JPS6045559A - β−ラクタム化合物およびその製造法 - Google Patents
β−ラクタム化合物およびその製造法Info
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- JPS6045559A JPS6045559A JP58152700A JP15270083A JPS6045559A JP S6045559 A JPS6045559 A JP S6045559A JP 58152700 A JP58152700 A JP 58152700A JP 15270083 A JP15270083 A JP 15270083A JP S6045559 A JPS6045559 A JP S6045559A
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- Japan
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- group
- compound
- hydrogen atom
- alkyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
〔式中、Ｒ１は、水素原子またはアミドＮＨ基の保護基
もしくは置換基を Ｒ２は、水素原子または水酸基の保
霞基を Ｒ３は、水素原子、アルキル基捷たはアリール
基を Ｒ４およびＲ５は、同一または異なる水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、芳香族複素環
チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルチオカルボニル基・アシルオキシ
基、アシルチオ基、アミノ基、アミド基、ハロゲン原子
、カルボキシ基、シアノ基またはニトロ基を示す。〕を
有する化合物および製造法、 並びに、化合物（Ｖ）を加水分解してカル・ぐベネム訪
導体合成の重要中間体である一般式 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ５は、前述したものと同意
義を Ｒ８は、前述したＲ４またはＲ５と同意義を、Ｙ
は、酸素または硫黄原子を示す。〕を有する化合物へ導
く製造法に関するものである。
もしくは置換基を Ｒ２は、水素原子または水酸基の保
霞基を Ｒ３は、水素原子、アルキル基捷たはアリール
基を Ｒ４およびＲ５は、同一または異なる水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、芳香族複素環
チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルチオカルボニル基・アシルオキシ
基、アシルチオ基、アミノ基、アミド基、ハロゲン原子
、カルボキシ基、シアノ基またはニトロ基を示す。〕を
有する化合物および製造法、 並びに、化合物（Ｖ）を加水分解してカル・ぐベネム訪
導体合成の重要中間体である一般式 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ５は、前述したものと同意
義を Ｒ８は、前述したＲ４またはＲ５と同意義を、Ｙ
は、酸素または硫黄原子を示す。〕を有する化合物へ導
く製造法に関するものである。
一般式（財）を有する化合物は、一般式（１）’に有す
る化合物に、一般式（ｎ）または（１１０を有する化合
物（Ｒ’）２がＣＨＲ’Ｒ５（ＩＩ） または を塩基で処理した後に反応させることにょシ、一般式（
Ｍを有する化合物が得られる。
る化合物に、一般式（ｎ）または（１１０を有する化合
物（Ｒ’）２がＣＨＲ’Ｒ５（ＩＩ） または を塩基で処理した後に反応させることにょシ、一般式（
Ｍを有する化合物が得られる。
０Ｒ２Ｒ５
一般式（１）および頓におけるＲ１は、水素原子または
アミドＮＨの保護基もしくは置換基であシ、たとえばア
リール基〔フェニル、４−メトキシフェニル、３，４−
ジメトキシフェニルまたは２゜４−ジメトキシフェニル
基など〕、アラルキル基〔ヘンノル、４−メトキシベン
ジル、３．４−ジメトキシベンジル、２．４−ソメトキ
シペンジ中、Ｒ９は、一般的に用いられるカルボキシ基
の保護基を示す。たとえばアルキル基（メチル〜エチル
、プロピルまたはｊｅｒｔ−グチル基など）。
アミドＮＨの保護基もしくは置換基であシ、たとえばア
リール基〔フェニル、４−メトキシフェニル、３，４−
ジメトキシフェニルまたは２゜４−ジメトキシフェニル
基など〕、アラルキル基〔ヘンノル、４−メトキシベン
ジル、３．４−ジメトキシベンジル、２．４−ソメトキ
シペンジ中、Ｒ９は、一般的に用いられるカルボキシ基
