JPS6045171B2 - α−(置換アリ−ル)プロピオン酸化合物の製造法 - Google Patents

α−(置換アリ−ル)プロピオン酸化合物の製造法

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JPS6045171B2
JPS6045171B2 JP9152376A JP9152376A JPS6045171B2 JP S6045171 B2 JPS6045171 B2 JP S6045171B2 JP 9152376 A JP9152376 A JP 9152376A JP 9152376 A JP9152376 A JP 9152376A JP S6045171 B2 JPS6045171 B2 JP S6045171B2
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JP
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substituted aryl
alcohol
mol
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propionic acid
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JP9152376A
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真 武田
政之 内出
寛 岩根
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔I〕 発明の背景 本発明は、抗炎症、鎮痛及び解熱作用を有するα一(置
換アリール)プロピオン酸及びその前駆体であるα−(
置換アリール)プロピオン酸エステルの製造法に関する
ものである。
本発明はこの化合物は、「置換アリール」の置換基の種
類によつて各種のものがありまた置換基に着目して命名
されている。
従来、これらの化合物の合成法としては種々の方法が提
案されている。たとえば、フェノプロフェン〔α−(m
−フェノキシフェニル)プロピオン酸〕の合成法として
は仏国特許第2015728号、特開昭51−4136
号、特開昭51−16636号および特開昭51−23
235号による方法、ケトプロフェン〔α一(m−ベン
ゾイルフェニル)プロピオン酸〕の合成法としては特公
昭45−19287号、特公昭47−7024号、仏国
特許2163875号、特公昭48−37028号およ
び特開昭51−16636号による方法、フルルパイプ
ロフエン〔α一(2−フルオロー4−ビフエニリル)プ
ロピオン酸]の合成法しては特公昭44−25076号
、特公昭45−283印号、独国特許第2241913
号、仏国特許第15452m号、特開昭51−4136
号および特開昭51一16636号による方法、が知ら
れている。いずれも工程数が多くて繁雑な方法が多いが
、,比較的工程数の少い例としては以下のような方法が
あげられる。(1)α−(置換アリール)プロビオニト
リルを加水分解する方法(2)α−(置換アリール)ア
クリル酸を還元する冫方法(3)α−(置換アリール)
プロピオンアルデヒドまたは、β−メチルーβ−(置換
アリール)ピルビン酸を酸化する方法。
しかし、これらの方法においてもなお原料の合5成が容
易であるとはいい難く、また(3)の場合は酸化反応の
程度により種々の副生物が生成する懸念がある。
このような点に鑑み、本発明者らはイブプロフエンとし
て知られているα−(4−イソブチルフ3エニル)プロ
ピオン酸の製造法として、4−イソブチルスチレンを水
またはアルコールの存在下に一酸化炭素と反応させてカ
ルボニル化する方法を、先に提案した特願昭50−12
7787号)。
〔旧 発明の概要 4f1要
旨本発明はこれら公知の方法の欠点に解決を与えること
を目的とし、置換アリールエチレンを一酸化炭素でカル
ボニル化することによつてこの目的を達成しようとする
ものである。
1〜一■1′1五一ーーー
(ノ1工3従つて、本発明による一般式 1で表わされ
るα−(置換アリール)プロピオン酸またはそのエステ
ル類の製造法は、一般式R1−CH=C2で表わされる
置換アリールエチレンをパラジウム系触媒を用いて低級
アルコールまたは水の存在下で一酸化炭素と反応させる
ことを、特徴とするものである。
(ここでR1は 〉または )であり、R゜は水素または低級ア
ルキル基を示す)。
また、本発明の一実施態様によれば、上記方法に使用さ
れる置換アリールエチレンは、一般S.↓”↓”2で表
わされるα−またはβ−置換アリールエチルアルコール
あるいはα一またiまβ一置換アリールエチルハライド
を脱水または悦ハロゲン化水素することによつて製造さ
れる〔ここで、R1は前記と同じ意味を表わし、X及び
Yは一方は水素を他方は水酸基あるいはハロゲン京子を
表わす)。
2効果 本発明の好ましい実施態様によれば、α−またはβ−(
置換アリール)エチルアルコールあるいはα−またはβ
−(置換アリール)エチルハライドを出発物質として使
用し、脱水または脱ハロゲン化水素工程、次いでカルボ
ニル化工程を行なうことによりα−(置換アリール)プ
ロピオン酸を合成する。
従来法に比較して一般に合成しやすい原料を使用し、工
程数が極めて少なく、取扱う化合物が単純で安定な化合
物であるため副生成物が少なく、また操作も容易である
。
〔■〕 発明の詳細な説明 1 フローシート 本発明の方法を置換アリールエチルアルコールまたはハ
ライドから出発する場合について反応式で表わすと下記
の通りである。
1廿?■ 〔式中R1、R2、X..Yは先に示したと同じであ.
