JPS6043437B2 - アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents

アゼチジノン誘導体の製造法

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JPS6043437B2
JPS6043437B2 JP56069688A JP6968881A JPS6043437B2 JP S6043437 B2 JPS6043437 B2 JP S6043437B2 JP 56069688 A JP56069688 A JP 56069688A JP 6968881 A JP6968881 A JP 6968881A JP S6043437 B2 JPS6043437 B2 JP S6043437B2
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JP
Japan
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lower alkyl
alkyl group
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acid
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JP56069688A
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滋 鳥居
秀雄 田中
潤造 野上
紀雄 斎藤
敬史 城井
三千雄 笹岡
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Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
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  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なアゼチジノン誘導体の製造法に関する。
本発明で得られるアゼチジノン誘導体は文献未載の新規
化合物であり、下記一般式〔1〕で表わされる。
−〔式中R1はアリール低級アルキル基又はアリ
ールオキシ低級アルキル基を示す。
R2はフェニル環上にニトロ基を有することのあるアリ
ール低級アルキル基、フェニル環上にニトロ基を有する
ことのあるアリールオキシ低級アルキル基又はハロゲン
原子を置換基として有することのある低級アルキル基を
示す。R3は低級アルキル基を示す。〕,本発明におい
て、R1で示されるアリール低級アルキル基としては例
えばベンジル基、2−フェニルエチル基、p−ヒドロキ
シベンジル基、p−ニトロベンジル基、p−クロルベン
ジル基等を挙げることができ、またアリールオキシ低級
アルキル基としては例えばフェノキシメチル基、2−フ
ェノキシエチル基、p−ヒドロキシフェノキシメチル基
、p−ニトロフェノキシメチル基等を挙げることができ
る。
R2で示されるフェニル環上にニトロ基を有することの
あるアリール低級アルキル基としては例えばベンジル基
、p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル基、2−フ
ェニルエチル基、2−(p−ニトロフェニル)エチル基
、3−フェニルプロピル基、3−(p−ニトロフェニル
)プロピル基等を挙げることができ、フェニル環上にニ
トロ基を有することのあるアリールオキシ低級アルキル
基としては例えばフェノキシメチル基、p−ニトロフェ
ノキシメチル基、2−フエノキシエチル基、2−(p−
ニトロフェノキシ)エチル基、3−フェノキシプロピル
基、3−(p−ニトロフェノキシ)プロピル基等を挙げ
ることができ、またハロゲン原子を置換基として有する
ことのある低級アルキル基としては例えばメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、Tert−ブチル基、2−クロロエチル基、2,2
,2−トリクロロエチル基等を挙げることができる。ま
たR3で示される低級アルキル基としては例えばメチル
基、エチル基、n)−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、Tert−ブチル基等を挙げることができ
る。上記一般式〔1〕で表わされるアゼチジノン誘導体
はペニシリン系、セフアロスポリ7系抗生物質を合成す
るための中間体として有用な化合物で夕ある。例えば下
記反応式に従い本発明の化合物から抗菌剤として有用な
セフアロスポリン系化合物〔■a〕又は〔■b〕に誘導
し得る。〔式中Rl,R汲びR3は前記に同じ。
〕本発明の方法によれば、上記一般式〔1〕で表わされ
るアゼチジノン誘導体は、一般式〔式中R4は2−ベン
ゾチアゾリル基を示す。
R1及びR2は前記に同じ。〕で表わされるアゼチジノ
ン誘導体を低級アルコールの存在下に電解処理すること
により製造される。本発明において出発原料として用い
られる一般式〔■〕の化合物は公知の化合物であり、例
えばテトラヘドロンレター3001(1973)に記載
されている方法に従い製造される。
一般式〔■〕て表わされるアゼチジノン誘導体の電解処
理は低級アルコールの存在下に必要な電気量を通電する
ことにより行なわれる。
低級アルコールとしては例えばメタノール、エタノール
、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、Te
rt−ブチルアルコール等を挙げることができる。斯か
る低級アルコールは通常溶媒として用いられるが、本発
明では低級アルコールと他の溶媒との混合溶媒を使用す
ることもできる。低級アルコールと混合して用いられる
溶媒としては例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル、プ
ロビオニトリル等のニトリル類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素類又はこれらの混合溶媒等を挙げることができる
。本発明の方法においては反応系内に支持電解質を存在
させるのが好ましい。
支持電解質としては例えば硫酸、過塩素酸、リン酸等の
鉱酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の
スルホン酸類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸等
を挙げることができる。θ 電解反応は、定電位電解及
び定電流電解のいずれでも行うことができる。
電流密度は通常1〜500rr1A/C4の範囲であり
、好ましくは5〜200mA/Cltである。反応に必
要な電気量は、基質濃度、溶媒の種類、電解槽の型状等
