JPS6042738A - エレクトロクロミツク素子の製造方法 - Google Patents
エレクトロクロミツク素子の製造方法Info
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- JPS6042738A JPS6042738A JP58150569A JP15056983A JPS6042738A JP S6042738 A JPS6042738 A JP S6042738A JP 58150569 A JP58150569 A JP 58150569A JP 15056983 A JP15056983 A JP 15056983A JP S6042738 A JPS6042738 A JP S6042738A
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- Japan
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- electrochromic
- layer
- electrode
- film
- manufacturing
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1524—Transition metal compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気化学的発消色現象、即ち、エレクトロク
ロミンク現象を応用した素子を製造するりｊ法に関する
もので、４￥にこのようなエレクトロクロミック素子に
おけるエレクトロクロミンク層のパターニングに関する
ものである。
ロミンク現象を応用した素子を製造するりｊ法に関する
もので、４￥にこのようなエレクトロクロミック素子に
おけるエレクトロクロミンク層のパターニングに関する
ものである。
エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクコミック素子の２つの従来例を第１図および第２図
に示す。
ロクコミック素子の２つの従来例を第１図および第２図
に示す。
第１図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
１の上に、透明導電体■りよりなる第１′１１！、極２
、陰極側発色層であるエレクトロクロミンク層３、絶縁
Ｒ４、導電体膜より成る第２電極５を１１１０次桔層し
てなるものである。また、第２図に示すエレクトロクロ
ミ・ンク素子は、第１図に示す構造における絶縁層４と
第２電極５との間に、さらに、陽極側発色層である第２
のエレクトロクロミック層６を積層したものである。
１の上に、透明導電体■りよりなる第１′１１！、極２
、陰極側発色層であるエレクトロクロミンク層３、絶縁
Ｒ４、導電体膜より成る第２電極５を１１１０次桔層し
てなるものである。また、第２図に示すエレクトロクロ
ミ・ンク素子は、第１図に示す構造における絶縁層４と
第２電極５との間に、さらに、陽極側発色層である第２
のエレクトロクロミック層６を積層したものである。
上記の構造において、）２板ｌは一般的にガラス板によ
って形成されるが、これはガラス板に限らす、プラスチ
ック板またはアクリル板等の如く無色透明な板であれば
よく、また、その位置に関しても、第１電極２の下では
なく第２電極５の１−に、投けてもよいし、目的に応じ
て（例えば、保護カバーにするなどの目的で）両側に設
けてもよい。電極２および５に関しても、どちらか一方
の電極が透明であればよいし、両側が透明であれば透過
型の素子ができる。
って形成されるが、これはガラス板に限らす、プラスチ
ック板またはアクリル板等の如く無色透明な板であれば
よく、また、その位置に関しても、第１電極２の下では
なく第２電極５の１−に、投けてもよいし、目的に応じ
て（例えば、保護カバーにするなどの目的で）両側に設
けてもよい。電極２および５に関しても、どちらか一方
の電極が透明であればよいし、両側が透明であれば透過
型の素子ができる。
Ｊ−記の全固体型エレクトロクロミック素子に一般的に
用いられている膜の材料の代表例を列挙する。第１電極
２を構成する透明導電膜としては、ＩＴＯｌｌり（酸化
インジウムＩｎ２Ｏ３中に醇化錫５ｎ０７をドープした
もの）やネサ膜等が用いられる。
用いられている膜の材料の代表例を列挙する。第１電極
２を構成する透明導電膜としては、ＩＴＯｌｌり（酸化
インジウムＩｎ２Ｏ３中に醇化錫５ｎ０７をドープした
もの）やネサ膜等が用いられる。
陰極側発色層であるエレクトロクロミック層３は、−酸
化タングステン（ＷＯ２）、三酸化タングステン（ｗｏ
３）、二酸化モリブテン（Ｍｏ０２ ）、五酸化モリブ