る〕2置換アリールエチルアルコールまたはハライド置
換アリールエチレンを合成する出発物質として適した一
般式(1)て表わされる化合物とはα−(置換アリール
)エチルアルコール、β一(置換アリール)エチルアル
コール、α一(置換アリール)エチルハライド及びβ−
(置換アリール)エチルハライドであり、X及びYのハ
ロゲン原子とは塩素、臭素及び沃素である。
これら一般式(1)で表わされる化合物は一般的なアラ
ルキルアルコール及びアラルキルハライドの製造法と同
様にして容易に製造することができる。
即ち、α−(置換アリール)エチルアルコールは例えば
置換アリールメチルケトンの還元によりあるいは対応す
る置換アリールマグネシウムブロマイドとバラアルデヒ
ドとの反応により、β−(置換アリール)エチルアルコ
ールは例えば置換アリール酢酸またはそのエステルの還
元により、あるいは対応する置換芳香族化合物をエチレ
ンオキシドとフリーデルクラフツ反応させてβ−ヒドロ
キシエチル化することにより製造される。
α一あるいはβ−(置換アリール)エチルハライドは対
応するアルコールをハロゲン化剤によりハロゲン化した
り、対応する置換アリールエタンをハロゲン化剤でハロ
ゲン化したり、あるいは対応する置換芳香族化合物をバ
ラアルデヒドと塩化水素によりクロルエチル化すること
により製造される。
本発明で使用するのに適したα一又はβ(置換アリール
)エチルアルコールまたはハライドの具体例は、R1が
前記の特定のものであるところから明らかであろう(ハ
ライドの場合のハロゲンの具体例は、塩素および臭素で
ある)。
3脱水または脱ハロゲン化水素工程 一般式(1)の化合物の脱水あるいは脱ハロゲン化水素
により置換アリールエチレン(■)を得る工程は、公知
のアリールエチルアルコールの脱水及びアリールエチル
ハライドの脱ハロゲン化水素の方法に準じて行うことが
できる。
以下に具体例にその方法のいくつかを説明する。これら
の反応は収率よく進行し、副生物が少ないうえ生成物で
ある置換アリールエチレンは安定な化合物であるので、
単蒸留程度の精製のみで充分純度の高い置換アリールエ
チレンを得ることができて、次のカルボニル化工程の原
料とすることができる。
(1)α−あるいはβ一(置換アリール)エチルアルコ
ールの脱水(a)常圧液相加熱 該アルコール1モルに対して、ジメチル スルホキシド1〜20モル、好ましくは3〜10モルを
使用し、重合禁止剤を該アルコールの0.1〜30重量
%、好ましくは1〜15重量%存在させ、100〜25
0゜C1好ましくは130〜190℃に加熱する。
使用される重合禁止剤としては、例えば ハイドロキノン、mージニトロベンゼン、N−ニトロソ
ジフェニルアミン、ピクリン酸、亜硫酸ナトリウム等を
挙げることができる。
(b)減圧液相加熱 脱水促進剤として硫酸化合物を存在させ るのがふつうである。
硫酸化合物としては、硫酸水素ナトリウ ム、硫酸水素カリウム、ピロ硫酸カリウム等が使用され
る。
重合禁止剤は上記(a)法に述べたと同様のものが使用
される。
反応は該アルコールに対して重量で硫酸 化合物を0.01〜10%、好ましくは0.1〜5%及
び重合禁止剤0.1〜30%、好ましくは1〜15%を
加え、10〜60『Hgl好ましくは20〜400T!
