
詳細な説明する。
第2図に於て1は入射光を受光する透光性ガラス基板で
、該ガラス基板の表面には光電変換出力を取り出すため
一方の電極2が所望パターンで設げられている。
、該ガラス基板の表面には光電変換出力を取り出すため
一方の電極2が所望パターンで設げられている。
該電極2に電気的接続されたアモルファスシリコン素子
3がモノシランガス等から板状に成長させて設けられ、
リン及びボロン等の不純物が成長過程で同時にドープさ
れて、PN接合による光起電力特性をもつた太陽電池素
子を得る。エッチング等の処理が施こされて所望形状に
形成されたシリコン素子3は、上記ガラス基板1と対向
した受光面に対して相対する背面側に透明導電層4が設
けられている。該透明導電層4は上記半導体素子3と後
述する背面電極との合金化を阻止する役目を果すもので
、Irl2O3、SnO2、In2O3−SnO2混合
物、CdS.,ZnO.,BP..BNlAIN.Ga
N或いはTaN等の透明且つ低抵抗導電材料がシリコン
素子背面の少なく共背面電極が被着される領域に設けら
れている。透明導電層4上には光出力を外部に導出する
ための背面電極5が設けられている。該背面電極5はA
g.Al、Au、Cu..Pt.,Rh..Mg..Z
nlCd..TiNPd..Ni或いはこれ等金属の合
金が用いられ無電解メッキ、電解メッキ等によつて形成
され、各素子について出力を取り出すための電極が設け
られると共に、各素子間が相互に電気的接続される。配
線されたシリコン素子は外部配線のためのリードが取付
けられた状態で、湿気、汚染等の外部環境から保護する
ためのバシベーシヨン膜6が被覆され、更にガラス等の
保護材7が重ねられて封止されている。上記パシベーシ
ョン膜6はSl3N4、SiO2、SnO2、Ta2O
,、Nl)205、TiO2、WO3等の無機質薄膜或
いは防湿特性がすぐれたポリ四フッ化エチレン、ポリ三
フッ化塩化エチレン、ポリフッ化エチレンプロピレン、
ポリエチレン、ポリプロピレン等の有機質薄膜で形成す
ることができ、単に保護材7を重ねてシールするだけの
場合に比べてシリコン素子の保護は一段と高められる。
上記本発明の太陽電池電極構造によれば、透明導電層で
シリコン半導体層と背面電極間は隔てられているため、
両者が合金化する惧れはほとんどなく、背面電極は金属
本来の高い反射率を維持して太陽電池の光電変換効率の
低下を防ぎ、長期に亘つて高出力効率を維持することが
てきる。
3がモノシランガス等から板状に成長させて設けられ、
リン及びボロン等の不純物が成長過程で同時にドープさ
れて、PN接合による光起電力特性をもつた太陽電池素
子を得る。エッチング等の処理が施こされて所望形状に
形成されたシリコン素子3は、上記ガラス基板1と対向
した受光面に対して相対する背面側に透明導電層4が設
けられている。該透明導電層4は上記半導体素子3と後
述する背面電極との合金化を阻止する役目を果すもので
、Irl2O3、SnO2、In2O3−SnO2混合
物、CdS.,ZnO.,BP..BNlAIN.Ga
N或いはTaN等の透明且つ低抵抗導電材料がシリコン
素子背面の少なく共背面電極が被着される領域に設けら
れている。透明導電層4上には光出力を外部に導出する
ための背面電極5が設けられている。該背面電極5はA
g.Al、Au、Cu..Pt.,Rh..Mg..Z
nlCd..TiNPd..Ni或いはこれ等金属の合
金が用いられ無電解メッキ、電解メッキ等によつて形成
され、各素子について出力を取り出すための電極が設け
られると共に、各素子間が相互に電気的接続される。配
線されたシリコン素子は外部配線のためのリードが取付
けられた状態で、湿気、汚染等の外部環境から保護する
ためのバシベーシヨン膜6が被覆され、更にガラス等の
保護材7が重ねられて封止されている。上記パシベーシ
ョン膜6はSl3N4、SiO2、SnO2、Ta2O
,、Nl)205、TiO2、WO3等の無機質薄膜或
いは防湿特性がすぐれたポリ四フッ化エチレン、ポリ三
フッ化塩化エチレン、ポリフッ化エチレンプロピレン、
ポリエチレン、ポリプロピレン等の有機質薄膜で形成す
ることができ、単に保護材7を重ねてシールするだけの
場合に比べてシリコン素子の保護は一段と高められる。
上記本発明の太陽電池電極構造によれば、透明導電層で
シリコン半導体層と背面電極間は隔てられているため、
両者が合金化する惧れはほとんどなく、背面電極は金属
本来の高い反射率を維持して太陽電池の光電変換効率の
低下を防ぎ、長期に亘つて高出力効率を維持することが
てきる。
即ち、背面電極は金属て形成されるため、背面電極界面
は金属光沢を呈し、高い光反射特性を示すはずであるが
、光電変換用のシリコン半導体層との接合界面て合金化
が進行するとこの金属光沢は喪失され、光反射特性は低
下することとなる。本発明は透明導電層の介在によつて
この合金の進行を阻止して背面電極の金属光沢を残存せ
しめるものであり、これによつてシリコン半導体層のP
N接合を通過して背面電極に到達した光がこの界面の光
反射特性によつて反射され、再度シリコン半導体層中に
入射して光電変換に寄与するため、効率の高い太陽電池
素子が得られれることになる。また合金化を阻止するた
めの透明導電層は、In2O3、SnO2、In2−S
nO2の混合物、CdOlZnO..BP..BN,,
AlN.,GaN或いはTaNのいずれかが用いられる
ため、比較的簡単な製造工程で作製することができ、高
出力太陽電池を経済性よく得ることができる。図面の簡
単な説明第1図は電極材料の波長と垂直反射率の関係を
示す図、第2図は本発明による太陽電池装置の断面図で
ある。
は金属光沢を呈し、高い光反射特性を示すはずであるが
、光電変換用のシリコン半導体層との接合界面て合金化
が進行するとこの金属光沢は喪失され、光反射特性は低
下することとなる。本発明は透明導電層の介在によつて
この合金の進行を阻止して背面電極の金属光沢を残存せ
しめるものであり、これによつてシリコン半導体層のP
N接合を通過して背面電極に到達した光がこの界面の光
反射特性によつて反射され、再度シリコン半導体層中に
入射して光電変換に寄与するため、効率の高い太陽電池
素子が得られれることになる。また合金化を阻止するた
めの透明導電層は、In2O3、SnO2、In2−S
nO2の混合物、CdOlZnO..BP..BN,,
AlN.,GaN或いはTaNのいずれかが用いられる
ため、比較的簡単な製造工程で作製することができ、高
出力太陽電池を経済性よく得ることができる。図面の簡
単な説明第1図は電極材料の波長と垂直反射率の関係を
示す図、第2図は本発明による太陽電池装置の断面図で
ある。
1:ガラス基板、2:電極、3:薄膜シリコン素子、4
:透明導電層、5:背面電極、6:パシベーシヨン膜、
−7:保護材。
:透明導電層、5:背面電極、6:パシベーシヨン膜、
−7:保護材。
Claims (1)
- 1 受光面に相対する背面に背面電極が設けられた光電
変換用シリコン半導体層を有する薄膜太陽電池装置にお
いて、波長0.3〜2μmの光に対して高い反射率を示
す金属で前記背面電極を形成し、前記背面電極と前記シ
リコン半導体層間に、In_2O_3、SnO_2、I