によつて一5定しないが、通常2〜50F′/MOlで
よい。電極としては白金、炭素、ステンレス、チタン、
ニッケル等通常使用される電極を使用することができる
。反応温度としては原料及び生成物が分解、変性しない
温度以下であれば特に限定されないが、)−30℃〜6
(代)の範囲で行われ、好ましくは−20〜30℃の範
囲である。電解槽としては、無隔膜電解槽、隔膜電解槽
共に使用することができる。本発明によれば、後記実施
例から明らかなように、目的とする一般式〔1〕で表わ
されるアゼチジノン誘導体を簡便な操作により好収率で
製造し得る。以下実施例を示して説明する。
実施例1 化合物〔■〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R4=
ベンゾチアゾリル)250.3mgをメタノール50m
1に溶解し、濃硫酸0.4m1を加える。
白金電極を装入し(4×3cri)、撹拌下0〜2℃、
騨A/dで2時間電解反応を行う。反応終了後酢酸エチ
ルで抽出し、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒を除去し、残渣
をベンゼンー酢酸エチル(3:1)の溶媒を用いてシリ
カゲルカラムで分離、精製すると、167.9m9の目
的物〔1〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R3=メ
チル)を得る。5.16(4S,.4H)、6.71(
DllH)、7.27(S,.5l−[)実施例2 化合物〔■〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R4=
ベンゾチアゾリル)50.2m9をメタノール4mt及
びトテラヒドロフラン4.5Tntに溶解し、濃硫酸0
.07mtを加える。
白金電極を装入し、−14〜−12℃、5n1A/Cl
tで1時間35分電解反応を行う。反応終了後実施例1
と同様の処理を行うと、目的物〔1〕(R1=ベンジル
、R2=メチル、R3=メチル)30.2mgを得る(
収率79%)。訳及びNMRで確認同定した。
実施例3 化合物〔■〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R4=
ベンゾチアゾリル)50.67?!9をメタノール8m
tに溶解し、濃硫酸0.07mtを加え炭素電極を装入
する。
0〜2℃、10rnA/Aiで4紛間電解反応を行う。
反応終了後実施例1と同様の処理を行うと目的物〔1〕
(R1=ベンジル、R2=メチル、R3=メチル)30
.2mgを得る(収率77%)。取及びNMRで確認同
定した。実施例4 化合物〔■〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R4=
ベンゾチアゾリル)49.5mgをメタノール8m1に
溶解し、濃硫酸0.07mt1硫酸銅42即を加える。
白金電極を装入し、0〜2℃、10rnA/C7llで
1時間1紛電解反応を行つた。電解中電流方向を(9)
秒毎に変換した。反応終了後実施例1と同様の処理を行
うと目的物〔1〕(R1=ベンジル、R2=メチル、R
3=メチル)32.07m9を得る。(収率?%)■及
びNMRで確認同定した。
適当な出発原料を用い実施例1〜4と同様にして下記第
1表記載の化合物を得る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1はアリール低級アルキル基又はアリールオ
    キシ低級アルキル基を示す。 R^2はフェニル環上にニトロ基を有することのあるア
    リール低級アルキル基、フェニル環上にニトロ基を有す
    ることのあるアリールオキシ低級アルキル基又はハロゲ
    ン原子を置換基として有することのある低級アルキル基
    を示す。R^4は2−ベンゾチアゾリル基を示す。〕で
    表わされるアゼチジノン誘導体を低級アルコールの存在
    下に電解処理して一般式▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ 〔式中R_3は低級アルキル基を示す。 R^1及びR^2は前記に同じ。〕で表わされるアゼチ
    ジノン誘導体を得ることを特徴とするアゼチジノン誘導
    体の製造法。 2 支持電解質を用いて電解処理を行なう特許請求の範
    囲第1項記載の方法。 3 支持電解質が硫酸、過塩素酸、リン酸、p−トルエ
    ンスルホン酸、メタンスルホン酸、ギ酸、酢酸及びプロ
    ピオン酸から選ばれた少なくとも1種である特許請求の
    範囲第2項記載の方法。 4 電解処理を−70〜80℃にて行なう特許請求の範
    囲第1項乃至第3項のいずれかに記載の方法。
JP56069688A 1981-04-10 1981-05-08 アゼチジノン誘導体の製造法 Expired JPS6043437B2 (ja)

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JP56069688A JPS6043437B2 (ja) 1981-05-08 1981-05-08 アゼチジノン誘導体の製造法
GB8209646A GB2099817B (en) 1981-04-10 1982-04-01 Azetidinone derivatives and process for the preparation of the same
DE19823213264 DE3213264A1 (de) 1981-04-10 1982-04-08 Neue azetidinonverbindungen und verfahren zu deren herstellung
FR8206164A FR2509300B1 (fr) 1981-04-10 1982-04-08 Derives d'azetidinone et procede pour leur preparation
US06/865,651 US4689411A (en) 1981-04-10 1986-05-15 4-thio azetidinone intermediates and process for the preparation of the same
US07/071,664 US4784734A (en) 1981-04-10 1987-07-09 Azetidinone derivatives and process for the preparation of the same
US07/166,918 US4853468A (en) 1981-04-10 1988-03-11 Process for the preparation of cephem derivatives

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