RlnHgの減圧下、100〜280℃、好ましくは1
95〜250℃に加熱して行なう。
(C)気相加熱気相で、脱水作用を示す活性アルミナあ るいは苛性アルカリに加熱下に接触させ る。
活性アルミナあるいは苛性アルカリ例え ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの層を加熱し、そ
こへ該アルコールを減圧下、あるいは窒素または炭酸ガ
スの希釈ガスの存在下、あるいはベンゼン、トルエン等
の!揮発性溶媒と共に通じる。
活性アルミナの場合、10〜600mHg1好ましくは
20〜4007mHgの減圧下、あるいは窒素または炭
酸ガスの希釈ガスを該アルコール1モルに対し1−40
モル、好ましくはI5−20モルの存在下、あるいは該
アルコールが固体の場合はベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジオキサン等の揮発性溶媒を該アルコール1モルに
対し0.01モルー10モル、好ましくは0.1−5モ
ルの存在下、120〜400℃、好ましくは150〜3
50℃に加熱するのが適当である。
苛性アルカリの場合は、2〜200T!RmHg好まし
くは5〜10hHgの減圧下、あるいは窒素または炭酸
ガスの希釈ガスを該アルコール1モルに対し1−40モ
ル、好ましくは5−20モルの存在下、あるいは該アル
コールが固体の場合はベンゼン、トルエン、キシレン、
ジオキサン等の揮発性溶媒を該アルコール1モルに対し 0.01モルー10モル、好ましくは0.1−5モルの
存在下、100〜250℃、好ましくは120〜200
℃に加熱するのが適当である。
(2)α−あるいはβ−(置換アリール)エチルハライ
ドの脱ハロゲン化水素(a)塩基と共に加熱 使用される塩基としては、例えばピリジン、キノリン
、ピペリジン、ピペラジン、アニリン、N−N−ジメチ
ルアニリン等の有機塩基あるいは水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応は、該ハライド1モルに対して、塩基を0.8〜
30モル、好まくは1〜15モルを加え、0〜260℃
、好ましくは20〜220℃で加熱する。
(b)アミン塩酸塩と共に減圧下加熱 使用されるアミ
ン塩酸塩は第二級及び第三級アミンの塩酸塩であり、例
えばジアミルアミン塩酸塩、トリアミルアミン塩酸 塩、ジヘキシルアミン塩酸塩、トリヘキシルアミン塩酸
塩等を挙げることができる。
反応は、該ハライドを、20〜760mHg1好まし
くは50〜20『Hgの減圧下、あるいは窒素または炭
酸ガスの希釈ガスを該ハライド1モルに対し、1−40
モル、好ましくくは5−20モルの存在下、あるいは該
ハライドが固体の場合はベンゼン、トルエン、キシレン
、ジオキサン等の揮発性溶媒を該ハライド1モルに対し
0.01モルー10モル、好ましくは0.1−5モルの
存在下で、150〜300℃、好ましくは170〜27
0℃に加熱した溶融状態のアミン塩酸塩に通じることに
より、気相で行われる。
置換アリールエチン このようにして得られる置換アリールエチレンは、前記
一般式(■)で表わされる化合物である。
その具体例のいくつかを示せば、下表の通りである。
文献名の記載が無いものは、新規と信じられる化合物で
ある。なお、この表には、この置換アリールエチレンを
カルボニル化することによつて得られるα一(置換アリ
ール)プロピオン酸の名称も示してある。5 カルボニ
ル化工程 (1)原料及び反応条件 置換アリールエチレンをカルボニル化してα(置換アリ
ール)プロピオン酸エステル(■)あるいはα−(置換
アリール)プロピオン酸(■)を製造する工程は、置換
アリールエチレンをパラジウム系触媒の存在下にアルコ
ールあるいは水と一酸化炭素と反応せることにより行な
われる。
使用されるパラジウム系触媒としてはパラジウム錯体が
適当であつてパラジウムがO価から2価のものでハロゲ
ン族原子、3価のリン化合物、π−アリル基、アミン、
ニトリル、オキシム、オレフィンあるいは一酸化炭素等
を配位子として含有しているものが有効である。
具体例としてはビストリフエニルホスフィンジクロロパ