nO_2−SnO_2の混合物、CdO、ZnO、BP
、BN、AlN、CaN或いはTaNのいずれかからな
る透明導電層を介在したことを特徴とする薄膜太陽電池
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54016309A JPS6041878B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | 薄膜太陽電池装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54016309A JPS6041878B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | 薄膜太陽電池装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55108780A JPS55108780A (en) | 1980-08-21 |
| JPS6041878B2 true JPS6041878B2 (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=11912920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54016309A Expired JPS6041878B2 (ja) | 1979-02-14 | 1979-02-14 | 薄膜太陽電池装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041878B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002261302A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 薄膜結晶質Si太陽電池 |
| WO2009119125A1 (ja) | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 三菱重工業株式会社 | 光電変換装置 |
| EP2091085A3 (de) * | 2008-02-12 | 2012-12-12 | SCHOTT Solar AG | Photovoltaisches Modul und Verfahren zu dessen Herstellung |
Families Citing this family (74)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57204179A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of photoelectromotive force device |
| JPS5835989A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 非晶質光半導体装置 |
| US4571448A (en) * | 1981-11-16 | 1986-02-18 | University Of Delaware | Thin film photovoltaic solar cell and method of making the same |
| US4778478A (en) * | 1981-11-16 | 1988-10-18 | University Of Delaware | Method of making thin film photovoltaic solar cell |
| JPS58112374A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 光起電力装置の製造方法 |
| JPS58112375A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 光起電力装置の製造方法 |
| US4419533A (en) * | 1982-03-03 | 1983-12-06 | Energy Conversion Devices, Inc. | Photovoltaic device having incident radiation directing means for total internal reflection |
| JPS58192386A (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-09 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 非晶質シリコン太陽電池 |
| JPS58204572A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| US4554727A (en) * | 1982-08-04 | 1985-11-26 | Exxon Research & Engineering Company | Method for making optically enhanced thin film photovoltaic device using lithography defined random surfaces |
| US4479027A (en) * | 1982-09-24 | 1984-10-23 | Todorof William J | Multi-layer thin-film, flexible silicon alloy photovoltaic cell |
| JPS5976482A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置の作製方法 |
| JPS5976481A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| DE3242831A1 (de) * | 1982-11-19 | 1984-05-24 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Solarzelle aus amorphem silizium und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4497974A (en) * | 1982-11-22 | 1985-02-05 | Exxon Research & Engineering Co. | Realization of a thin film solar cell with a detached reflector |
| JPS6095980A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| US4593152A (en) * | 1982-11-24 | 1986-06-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device |