テン（Ｍｏｂ、） 、五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）等
を用いて形成する。
化タングステン（ＷＯ２）、三酸化タングステン（ｗｏ
３）、二酸化モリブテン（Ｍｏ０２ ）、五酸化モリブ
テン（Ｍｏｂ、） 、五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ５）等
を用いて形成する。
絶縁層４には、二酸化ジルコン（ＺｒＯ２）、酸化ケイ
素（Ｓｉｎ） 、 二酸化ケイ素（Ｓｉ０２） 、 五
Ｍ化タンタル（Ｔａ２０４． ） ’Ｊに代表される酸
化物、あるいはフン化リチウム（ＬｉＦ） 、 フッ化
マグネシウム（ＭｇＦ２）等に代表されるフッ化物が用
いられるが、この絶縁層は誘電体のみでなく、固体電解
質等のようなものでよい。
素（Ｓｉｎ） 、 二酸化ケイ素（Ｓｉ０２） 、 五
Ｍ化タンタル（Ｔａ２０４． ） ’Ｊに代表される酸
化物、あるいはフン化リチウム（ＬｉＦ） 、 フッ化
マグネシウム（ＭｇＦ２）等に代表されるフッ化物が用
いられるが、この絶縁層は誘電体のみでなく、固体電解
質等のようなものでよい。
第２電ｍ５には、例えばＡｕの半透明導電膜が使用され
る。また、第２図に示すものにおいて、陽極側発色層で
ある第２エレクトロクロミンク層６は、三酸化クロム（
Ｃｒ２Ｏ３） 、水酸化イリジウム （Ｉｒ（ＯＨ）ｚ
） 、水酸化ニッケル（Ｎｉ（ＯＨ）２）等を用いて
形成する。
る。また、第２図に示すものにおいて、陽極側発色層で
ある第２エレクトロクロミンク層６は、三酸化クロム（
Ｃｒ２Ｏ３） 、水酸化イリジウム （Ｉｒ（ＯＨ）ｚ
） 、水酸化ニッケル（Ｎｉ（ＯＨ）２）等を用いて
形成する。
この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック素子
は、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印加すること
により電気化学的反応か起き着色、消色をする。この着
色機構は１例えば、７ＪＪｌのエレクトロクロミック層
３へのカチオンと電子のダブルインジェクションによる
ブロンズ形成にあると一般的に言われている。例えば、
そのエレクトロクロミック物質に１ｌ１０３を用いる場
合には、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き
着色する。
は、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印加すること
により電気化学的反応か起き着色、消色をする。この着
色機構は１例えば、７ＪＪｌのエレクトロクロミック層
３へのカチオンと電子のダブルインジェクションによる
ブロンズ形成にあると一般的に言われている。例えば、
そのエレクトロクロミック物質に１ｌ１０３を用いる場
合には、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き
着色する。
ＷＯ３＋ｘＨ” ＋ ｘｅ−：’； ）ｌｚＷＯ３（１
）（１）式に従って、タングステンブロンズＨ，ＷＯ３
か形成され着色するが、ここで、印加電圧を逆転すれば
消色状態となる。
）（１）式に従って、タングステンブロンズＨ，ＷＯ３
か形成され着色するが、ここで、印加電圧を逆転すれば
消色状態となる。
（１）式のこの様な反応は、全固体型エレクトロクロミ
ンク素子においては、素子内部の絶縁層によって、プロ
Ｉ・ンＨ＋が供給され着色するとされている。
ンク素子においては、素子内部の絶縁層によって、プロ
Ｉ・ンＨ＋が供給され着色するとされている。
」−記のようなエレクトロクロミック素子におけるエレ
クトロクコミック層のパターニングをするには、従来、
マスク蒸着やレジストエツチングによるパターニングか
なされてきた。しかし、このような従来のパターニング
では、下地とエレクＩ・ロクロミンク層が形成された部
分とに段差が生じ、全固体型エレクＩ・ロクロミンク素
子のタイプであると、段差の部分が見えてしまったり、
液体電解質型エレクトロクロミック素子のタイプである
と、エレクトロクロミック層のない部分に、新らたに、
絶縁膜を付けるなどの工程が必要となる。
クトロクコミック層のパターニングをするには、従来、
マスク蒸着やレジストエツチングによるパターニングか
なされてきた。しかし、このような従来のパターニング
では、下地とエレクＩ・ロクロミンク層が形成された部
分とに段差が生じ、全固体型エレクＩ・ロクロミンク素
子のタイプであると、段差の部分が見えてしまったり、
液体電解質型エレクトロクロミック素子のタイプである
と、エレクトロクロミック層のない部分に、新らたに、
絶縁膜を付けるなどの工程が必要となる。
本発明の■門は、」二記のような従来のパターニングに