ラジウム、ビストリブチルホスフィンジクロロパラジウ
ム、ビストリシクロヘキシルホスフインジクロロパラジ
ウム、1′−アリルトリフェニルホスフィンクロロパラ
ジウム、トリフェニルホスフィンピペリジンジクロロパ
ラジウム、ビスベンゾニトリルジクロロパラジウム、ビ
スシクロヘキシルオキシムジクロロパラジウム、1・5
・9ーシクロドデカトリエンージクロロパラジウム、ビ
ストリフエニルホスフインジカルボニlルパラジウム、
ビストリフェニルホスフィンパラジウムアセテート、ビ
ストリフエニルホスフインパラジウムジナイトレート、
ビストリフェニルホスフィンパラジウムサルフェート、
テトラキストリフエニルホスフインパラジウム等を挙げ
ることができる。また、反応系に於て上記のパラジウム
錯体を形成しうる化合物を用いることもできる。
即ち、パラジウム塩例えば酸化パラジウム、硫酸パラジ
ウム、塩化パラジウムと配位子となりうる化合物即ちホ
スフィン、ニトリル、アリル化合物、アミン、オキシム
、オレフィンあるいは一酸化炭素等を同時に反応系に存
在させる方法である。ホスフィンとしては、例えばトリ
フェニルホスフィン、トリトリルンホスフイン、トリブ
チルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ
エチルホスフィン等、トリルとしては例えばベンゾニト
リル、アクリロニトリル、プロビオニトリル、ベンジル
ニトリル、アリル化合物としては例!えばアリルクロラ
イド、アリルアルコール等、アミンとしては例えばベン
ジルアミン、ピリジン、ピペラジン、トリーn−ブチル
アミン等、オキシムとしてはシクヘキシルオキシム、ア
セトオキシム、ベンズアルドオキシム等、オレフィンと
しては1・5−シクロオクタジエン、1・5●9−シク
ロドデカトリエン等が挙げられる。
使用されるアルコール炭素数1〜4程度の低級脂肪族ア
ルコールであり、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール等が挙げられる。
本反応の副反応を抑制するためまたパラジウム触媒の寿
命を保つため、更に反応速度を向上させる目的で、塩化
水素、三弗化ホウ素等を添加することができる。
パラジウム錯体及びパラジウム化合物の使用量は、置換
アリールエチレン1モルに対して0.0001〜0.5
モル、好ましくは0.001〜0.1モル、またパラジ
ウム化合物を使用する場合の配位子となりうる化合物の
添加量はパラジウム化合物1モルに対して0.8〜10
モル、好ましくは1〜5モルである。
アルコール及び水は反応原料と共に溶媒としての働きも
なし、その使用量は、置換アリールエチレンに対し重量
で0.5〜5娼、好ましくは1〜2娼である。
なお、アルコール及び水を主として反応原料と考え、溶
媒機能を他の溶媒に担わせることもできる。すなわち、
アルコールまたは水あるいはこれと混和性の有機溶媒(
たとえばベンゼン、トルエン、ヘキサン)との混合物を
使用することができる。
必要に応じて使用する塩化水素の量は、アルコールある
いは水に対して重量で1〜20%、好ましくは2〜15
%が適当である。
三弗化ホウ素は、パラジウム錯体及びパラジウム化合物
に対し、0.8〜1皓モル、好ましくは1〜7倍モルが
適当である。カルボニル化のための一酸化炭素の量は置
換アリールエチレンに対して過剰量あれば良く、反応器
の大きさ及びその形態によつても異るものである。
2)カルボニル化操作 カルボニル化反応は、以下の要領で行われる。
(1)アルコールを使用する場合 塩化水素を添加する場合は、反応温度40〜150′C
1好ましくは60〜140℃で、一酸化炭素圧100〜
8(4)気圧、好ましくは100〜600気圧で行うの
が適当である。
三フッ化ホウ素を添加する場合は、反応温度40〜12
0゜C1好ましくは50〜100℃、一酸化炭素圧10
〜1(イ)気圧、好ましくは20〜1叩気圧で行うのが
適当である。
(2)水を使用する場合三フッ化ホウ素は水と接触する
と分解す るので、塩化水素添加の方が好ましく、反応条件(1)
の塩化水素を使用する場合と同様である。