| JPS607778A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-16 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| JPS59201471A (ja) * | 1983-04-29 | 1984-11-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| JPS59107580A (ja) * | 1982-12-11 | 1984-06-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| JPS59108370A (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-22 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 光起電力装置 |
| JPH0656893B2 (ja) * | 1983-02-07 | 1994-07-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 光電変換装置の作製方法 |
| JPS59144178A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| JPS59144179A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置作製方法 |
| JPS59144181A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置作製方法 |
| JPS59150485A (ja) * | 1983-02-16 | 1984-08-28 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| JPS59154079A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置及びその作製方法 |
| JPS59155974A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置作製方法 |
| JPS59155973A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換半導体装置 |
| US4599482A (en) * | 1983-03-07 | 1986-07-08 | Semiconductor Energy Lab. Co., Ltd. | Semiconductor photoelectric conversion device and method of making the same |
| JPH0758797B2 (ja) * | 1983-04-18 | 1995-06-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 光電変換半導体装置の作製方法 |
| JPH0614556B2 (ja) * | 1983-04-29 | 1994-02-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 光電変換装置及びその作製方法 |
| JPH06101571B2 (ja) * | 1983-06-03 | 1994-12-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
| JPS6015980A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-26 | Agency Of Ind Science & Technol | 太陽電池 |
| US4594471A (en) * | 1983-07-13 | 1986-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device |
| JPS6030183A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-15 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜太陽電池 |
| JPS6034076A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-02-21 | Taiyo Yuden Co Ltd | 非晶質シリコン太陽電池 |
| JPH0680837B2 (ja) * | 1983-08-29 | 1994-10-12 | 通商産業省工業技術院長 | 光路を延長した光電変換素子 |
| JPS6085573A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-15 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| JPS60123072A (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置作製方法 |
| JPS613475A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力素子 |
| JPS6191974A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 耐熱性マルチジヤンクシヨン型半導体素子 |
| JPS6193672A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
| US4611091A (en) * | 1984-12-06 | 1986-09-09 | Atlantic Richfield Company | CuInSe2 thin film solar cell with thin CdS and transparent window layer |
| JPS61255072A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| US4663495A (en) * | 1985-06-04 | 1987-05-05 | Atlantic Richfield Company | Transparent photovoltaic module |
| JPS6260271A (ja) * | 1985-09-10 | 1987-03-16 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
| JPS63503103A (ja) * | 1985-09-30 | 1988-11-10 | 鐘淵化学工業株式会社 | マルチジャンクション型半導体デバイス |
| JPS62122181A (ja) * | 1985-11-21 | 1987-06-03 | Toshiba Corp | 太陽電池モジユ−ル |