おける欠点を排除したエレクトロクロミンク素子の製造
方法を提供することである。
おける欠点を排除したエレクトロクロミンク素子の製造
方法を提供することである。
本発明によるエレクトロクロミック素子の製造方法は、
導電体膜より成る第１電極と、エレクトロクロミック層
と、絶縁層と、導電体膜より成る第２電極を含むエレク
トロクロミック素子を製造するにあたって、第１電極上
にエレクトロクロミ、り層を積層したのちに、この層を
パターニングする際、エレクトロクロミンク層として使
用しない部分に、グロー放電によって励起させた Ｈ２
０雰囲気をあてることに−より、この部分にエレクトロ
クロミック機能を失なわせしめ、パターニングすること
を特徴とするものである。
導電体膜より成る第１電極と、エレクトロクロミック層
と、絶縁層と、導電体膜より成る第２電極を含むエレク
トロクロミック素子を製造するにあたって、第１電極上
にエレクトロクロミ、り層を積層したのちに、この層を
パターニングする際、エレクトロクロミンク層として使
用しない部分に、グロー放電によって励起させた Ｈ２
０雰囲気をあてることに−より、この部分にエレクトロ
クロミック機能を失なわせしめ、パターニングすること
を特徴とするものである。
本発明の方法によれば、エレクトロクロミック層自体が
、エレクトロクロミンク現象を起こす所と、起こさない
所に別れる為に５段差のない、あるいはあっても、ごく
わずかしかない層となる為、見えの点等が改善されるの
である。
、エレクトロクロミンク現象を起こす所と、起こさない
所に別れる為に５段差のない、あるいはあっても、ごく
わずかしかない層となる為、見えの点等が改善されるの
である。
本発明で用いられるエレクトロクロミック材は種々ある
が、好ましくは、酸化タングステンを用い、また、グロ
ー放電も、イオンブレーティング装置内で処理されるの
が好ましい。
が、好ましくは、酸化タングステンを用い、また、グロ
ー放電も、イオンブレーティング装置内で処理されるの
が好ましい。
このようにＨ，Ｏ零囲内でグロー放電を行うと、グロー
放電によって励起されたＨ２ｏ雰囲気によってＨ” 、
Ｉ］）Ｉ−、０２−等のイオンが形成されこの０２−
イオンが例えばＷＯ３膜より成為エレクｉ・ロクロミン
ク層に入って１ｌＩ０３層の結晶化等の作用によりこの
部分のエレクトロクロミック機能を失わしめて所望のパ
ターニングを達成する。
放電によって励起されたＨ２ｏ雰囲気によってＨ” 、
Ｉ］）Ｉ−、０２−等のイオンが形成されこの０２−
イオンが例えばＷＯ３膜より成為エレクｉ・ロクロミン
ク層に入って１ｌＩ０３層の結晶化等の作用によりこの
部分のエレクトロクロミック機能を失わしめて所望のパ
ターニングを達成する。
本発明によるエレクトロクロミック素子を製造するのに
使用されるイオンブレーティング装置の一例を第３図に
示す。図中、１１はイオンブレーティング装置の本体、
１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘（基板ホルダー）
、１４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５
は高周波コイル（ＲＦコイル）、１６はＨ２０蒸気供給
源。
使用されるイオンブレーティング装置の一例を第３図に
示す。図中、１１はイオンブレーティング装置の本体、
１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘（基板ホルダー）
、１４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５
は高周波コイル（ＲＦコイル）、１６はＨ２０蒸気供給
源。
１７はニードルバルブ、１８は基板（被蒸着体）を示す
。
。
第３図に示す装置によってエレクトロクロミック素子を
製造する工程は次の通りである。
製造する工程は次の通りである。
先ず、基板ｌの上に適当な引出し電極部およびリード部
を備えた第１電極２を形成し、これを第３図の装置内に
１８で示す如く設置し蒸発材として例えば酸化タングス
テン（ＷＯｓ ）を用い、電子銃１２を用いた真空蒸着
方法によりＷＯ３のエレクトロクロミック層を形成する
。こＧエレクトロクロミック層の膜の形成後、この基板
にマスクを〜かけ、Ｈ２０蒸気供給源１６から導入され
るＨｚＯ雲囲気内でグロー放電をさせる。
を備えた第１電極２を形成し、これを第３図の装置内に
１８で示す如く設置し蒸発材として例えば酸化タングス
テン（ＷＯｓ ）を用い、電子銃１２を用いた真空蒸着
方法によりＷＯ３のエレクトロクロミック層を形成する
。こＧエレクトロクロミック層の膜の形成後、この基板
にマスクを〜かけ、Ｈ２０蒸気供給源１６から導入され
るＨｚＯ雲囲気内でグロー放電をさせる。
