JPS6042841A - イメ−ジセンサ用集積回路の自動着脱装置 - Google Patents
イメ−ジセンサ用集積回路の自動着脱装置Info
- Publication number
- JPS6042841A JPS6042841A JP58150764A JP15076483A JPS6042841A JP S6042841 A JPS6042841 A JP S6042841A JP 58150764 A JP58150764 A JP 58150764A JP 15076483 A JP15076483 A JP 15076483A JP S6042841 A JPS6042841 A JP S6042841A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- box
- lid
- light
- socket
- receiving surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イメージセンサ用集積回路の光学試験に於い
て用いられる自動着脱装置に関するものである。
て用いられる自動着脱装置に関するものである。
従来イメージセンサ用集積回路（以下ＤＵＴと略す）の
光学試験で、ＤＵＴの着脱方法は、次の様であった。す
な′わち、第１図に示す様な暗箱（蓋を閉じる事によっ
て外部からの光を遮断し、内部に外部の制御によって光
量が変化する光学系０及びＤＵＴを着脱する為のＩＣソ
ケット（ハ）を備えた箱）の蓋を囲けてＤＵＴをソケッ
ト（ロ）に挿入する。次に暗箱内のり、ＵＴの受光面上
を布で拭き、蓋を閉じて試験準備状態になる。次に試験
が終ると、蓋囚を而けてＤＵＴを抜き取る操作で１サイ
クルは終る。
光学試験で、ＤＵＴの着脱方法は、次の様であった。す
な′わち、第１図に示す様な暗箱（蓋を閉じる事によっ
て外部からの光を遮断し、内部に外部の制御によって光
量が変化する光学系０及びＤＵＴを着脱する為のＩＣソ
ケット（ハ）を備えた箱）の蓋を囲けてＤＵＴをソケッ
ト（ロ）に挿入する。次に暗箱内のり、ＵＴの受光面上
を布で拭き、蓋を閉じて試験準備状態になる。次に試験
が終ると、蓋囚を而けてＤＵＴを抜き取る操作で１サイ
クルは終る。
ここで問題になるのは、ＤＵＴをＩＣソケットの）に挿
入する時である。一般にＤＵＴの光学試験（ＤＵＴの受
光面に一定の光を照射して得られ・るアナログ信号を処
理して良否判定を行う）を行う時、ＤＵ’Ｉ”の受光面
上に、塵埃や指紋等の汚物があると、それらの汚物がＤ
ＵＴ内の受光素子上に影を作シ、汚物を取シ除けは良品
となるものが影の為に不良と刊足される。従って光学試
験を行う場合は、必ずＤＬＩＴの受光面をきれいに拭き
取ってから行う。便米の方法ではＤＵＴをＩＣソケット
（ロ）に挿入してから受光面上を拭くという作業をして
いた。この方法では受光面上はきれいＫなるが拭くもの
から出る塵埃又受光向上の拭き取った塵埃が暗箱内にた
まシ、蓋（Ａ）の開閉によシ暗箱内のゴミが乱されＤＵ
Ｔの受光面上に付着する事があシ、良品を不良品とみな
す事があった。
入する時である。一般にＤＵＴの光学試験（ＤＵＴの受
光面に一定の光を照射して得られ・るアナログ信号を処
理して良否判定を行う）を行う時、ＤＵ’Ｉ”の受光面
上に、塵埃や指紋等の汚物があると、それらの汚物がＤ
ＵＴ内の受光素子上に影を作シ、汚物を取シ除けは良品
となるものが影の為に不良と刊足される。従って光学試
験を行う場合は、必ずＤＬＩＴの受光面をきれいに拭き
取ってから行う。便米の方法ではＤＵＴをＩＣソケット
（ロ）に挿入してから受光面上を拭くという作業をして
いた。この方法では受光面上はきれいＫなるが拭くもの
から出る塵埃又受光向上の拭き取った塵埃が暗箱内にた
まシ、蓋（Ａ）の開閉によシ暗箱内のゴミが乱されＤＵ
Ｔの受光面上に付着する事があシ、良品を不良品とみな
す事があった。
外部でＤＵＴの受光面上を拭いたとしても、人手で第２
図の株に持ち、ＩＣソケットに挿入する場合どうしても
受光面上に？ｋｆがふれたシ、又手袋をしていても手袋
から出る塵埃又指から出る水蒸気等でどうしてもＩＣソ
ケッＩＩＫ挿入した後拭く必要がめった。又蓋囚の開閉
に関しても、人手では力の入れ方に差があり、蓋に）の
開閉部の故障、閉じておくためのロック機構の故障が多
かった。
図の株に持ち、ＩＣソケットに挿入する場合どうしても
受光面上に？ｋｆがふれたシ、又手袋をしていても手袋
から出る塵埃又指から出る水蒸気等でどうしてもＩＣソ
ケッＩＩＫ挿入した後拭く必要がめった。又蓋囚の開閉
に関しても、人手では力の入れ方に差があり、蓋に）の
開閉部の故障、閉じておくためのロック機構の故障が多
かった。
本発明の目的は、以上の欠点を取シ除く事にある。
本発明の％徴は、前記説明の暗箱に漱て、暗箱の蓋を開
閉するｋｍ及び暗箱外でＤＵＴの受光面上の汚物を拭き
取り、さらにＤＵＴの受光面上に気体を噴きつける機構
及び暗箱内のＩＣソケットへのＤＵＴの着脱機構を備え
たロボットによるイメージセ、ンサ用集積回路の自動着
脱装置である。
閉するｋｍ及び暗箱外でＤＵＴの受光面上の汚物を拭き
取り、さらにＤＵＴの受光面上に気体を噴きつける機構
及び暗箱内のＩＣソケットへのＤＵＴの着脱機構を備え
たロボットによるイメージセ、ンサ用集積回路の自動着
脱装置である。
本発明の装置を用いる事によシ、次の様な利点がある。
まず、ＤＵＴの受光向の指絞、塵埃の汚物を拭き取シ、
さらにＤＵＴの受光面上に気体を噴きつける慎粥を使用
し、第１図の暗箱の外で、ＤＬＩＴの受″光面上に付着
した指紋等の気体の噴きつけでとれなめ汚物を拭き取シ
拭き取った物から出る塵埃を気体の鳴きつけで取る。こ
の事によシ暗箱の外でＤＯＴの受光面上は汚物のない状
態になる。そして暗箱内のＩＣソケット（ロ）へのＤＵ
Ｔの着脱機構を使用し、第３図の様にＤＵＴψ）？］−