の保護基を示す。たとえばアルキル基（メチル〜エチル
、プロピルまたはｊｅｒｔ−グチル基など）。
アラルキル基（ベンジル、ジフェニルメチル、４−ニト
ロへ／ゾル、マたは２−ニトロベンジル基など）、アル
ケニル基（アリル、２−クロルアリルまたは２−メチル
アリル基など）、ハロゲン化アルキル基（２，２，２−
） ！Ｊジクロルチルまたは２，２．２− ）リブロム
エチル基など）または２−（トリメチルシリル）エチル
基などでたものと同意義を示す。〕、−ｃＨ２ｃｏ２Ｒ
９基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示す。〕。
ロへ／ゾル、マたは２−ニトロベンジル基など）、アル
ケニル基（アリル、２−クロルアリルまたは２−メチル
アリル基など）、ハロゲン化アルキル基（２，２，２−
） ！Ｊジクロルチルまたは２，２．２− ）リブロム
エチル基など）または２−（トリメチルシリル）エチル
基などでたものと同意義を示す。〕、−ｃＨ２ｃｏ２Ｒ
９基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示す。〕。
エーテル基〔メトキシ、ベンジルオキシ基またはｔｅｒ
ｔ−ブトキシ基など〕、シリル基〔トリメチルシリル、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル基など〕またはへロｒン原子〔塩素
または臭累原子〕などである。一般式〇）および（財）
における、Ｒ２は、水素原子または水酸基の保護基〔ア
ルキル基（メチル、エチル、プロピルまたはインプロピ
ル基など）。
ｔ−ブトキシ基など〕、シリル基〔トリメチルシリル、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル基など〕またはへロｒン原子〔塩素
または臭累原子〕などである。一般式〇）および（財）
における、Ｒ２は、水素原子または水酸基の保護基〔ア
ルキル基（メチル、エチル、プロピルまたはインプロピ
ル基など）。
シリル基（トリメチルシリル、トリエチルシリル・ ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−プチルノフ
ェニルシリルまたはトリエチルシリル基など）、アシル
基（ホルミル、アセチル、クロルアセチル、トリフルオ
ルアセチル、プロピオニル、ブチリルまたはベンゾイル
基など）。
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−プチルノフ
ェニルシリルまたはトリエチルシリル基など）、アシル
基（ホルミル、アセチル、クロルアセチル、トリフルオ
ルアセチル、プロピオニル、ブチリルまたはベンゾイル
基など）。
アラルキル基（ベンジル、４−ニトロベンジル、２−ニ
トロベンジルまたは４−メトキシベンジル基なト）、ア
ルコキシカルがニル基（ベンジルオキシカルボニル、４
−ブロムペンジルオキシカルがニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルビニル、２−ニトロベンジルオキシカルビ
ニル、Ｒ２，２−） ！ｊジクロルトキシカルビニル、
アリルオキシカルボニル、２−クロルアリルオキシカル
ぎニル、２−メチルアリルオキシカルボニル、ｔ〜ブト
キシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニル、
２−（）リメチルシリル）エトキシカルボニル基など）
またはエーテル基（テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チル、１−エトキシエチルまたは２−（トリメチルシリ
ル）エトキシメチル基など〕である。一般式（１）およ
び勤におけるＲ５は、水素原子、アルキル基〔メチル、
エチルまたはプロピル基など〕またはアリール基〔フェ
ニル、４−メトキシフェニルまたは４−メチルフェニル
基など〕である。
トロベンジルまたは４−メトキシベンジル基なト）、ア
ルコキシカルがニル基（ベンジルオキシカルボニル、４
−ブロムペンジルオキシカルがニル、４−ニトロベンジ
ルオキシカルビニル、２−ニトロベンジルオキシカルビ
ニル、Ｒ２，２−） ！ｊジクロルトキシカルビニル、
アリルオキシカルボニル、２−クロルアリルオキシカル
ぎニル、２−メチルアリルオキシカルボニル、ｔ〜ブト
キシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカルボニル、
２−（）リメチルシリル）エトキシカルボニル基など）
またはエーテル基（テトラヒドロピラニル、メトキシメ
チル、１−エトキシエチルまたは２−（トリメチルシリ
