JPS6043835A - 遠心脱水乾燥装置 - Google Patents

遠心脱水乾燥装置

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Publication number
JPS6043835A
JPS6043835A JP58151940A JP15194083A JPS6043835A JP S6043835 A JPS6043835 A JP S6043835A JP 58151940 A JP58151940 A JP 58151940A JP 15194083 A JP15194083 A JP 15194083A JP S6043835 A JPS6043835 A JP S6043835A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
holding frame
supporting frame
rotating
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58151940A
Other languages
English (en)
Inventor
Iwao Ejiri
磐夫 江尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP58151940A priority Critical patent/JPS6043835A/ja
Publication of JPS6043835A publication Critical patent/JPS6043835A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0402Apparatus for fluid treatment
    • H10P72/0406Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H10P72/0408Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、洗浄処理されたカセット内の半導体ウェー
/Sを脱水乾燥させる、遠心脱水乾燥装置の改良に関す
る。
〔従来技術〕
半導体ウェーハは製造工程において、エツチングなど化
学処理後は、カセットに収納したまま純水などにより洗
浄し処理液を除去する0このカセットに収納された半導
体ウェーッ・(以下「ウェーハ」と称する)は、遠心脱
水乾燥装置にかけられ脱水乾燥される。
この種の従来の遠心脱水乾燥装置は、第1図に概要縦断
面図で示すようになっていたo(1)は多数枚のウェー
ハで、カセット(2)内に立てて並べられてあり、図で
は90°回動され水平姿勢にされ永状態を示す。(3)
は回転枠で、固定部に軸受(ともに図示は略す)を介し
支持された回転軸(4)の上部に固定されである。この
回転軸(4)は駆動電動機(5)に直結されていて、回
転枠(3)に回転を伝える。(6)は回転枠(3)内に
軸中心線を中心に180°対称に配置されだ1対宛のカ
セット保持枠(以下「保持枠」と称する)で、回転枠(
3)に支持軸(7)を介し回動自在に支持されている。
保持枠(6)は図示を略した押上げ手段による押上げに
より、実線の垂直姿勢から上方に90°回動され、鎖線
で示す開口部が上向きの水平姿勢にされる。(8)は搬
送ロボットで、チャック(9)により、前工程による洗
浄後のカセット(2)を挾持し搬送してきて、水平姿勢
の保持枠(6)内に上方から下降して載せ、あるいは、
脱水乾燥終了したカセット(2)を、水平姿勢の保持枠
(6)内から挾持して上方に取出し、次の工程へ搬送す
る。
上記カセット保持枠(6)を第2図に斜視図で示す。
水平姿勢の保持枠(6)内にカセット(2)を収容した
状態を、第3図に示す。
上記従来装置において、前工程で洗浄処理されたウェー
ハ(1)を収納したカセット(2)が上方から下降され
、水平姿勢の保持枠(6)内に載置される0つづいて、
押上げ手段による引込みにより、水平姿勢の保持枠(6
)は下方に回動し、垂直姿勢に復帰する。この状態で駆
動電動機を始動し、回転枠(3)を高速回転する。カセ
ット(2)内の各ウェーッ1(1)の脱水乾燥が終れば
、回転枠(3)の回転を停止し、保持枠(6)を上方に
回動し水平姿勢にし、カセット(2)を上方に取出す0 上記従来装置では、搬送ロボット(8)によりカセット
(2)を保持枠(6)に収容するのに、カセット(2)
の内部に挿入できなく、支障をきたしていた。
〔発明の概要〕
この発明は、カセット保持枠の開口部の四辺の端部に外
方に折曲げ傾斜した案内部を設け、搬送ロボットによる
保持枠への下降位置がずれていても、案内部による案内
で容易に収容できる遠心脱水乾燥装置を提供することを
目的としている。
〔発明の実施例〕
第4図はこの発明の一実施例による遠心脱水乾燥装置の
保持枠の斜視図であり、この保持枠の他の部品の構成は
上記第1図の従来装置と同一であり、説明は略する0保
持枠(ロ)の開口部の四辺の端部(lla)には、外方
に折曲げ傾斜した案内部(2)を設けである。
上記−実施例の装置において、搬送ロボット(8)(第
1図参照)のチャック(9)に挾持されたカセット(2
)が、水平姿勢の保持枠αつ上方に至シ、位置が多少・
ずれていても、カセット(2)は開口部端部(Ha)の
案内部U!に沿って下降し、保持枠αυ内に案内されて
収容される0 〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば1、カセット保持枠の
開口部の四辺の端部に、外方に折曲げ傾斜した案内部を
設けだので、搬送ロボットによるカセットが水平姿勢保
持枠の上方に至シ、対応する双方の位置が多少ずれてい
ても、下降するカセットが案内部に沿−って容易に保持
枠内に案内されて収容される。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の遠心脱水乾燥装置の概要縦断面図、第2
図は第1図のカセット保持枠の斜視図、第3図は第2図
のカセット保持枠内にカセットを収納した状態を示す斜
視図、第4図はこの発明の一実施例による遠心脱水乾燥
装置のカセット保持枠の斜視図である。 1・・・半導体ウェーハ、2・・・カセット、3・・・
回転枠、4・・・回転軸、5・・・駆動電動機、8・・
・搬送ロボット、9・・・チャック、U・・・カセット
保持枠、11a・・・開口部の端部、12・・・案内部
なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す0代理人
 大 岩 増 大j。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 駆動電動機によ多回転される回転軸の上部に固定された
    回転枠と、この回転枠内に90°回動可能に支持され、
    上方に回動され開口部が上向きの水平姿勢にされ、半導
    体ウェーハを収納したカセットが上方から収容され、又
    は収容されであるカセットが上方に取出されるようにさ
    れた複数のカセット保持枠とを有し、上記カセットを収
    容した保持枠が下方に90°回動され、上記開口部が軸
    中心向きの垂直姿勢にされ、上記回転枠を回転し上記半
    導体ウェーハを脱水乾燥する装置において、上記カセッ
    ト保持枠の開口部の四辺の端部に1外方に折曲げ斜傾し
    た案内部を設け、上方から下降された上記カセットがこ
    の案内部に沿って内部に導かれるようにしたことを特徴
    とする遠心脱水乾燥装置。
JP58151940A 1983-08-20 1983-08-20 遠心脱水乾燥装置 Pending JPS6043835A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58151940A JPS6043835A (ja) 1983-08-20 1983-08-20 遠心脱水乾燥装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58151940A JPS6043835A (ja) 1983-08-20 1983-08-20 遠心脱水乾燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6043835A true JPS6043835A (ja) 1985-03-08

Family

ID=15529528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58151940A Pending JPS6043835A (ja) 1983-08-20 1983-08-20 遠心脱水乾燥装置

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Country Link
JP (1) JPS6043835A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6329936U (ja) * 1986-08-13 1988-02-27
JPH0285688A (ja) * 1988-06-27 1990-03-27 Matsushita Refrig Co Ltd フィンアンドチューブ型熱交換器用水切装置
KR20200096844A (ko) * 2018-01-30 2020-08-13 에이엠에스 아게 광 감지 방법

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JPH0285688A (ja) * 1988-06-27 1990-03-27 Matsushita Refrig Co Ltd フィンアンドチューブ型熱交換器用水切装置
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