ロボットでつかみ暗箱内のＩＣソケット＠ｒ（？ｌｉ人
する。この躯によ、９、ＩＣソケット（ハ）に挿入され
たＤＵＴの受光面上は汚物のない状態となる。又暗箱内
で塵埃の発生する物を使用しない為、蓋囚の硼閉で塵埃
の乱れる事もなくなる。次に蓋（６）を開閉する機構を
使用する参によシ、為に一定の力で働く為最少の力で開
閉可能な状態に設足しでめれは蓋（６）の故障も少なく
なシ、又閉じた時のロック機構を付けなくても試験中ロ
ボットが蓋をおさえさせる設定とすれは、開閉も容易に
なシ、故障も少なくなる。
さらにＤＵＴの受光面上に気体を噴きつける慎粥を使用
し、第１図の暗箱の外で、ＤＬＩＴの受″光面上に付着
した指紋等の気体の噴きつけでとれなめ汚物を拭き取シ
拭き取った物から出る塵埃を気体の鳴きつけで取る。こ
の事によシ暗箱の外でＤＯＴの受光面上は汚物のない状
態になる。そして暗箱内のＩＣソケット（ロ）へのＤＵ
Ｔの着脱機構を使用し、第３図の様にＤＵＴψ）？］−
ロボットでつかみ暗箱内のＩＣソケット＠ｒ（？ｌｉ人
する。この躯によ、９、ＩＣソケット（ハ）に挿入され
たＤＵＴの受光面上は汚物のない状態となる。又暗箱内
で塵埃の発生する物を使用しない為、蓋囚の硼閉で塵埃
の乱れる事もなくなる。次に蓋（６）を開閉する機構を
使用する参によシ、為に一定の力で働く為最少の力で開
閉可能な状態に設足しでめれは蓋（６）の故障も少なく
なシ、又閉じた時のロック機構を付けなくても試験中ロ
ボットが蓋をおさえさせる設定とすれは、開閉も容易に
なシ、故障も少なくなる。
又従来では、ＩＣソケットにＤＵＴを挿入しＤ Ｕ Ｔ
ｇ）受光面上を拭くという作業があったが、本発明の
装置を使用する事により、試験中に、次のＤＵＴの受光
面上の処理が出来る為、従来の受光面上を拭いている時
間が短縮される為、測定時間の短縮になる。
ｇ）受光面上を拭くという作業があったが、本発明の
装置を使用する事により、試験中に、次のＤＵＴの受光
面上の処理が出来る為、従来の受光面上を拭いている時
間が短縮される為、測定時間の短縮になる。
第１図は暗箱の外観図、扼２図はＤＵＴを手でつかんだ
側面図、第３図はＤＵＴをロボットでつかんだ側簡図で
ある。 なおＩｍＫ−おいて、Ａ・・・・・・暗箱の蓋、Ｂ・・
・・・・ＤＬＩＴ挿入用ＩＣソケット、Ｃ・・・・・・
光学系、Ｄ・・・用光学制御系、Ｅ・・・・・・Ｄ Ｕ
’１’の受光向、Ｆ・・・・・・ＤＵ’Ｉ’。 Ｇ・・・・・・人のＩＭ、Ｈ・・・：・・１）ＵＴをは
さむ為のロボットの一部分でるる。
側面図、第３図はＤＵＴをロボットでつかんだ側簡図で
ある。 なおＩｍＫ−おいて、Ａ・・・・・・暗箱の蓋、Ｂ・・
・・・・ＤＬＩＴ挿入用ＩＣソケット、Ｃ・・・・・・
光学系、Ｄ・・・用光学制御系、Ｅ・・・・・・Ｄ Ｕ
’１’の受光向、Ｆ・・・・・・ＤＵ’Ｉ’。 Ｇ・・・・・・人のＩＭ、Ｈ・・・：・・１）ＵＴをは
さむ為のロボットの一部分でるる。
Claims (1)
- 蓋を閉じる事によって外部からの光を遮断し、内部に外
部からの制御によって光量が変化する光学系及びイメー
ジセンサ用の集積回路を着脱する為の朱積回路用ソケッ
トを備えた暗箱と共に用いられ、該暗箱の蓋を開閉する
機構と、該暗箱外で＠記集積回路の受光面上拭き取シ該
受光面上に気体を噴きつける機構と、前記集積回路ソケ
ットへの前記集積回路の着脱機構とを備えたことを特徴
とするイメージセンサ用集積回路の自動着脱装置ｔ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150764A JPS6042841A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | イメ−ジセンサ用集積回路の自動着脱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58150764A JPS6042841A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | イメ−ジセンサ用集積回路の自動着脱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042841A true JPS6042841A (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=15503901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58150764A Pending JPS6042841A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | イメ−ジセンサ用集積回路の自動着脱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042841A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01302146A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Matsushita Electron Corp | 外観検査装置 |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP58150764A patent/JPS6042841A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01302146A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Matsushita Electron Corp | 外観検査装置 |
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