上記(1)の方法によりエステル(■)が、(2)の方
法により酸(■)が得られる。また、アルコールと水と
の混合物を用いるとエステルと酸の混合物が得られる。
前工程すなわち脱水または脱ハロゲン化 水素工程で得られた純度の高い置換アリールエチレンを
供して行なう上記カルボニル化反応も定量的に進行し、
α−(置換アリール)プロピオン酸エステルあるいはα
−(置換アリール)プロピオン酸が選択率よく、高純度
で得られる。
また該エステルは安定な物質であるので単蒸留あるいは
再結晶等で容易に精製することができる。
(3)生成物の変換 アルコール中でカルボニル化することに より得られたα一(置換アリール)プロピオン酸エステ
ルは、通常のエステルの加水分解法により容易に最終目
的物のα一(置5換アリール)プロピオン酸とすること
ができる。
即ち、例えは水酸化ナトリウム水溶液と還流させ、酸性
化して析出した酸を分離し、n−ヘキサン、石油エーテ
ル等で再 結晶する。
得られるα−(置換アリール) プロピオン酸は極めて
高純度のものとな る。
実施例1〜5 (1)2−フルオロー4−ビニルビフェニル3.59、
10%塩酸水溶液20m1、ビストリフェニルホスフィ
ンジクロロパラジウム0.2f1ベンゼン20m1およ
び重合禁止剤としてN−ニトロソジフェニルアミン3T
119を内容積100m1のオートクレーブに入れ、室
温で一酸化炭素を150k91c1tに圧入し、120
℃で一酸化炭素の吸収がみられなくなるまで反応させた
。
室温に冷却後、ベンゼン層を分離し、20%NaOH水
溶液で抽出し、ついで抽出液を塩酸酸性とし、析出した
固体をエーテル抽出した。エーテル層を水洗後、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、エーテルを減圧留去してから、残
渣をヘキサン−トルエンから再結晶して、α−(2−フ
ルオロー4−ビフエニリル)プロピオン酸3.5yを得
た。収率81モル%、融点110−111ニC(2)表
−2に示した化合物、一酸化炭素圧、反応温度以外は実
施例1と同様にして、反応を行なつた。
結果は、表−1に示す通りであつた。参考例1(1)反
応系内にリチウムアルミニウムハイドライド0.47y
と無水エーテル50mtを仕込み、無水エーテル150
m1に溶解した、4−アセチルー3″−フルオロビフェ
ニル7.0yを穏やかな還流が続行する様な速度で滴下
した。
滴下終了後、1時間温浴上で還流し、冷却後反応系に水
30m1を滴下して、更に2%硫酸5m1を滴下した。
エーテル層を分離して水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し
た。エーテルを減圧留去し、析出した固体をヘキサンか
ら再結晶して、α−(3″−フルオロー4−ビフエニリ
ル)エチルアルコール6.1yを得た。これは、文献末
記載の新規化合物である。収率84モル%、融点62−
62.5合C核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δ(
Ppm)1.67(3H..d)、2.63(1H.s
s)、4.92(1H..q)、6.76−7.88(
8H..m)(2)α−(3″−フルオロー4−ビフエ
ニリル)エチルアルコール5.0yと重合禁止剤として
N−ニトロソジフェニルアミン20mgをジメチルスル
ホキサイド50m1に溶解し、150℃で16時間反応
させた。
冷却後酢酸エチル30m1を加え、300m1の水で洗
浄することにより、ジメチルスルホキサイドを除いてか
ら酢酸エチル層を分離した。酢酸エチル層を硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去し、残渣を
カラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン/ベンゼ
ン(1:1)溶出部から3″−フルオロー4−ビニルビ
フェニル3.3yを得た。収率72モル%、融点81−
81.5ロC核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δP