ル）エトキシメチル基など〕である。一般式（１）およ
び勤におけるＲ５は、水素原子、アルキル基〔メチル、
エチルまたはプロピル基など〕またはアリール基〔フェ
ニル、４−メトキシフェニルまたは４−メチルフェニル
基など〕である。
一般式叩、（至）および（転）におけるＲ４およびＲ５
は、同−又は異なる水素原子、アルキル基〔メチル、エ
チルまたはプロピル基など〕、＃換アルキル基（−ＣＨ
２ＣＨ□Ａ 、 −ＣＨ（ＣＨ，）ＣＨ２Ａ 、 ＣＨ
２０ＣＯＣＨ２Ａ ｔたはＣＨ２０ＣＯＣ）１２ＣＨ２
Ａ（式中人は、ＮＨＲ”基（式中Ｒ１０は、水素原子ま
たは一般的なアミノ基の保護基（アシル基（ホルミル、
アセチル、クロルアセチル、トリフルオルアセチル、プ
ロピオニル、マタハペンゾイル基ナト）、アルコキシカ
ルブニル基（エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル、２．２．２− ）リクロルエトキシ力ルヴ
ニル、２，２．２−トリブロムエトキシカルがニル、２
−（ｉＪメチルシリル）エトキシカルボニル、ベンジル
オキシカル・ビニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、０−ニトロベンジルオキシカルボニル、またはア
リルオキシカルボニル基など）、アラルキル基（ベンジ
ル、ジフェニルメチル、またはトリフェニルメチル基な
ど）でおる。） 、 −ＮＲ１１Ｒ１２基（式中、Ｒ１
１およびＲ１２祉、同一または異なる、水素原子、アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、または
イソプロピル基など）。
は、同−又は異なる水素原子、アルキル基〔メチル、エ
チルまたはプロピル基など〕、＃換アルキル基（−ＣＨ
２ＣＨ□Ａ 、 −ＣＨ（ＣＨ，）ＣＨ２Ａ 、 ＣＨ
２０ＣＯＣＨ２Ａ ｔたはＣＨ２０ＣＯＣ）１２ＣＨ２
Ａ（式中人は、ＮＨＲ”基（式中Ｒ１０は、水素原子ま
たは一般的なアミノ基の保護基（アシル基（ホルミル、
アセチル、クロルアセチル、トリフルオルアセチル、プ
ロピオニル、マタハペンゾイル基ナト）、アルコキシカ
ルブニル基（エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル、２．２．２− ）リクロルエトキシ力ルヴ
ニル、２，２．２−トリブロムエトキシカルがニル、２
−（ｉＪメチルシリル）エトキシカルボニル、ベンジル
オキシカル・ビニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、０−ニトロベンジルオキシカルボニル、またはア
リルオキシカルボニル基など）、アラルキル基（ベンジ
ル、ジフェニルメチル、またはトリフェニルメチル基な
ど）でおる。） 、 −ＮＲ１１Ｒ１２基（式中、Ｒ１
１およびＲ１２祉、同一または異なる、水素原子、アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、または
イソプロピル基など）。
アシル基（たとえば、アセチル、グロビオニル、イソブ
チリル、またはベンゾイル基）、スルホ” ル基（タ（
！： エバ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ま
たはフェニルスルホニル基）マたはアミン基の保護基（
Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示す。）で
ある。）。
チリル、またはベンゾイル基）、スルホ” ル基（タ（
！： エバ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、ま
たはフェニルスルホニル基）マたはアミン基の保護基（
Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示す。）で
ある。）。
キル基（たとえば、メチル、エチル、またはプロピル基
など）またはアリール基（たとえば、フェニル、ｐ−メ
トキシフェニルまたはｐ−アミノフェニル基など）であ
る。Ｒ１４は、水素原子、アルキル基（たとえば、メチ
ル、エチル、゛またはプロピル基など）、アミノ基の保
護基（Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示す
。）、フェニル基、またはＲ１５と１（１４が一緒にな
って環を形成する基（たとえば、ＲとＲが−（ＣＨ２）
５−または−（ＣＨ２）４−基など）である。）。
など）またはアリール基（たとえば、フェニル、ｐ−メ
トキシフェニルまたはｐ−アミノフェニル基など）であ
る。Ｒ１４は、水素原子、アルキル基（たとえば、メチ
ル、エチル、゛またはプロピル基など）、アミノ基の保