このグロー放電によって所望のパターニング作用が達成
される。
される。
次にこの膜の上に、−真空蒸着方法により絶縁層４を形
成し、次に該絶縁層４の上に第２電極５の膜を形成しく
ｆｆ１１図に示すエレクトロクロミック素子の場合）、
或いは該絶縁層４の上に、陽極側発色層であるニレクロ
ドロクロミック層６を真空蒸着法で形成した上、第２電
極５の膜を形成する（第２図に示すエレクトロクロミッ
ク素子の場合）。
成し、次に該絶縁層４の上に第２電極５の膜を形成しく
ｆｆ１１図に示すエレクトロクロミック素子の場合）、
或いは該絶縁層４の上に、陽極側発色層であるニレクロ
ドロクロミック層６を真空蒸着法で形成した上、第２電
極５の膜を形成する（第２図に示すエレクトロクロミッ
ク素子の場合）。
次に本発明によるエレクトロクロミック素子を製造する
方法の実施例について説明する。
方法の実施例について説明する。
実施例１
厚み０．８ｍｍ ａ）ガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５
９）ノ板よりなるノ、（板１１：に、適当な引き出し電
極部及びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成
し、７５発材料に酸化タングステン（ＷＯ：＋ ）を用
い、電子銃１２を用いた真空蒸着方法により、−に記の
第１゛准極２上に、エレクトロクロミック層３としてＷ
Ｏ３膜を形成した。この時のｚｋ着条件は、真空度は２
．ＯＸ ＩＱ−５Ｔｏｒｒ、た。
９）ノ板よりなるノ、（板１１：に、適当な引き出し電
極部及びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成
し、７５発材料に酸化タングステン（ＷＯ：＋ ）を用
い、電子銃１２を用いた真空蒸着方法により、−に記の
第１゛准極２上に、エレクトロクロミック層３としてＷ
Ｏ３膜を形成した。この時のｚｋ着条件は、真空度は２
．ＯＸ ＩＱ−５Ｔｏｒｒ、た。
上記１１り形成後、この基板にマスクをかけＨ２Ｏ，／
に気供給源１６より導入される Ｈ２０零囲気内で、高
周波イオンブレーティング法によりエレクトロクロミッ
ク層３（ＷＯ３層）に、Ｈ２０グロー放電をかけた。こ
のときの条件はＨ２０７１気導入後の真空度、 ５．Ｏ
Ｘ １０− Ｔｏｒｒ、グロー放電時間は、５＋ｎｉｎ
であった。
に気供給源１６より導入される Ｈ２０零囲気内で、高
周波イオンブレーティング法によりエレクトロクロミッ
ク層３（ＷＯ３層）に、Ｈ２０グロー放電をかけた。こ
のときの条件はＨ２０７１気導入後の真空度、 ５．Ｏ
Ｘ １０− Ｔｏｒｒ、グロー放電時間は、５＋ｎｉｎ
であった。
次に、絶縁層４として酸化タンタル
（Ｔａ２０ｓ ）の層をつけ、ごらに、これらの膜の上
に、第２電極５としてＡｕ膜を付けた。
に、第２電極５としてＡｕ膜を付けた。
１．５ｖで駆動したところ、パターニングの跡が見えな
い、見栄の良いエレクトロクロミック素子ができた。
い、見栄の良いエレクトロクロミック素子ができた。
実施例２
厚み０．８ｍｍのカラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５９）
の板よりなる基板１−１−に、適当な引き出し電極部及
びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、蒸
発材料に酸化タングステン（ＷＯ３）を用い、電子銃１
２を用いた真空蒸着方法により、」二記の第１電極２上
に、第１の陰極側エレクトロクロミック層３としてＷＯ
：＋ Ｍを形成した。この時の蒸着条件は、真空度は２
、ＯＸ １０−′Ｔｏｒｒ、 Ｉｇ厚は、４ｏｏｏ′Ａ
、蒸着速度は１５Ａ ／ｓｅｅであった。 上記膜形成
後、このノ、（板に、マスクをかけ、Ｈ２０蒸気供粕源
１６より導入されるＨ２０零囲気内で、高周波イオンブ
レーティング法によりエレクトロクロミック層３（１１
１０３層）に、グロー放電をかけた。このときの条件は
、Ｈ２Ｏノに気導入後の真空度、４．０ Ｘ １０−’
Ｔｏｒｒ、グロー放電時間は、３ｍ１ｎであった。
の板よりなる基板１−１−に、適当な引き出し電極部及
びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、蒸
発材料に酸化タングステン（ＷＯ３）を用い、電子銃１
２を用いた真空蒸着方法により、」二記の第１電極２上
に、第１の陰極側エレクトロクロミック層３としてＷＯ
：＋ Ｍを形成した。この時の蒸着条件は、真空度は２
、ＯＸ １０−′Ｔｏｒｒ、 Ｉｇ厚は、４ｏｏｏ′Ａ
、蒸着速度は１５Ａ ／ｓｅｅであった。 上記膜形成
後、このノ、（板に、マスクをかけ、Ｈ２０蒸気供粕源
１６より導入されるＨ２０零囲気内で、高周波イオンブ