pm5.28(1H..dd)、5.77(1H..d
d)、6.78(1H.sdd)、6.91−7.82
(8HNm)参考例2(1)2−フルオロー4−エチル
ービフェニル10f!を四塩化炭素750m1に溶解し
N−ブロモコハク酸イミド10y10.1yの過酸化ベ
ンゾイルを加え1.5時間加熱還流した。
冷却後、固形物を戸別し、戸液〔α−(2−フルオロー
4−ビフエニリル)エチルブロマイドを含有〕から、四
塩化炭素を留去した。残渣をエチルアルコール500m
1に溶解し、水酸化カリウム17yを加え1時間加熱還
流した。冷却後反応混合物を2.5リットルの水にあけ
ベンゼンにて抽出した後ベンゼン層を水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。ベンゼンを減圧留去し、残渣をカ
ラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン溶出部から
、2−フルオロー4−ビニルビフェニル5.5yを得た
。 収率56モル%、屈折率n?.51.6119核磁
気共鳴スペクトル(CCl4)δPpm5.29(1H
..dd) 5.73(1HNdd)、6.72(1H
,.dd)、7.07−7.70(8FI,.m)参考
例3α−(3−フェノキシフェニル)エチルアルコール
7.0yと重合禁止剤としてmージニトロベンゼン0.
5yをジメチルスルホキシド250mtに溶解し、16
0℃で1時間反応させた。
冷却後、ジクロロメタン250m1を加え、660m1
の水で洗浄しジメチルスルホキサイドを除いてからジク
ロロメタン層を分離した。ジクロロメタン層を硫酸マグ
ネシウムで乾燥してから、ジクロロメタンを減圧留去″
し、残渣をカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサ
ン溶出部から3−フェノキシスチレン4.75yを得た
。収率75%、NNl.598O 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δPpm5.26
(1H..dd)、5.72(1H,.dd)、6.6
7(1H1dd)、6.75−7.52(9H,.m)
参考例4α−(2・2″−ジフルオロー4−ビフエニリ
ル)エチルアルコール52yと重合禁止剤としてキンヒ
ドロン10mgをジメチルスルホキシド100m1に溶
解し、170℃で1時間反応させた。
冷却後、酢酸エチル50m1を加え、400m1の水で
洗浄し、ジメチルスルホキシドを除いてから酢酸メチル
層を分離した。酢酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥
してから、酢酸エチルを減圧留去し、残渣をカラムクロ
マトグラフィーに付した。ヘキサン溶出部から、2●2
″−ジフルオロー4−ビニルビフェニル3.3yを得た
。収率90モル% 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δPpml.47
(3H.,dd)、2・80(1H..s)、4.90
(1H..q)、6.90−7.60(7H,,m)参
考例53−エチルベンゾフェノン15yを四塩化炭素5
00m1に溶解し、N−ブロモコハク酸イミド15yと
0.1yの過酸化ベンゾイルを加えて、1時間加熱還流
した。
冷却後、固型物を沖別し、戸液から四塩化炭素を留去し
て、粗α−(3−ベンゾイルフェニル)エチルブロマイ
ドを得た。これをエチルアルコール500m1に溶解し
、水酸化カリウム20yを加えて、1時間加熱還流した
。冷却後、反応混合物を2リットルの水にあけ、ベンゼ
ンにて抽出した後、ベンゼン層を水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。ベンゼンを減圧留去し、残渣をカラム
クロマトグラフィーに付した。ヘキサン溶出部から、3
−ビニルベンゾフェノン10.4yを得た。収率70モ
ル%、屈折率n?=1.6174核磁気共鳴スペクトル
(CDCl3)δPpm5.3l(1H..dd)、5
.78(1H1dd)、6.79(1H1dd)、7.