| JPH0758809B2 (ja) * | 1985-12-06 | 1995-06-21 | アンリツ株式会社 | オ−ミツク接合装置 |
| JPS63138843U (ja) * | 1987-03-04 | 1988-09-13 | ||
| JPS63140648U (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-16 | ||
| JPS63285972A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-22 | Fujitsu Ltd | バイポ−ラトランジスタおよびその製造方法 |
| JPS62295467A (ja) * | 1987-05-29 | 1987-12-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 光電変換装置 |
| US4775425A (en) * | 1987-07-27 | 1988-10-04 | Energy Conversion Devices, Inc. | P and n-type microcrystalline semiconductor alloy material including band gap widening elements, devices utilizing same |
| JP2648698B2 (ja) * | 1988-09-27 | 1997-09-03 | 鐘淵化学工業 株式会社 | 耐熱型太陽電池 |
| JPH0381647U (ja) * | 1989-12-08 | 1991-08-21 | ||
| JPH0453427U (ja) * | 1990-09-14 | 1992-05-07 | ||
| JP2908067B2 (ja) * | 1991-05-09 | 1999-06-21 | キヤノン株式会社 | 太陽電池用基板および太陽電池 |
| US5324365A (en) | 1991-09-24 | 1994-06-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Solar cell |
| JP2994812B2 (ja) * | 1991-09-26 | 1999-12-27 | キヤノン株式会社 | 太陽電池 |
| DE69218102T2 (de) * | 1991-10-22 | 1997-10-09 | Canon Kk | Photovoltaisches Bauelement |
| JP2746074B2 (ja) * | 1993-09-22 | 1998-04-28 | 富士電機株式会社 | アモルファスシリコン太陽電池の製造方法 |
| DE69535967D1 (de) * | 1994-10-06 | 2009-07-30 | Kanegafuchi Chemical Ind | Dünnschicht-solarzelle |
| JP3653800B2 (ja) * | 1995-06-15 | 2005-06-02 | 株式会社カネカ | 集積化薄膜太陽電池の製造方法 |
| US6077722A (en) * | 1998-07-14 | 2000-06-20 | Bp Solarex | Producing thin film photovoltaic modules with high integrity interconnects and dual layer contacts |
| JP4429418B2 (ja) * | 1999-07-19 | 2010-03-10 | 株式会社カネカ | マグネトロンスパッタ装置による金属酸化物薄膜の成膜方法 |
| JP4909032B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2012-04-04 | 三洋電機株式会社 | 太陽電池モジュール |
| JP5468217B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2014-04-09 | 住友金属鉱山株式会社 | 薄膜太陽電池 |
| KR101144808B1 (ko) * | 2008-09-01 | 2012-05-11 | 엘지전자 주식회사 | 박막형 태양전지 제조방법 및 이를 이용한 박막형 태양전지 |
| JP5480897B2 (ja) * | 2009-06-23 | 2014-04-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 太陽電池 |
| CN103339734A (zh) * | 2011-01-31 | 2013-10-02 | 三洋电机株式会社 | 光电转换装置及其制造方法 |
| TWI609838B (zh) * | 2012-07-19 | 2018-01-01 | 日立化成股份有限公司 | 太陽電池元件、太陽電池元件的製造方法以及太陽電池模組 |
| JP2014096598A (ja) * | 2013-12-25 | 2014-05-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 薄膜太陽電池 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918290A (ja) * | 1972-06-08 | 1974-02-18 | ||
| JPS5329588A (en) * | 1976-08-31 | 1978-03-18 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Apparatus for holding and withdrawing wires in equipment for continuously compressing terminals of a plurality of wires |
-
1979
- 1979-02-14 JP JP54016309A patent/JPS6041878B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002261302A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 薄膜結晶質Si太陽電池 |
| EP2091085A3 (de) * | 2008-02-12 | 2012-12-12 | SCHOTT Solar AG | Photovoltaisches Modul und Verfahren zu dessen Herstellung |
| WO2009119125A1 (ja) | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 三菱重工業株式会社 | 光電変換装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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