レーティング法によりエレクトロクロミック層３（１１
１０３層）に、グロー放電をかけた。このときの条件は
、Ｈ２Ｏノに気導入後の真空度、４．０ Ｘ １０−’
Ｔｏｒｒ、グロー放電時間は、３ｍ１ｎであった。
次に、絶縁層４として酸化タンタル
（Ｔａ２０５ ）の層をつけ、これらの１１Ｑの上に、
第２の陽極側エレクトロクロミック層６として水酸化イ
リジウムをマスクツ人着し、さらに、第２電極５として
Ａｕ膜を付けた。１．５ｖで駆動したｋころ、パターニ
ングの跡が見えない、見栄えの良いエレクトロクロミッ
ク素子ができた。
第２の陽極側エレクトロクロミック層６として水酸化イ
リジウムをマスクツ人着し、さらに、第２電極５として
Ａｕ膜を付けた。１．５ｖで駆動したｋころ、パターニ
ングの跡が見えない、見栄えの良いエレクトロクロミッ
ク素子ができた。
４、図面のｆ＋ｉ’ｒ ！’ｌｉな説明第１図および第
２図は、本発明に係る方法によって製造されるエレクト
ロクロミック素子の２つの例を示す断面図、第３図は本
発明素子な製造するのに使用されるイオンブレーティン
グ装置を示す概略図である。
２図は、本発明に係る方法によって製造されるエレクト
ロクロミック素子の２つの例を示す断面図、第３図は本
発明素子な製造するのに使用されるイオンブレーティン
グ装置を示す概略図である。
■・・・基板 ２・・・第１電極
３・・・エレクトロクロミンク層
４・・・絶縁層 ５・・・第２電極
６・・・エレクトロクロミック層
１１・・・イオンブレーティング装置本体１２・・・電
子銃（ＥＢガン） １３・・・傘（基板ホルダー） １４・・・ＤＣバイアス源 １５・・・高周波コイル（ＲＦコイル）１６・・・Ｈ２
０蒸気供給源 １７・・・ニードルバルブ１８・・・基
板（被蒸着体）
子銃（ＥＢガン） １３・・・傘（基板ホルダー） １４・・・ＤＣバイアス源 １５・・・高周波コイル（ＲＦコイル）１６・・・Ｈ２
０蒸気供給源 １７・・・ニードルバルブ１８・・・基
板（被蒸着体）
Claims (1)
- 導電体膜より成る第１電極と、エレクトロクロミック層
と、絶縁層と、導電体膜より成る第２電極を含むエレク
トロクロミック素子を製造するにあたって、第一１電極
上にエレクトロクロミック層を積層したのちに、この層
をパターニングする際、エレクトロクロミンク層として
使用しない部分に、グロー放電によって励起させた１（
２０雰囲気をあてることにより、この部分にエレクトロ
クロミンク機能を失なわせしめ、パターニングすること
を特徴としたエレクトロクロミンク素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150569A JPS6042738A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150569A JPS6042738A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042738A true JPS6042738A (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=15499751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58150569A Pending JPS6042738A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042738A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976717A (en) * | 1995-12-19 | 1999-11-02 | Daimlerchrysler Ag | Coating comprising a photochromic material, a method for its production as well as its use |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP58150569A patent/JPS6042738A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5976717A (en) * | 1995-12-19 | 1999-11-02 | Daimlerchrysler Ag | Coating comprising a photochromic material, a method for its production as well as its use |
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