36−8.01(9H,.m)実施例6(1)α−2−
フルオロー4−ビフエニリル)エチルアルコール200
ダを5%含水ジオキサン600mL;に溶解し、300
℃に加熱した30mtのアルミナ層にこの溶液を1時間
当り150mtの割合で毎分710m1の窒素と共に流
す。
出口部を冷却し、得られた液を濃縮して、粗2−フルオ
ロー4−ビニルビフェニル182yを得た。(2)2−
フルオロー4−ビニルビフェニル182y12%塩酸水
溶液43.0y1ビストリフェニルホスフィンジクロロ
パラジウム0.9y1トリフェニルホスフィン0.8f
及びジオキサン640m1を内容積2リットルのオート
クレーブに入れ、冷.時一酸化炭素を150k91cI
tに圧入し、加熱して110℃に達した後、一酸化炭素
を更に200kgIcItになるまで圧入し、一酸化炭
素の吸収が見られなくなるまで反応させた。
冷却後、反応液を10%水酸化ナトリウム水溶液400
mLに注ぎ、不溶物をクロロホルムで洗浄した後、水層
を塩酸酸性とし、エーテル抽出した。エーテル層を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、エーテルを減圧留
去し、得られた粗結晶をヘキサン−トルエンから再結晶
し、α−(2−フルオロー4−ビフェニル)プロピオン
酸233V得た。収率85モル%、M.p.llO−1
11。Cこ施例7)3−ビニルベンゾフェノン5.0f
1イソプロピルアルコール5.0y1ビストリフェニル
ホスフィンジクロロパラジウム0.04y及びトルエン
20m1を内容積100m1のオートクレーブに入れ、
冷時一酸化炭素を150k9ノdに圧入し、加熱して1
10℃に達した後、一酸化炭素を更に200kg1cI
tになるまで圧入し、一酸化炭素の吸収が見られなくな
るまで反応させた。
冷却後、反応液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、蒸留して、沸点169−170でC/0.1Twt
Hgのα−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸イ
ソプロピルエステル6.4qを得た。収率90モル% 2)α−(3−ベンゾイルフェニル)プロピオン酸イソ
プロピルエステル6.4Vを2yの水酸化ナトリウムの
溶解した水8mtとイソプロピルアルコール50mtの
混合物と共に3時間加熱還流した。
冷却後、反応液を大量の水に注ぎ、不溶物をエーテル抽
出して除き、水層を塩酸酸性とし、エーテル抽出した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式R^1−CH=CH_2で表わされる置換ア
    リールエチレンをパラジウム系触媒を用いて低級アルコ
    ールまたは水の存在下で一酸化炭素と反応させてカルボ
    ニル化することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるα−(置換アリール)プロピオン酸化合物
    の製造法(式中、R^1は▲数式、化学式、表等があり
    ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
    化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表等があり
    ます▼または▲数式、化学式、表等があります▼であり
    、R^2は水素または低級アルキル基を表わす)。
JP9152376A 1975-10-23 1976-07-31 α−(置換アリ−ル)プロピオン酸化合物の製造法 Expired JPS6045171B2 (ja)

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FR7632143A FR2328689A1 (fr) 1975-10-23 1976-10-25 Procede de preparation d'acides a-arylpropioniques substitues sur le noyau
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