護基（Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示す
。）、フェニル基、またはＲ１５と１（１４が一緒にな
って環を形成する基（たとえば、ＲとＲが−（ＣＨ２）
５−または−（ＣＨ２）４−基など）である。）。
は、同一または異なる水素原子、アルキル基（たとえば
、メチル、エチル、又はプロピル基など）、アミノ基の
保護基（Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示
す。） 、 Ｂ１０とＲ１７が一緒になって環を形成す
る基（たとえば、Ｒ１６トＲ＋７ カー（ＣＨ２）４−
１−（ＣＨ２）５−、マタは−（ＣＨ２）６−基など）
、またはＲ１５と１１６が一緒になって環を形成する基
（たとえば、Ｉ（１５とＲ１６が−（ＣＨ２）２−１−
（ＣＨ２）５−または−（ＣＨ２）４−基など）である
）など〕、アルコキシ基〔メトキシ、エトキシ、グロポ
キシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メトキシメチルオキシ、メ
チルチオメトキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ、
または−〇ＣＨ２０ＣＯＲ”基（式中Ｒ１Ｂは、水素原
子、メチル、エチル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フ
ェニルまたはベンジル基など）エアルキルチオ基〔メチ
ルチオ、メトキシメチルチオ、メチルチオメチルチオ、
−８ＣＨ２ＣＨ２Ａ基（式中Ａは１、前述した置換基Ａ
と同意義を示ず。）、−８ＣＨ２０ＣＯＲ基（式中Ｒは
、前述したＲ と同意義を示す。）、−８ＣＨ２ＳＣＯ
Ｒ”基（式中Ｒ１８は、前述したＲ１８と同意義を示す
。）〕、アリールチオ基〔フェニルチオまたは４−メト
キシ７ ｘ ＝ルチオ基〕、複素環チオ基〔ピロリジニ
ルチオ、テトラヒドロフラニルチオ、チアゾリジニルチ
オまたは２−オキソヘキサヒドロビリＮＦ！１５ たＲ と同意義を示す。）、−纏ＮＲ１６Ｒ１７基（式
中、Ｒ１５，Ｒ１６およびＨ１７は、前述したものと同
意義を示す。）または窒素原子の保護基（前述したアミ
ン基の保護基Ｒ１０と同意義を示す。）〕。
、メチル、エチル、又はプロピル基など）、アミノ基の
保護基（Ｒ１０におけるアミノ基の保護基と同意義を示
す。） 、 Ｂ１０とＲ１７が一緒になって環を形成す
る基（たとえば、Ｒ１６トＲ＋７ カー（ＣＨ２）４−
１−（ＣＨ２）５−、マタは−（ＣＨ２）６−基など）
、またはＲ１５と１１６が一緒になって環を形成する基
（たとえば、Ｉ（１５とＲ１６が−（ＣＨ２）２−１−
（ＣＨ２）５−または−（ＣＨ２）４−基など）である
）など〕、アルコキシ基〔メトキシ、エトキシ、グロポ
キシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メトキシメチルオキシ、メ
チルチオメトキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ、
または−〇ＣＨ２０ＣＯＲ”基（式中Ｒ１Ｂは、水素原
子、メチル、エチル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、フ
ェニルまたはベンジル基など）エアルキルチオ基〔メチ
ルチオ、メトキシメチルチオ、メチルチオメチルチオ、
−８ＣＨ２ＣＨ２Ａ基（式中Ａは１、前述した置換基Ａ
と同意義を示ず。）、−８ＣＨ２０ＣＯＲ基（式中Ｒは
、前述したＲ と同意義を示す。）、−８ＣＨ２ＳＣＯ
Ｒ”基（式中Ｒ１８は、前述したＲ１８と同意義を示す
。）〕、アリールチオ基〔フェニルチオまたは４−メト
キシ７ ｘ ＝ルチオ基〕、複素環チオ基〔ピロリジニ
ルチオ、テトラヒドロフラニルチオ、チアゾリジニルチ
オまたは２−オキソヘキサヒドロビリＮＦ！１５ たＲ と同意義を示す。）、−纏ＮＲ１６Ｒ１７基（式
中、Ｒ１５，Ｒ１６およびＨ１７は、前述したものと同
意義を示す。）または窒素原子の保護基（前述したアミ
ン基の保護基Ｒ１０と同意義を示す。）〕。
Ｒ１８は、前述したものと同意義を示す。〕。
−８０２Ｒ１８基〔式中、Ｒ１８は前述したものと同意
義を示す。：］ ＊ Ｃｏ２Ｒ１８基〔式中、Ｒ１８は
、前述したものと同意義を示す。） 、 −ＣＯ８Ｒ１
８基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示す。〕−
０ＣＯＲ”基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示
す。］ 、−８ＣＯＲ１８基〔式中、ｌ七１８は、前述
したものと同意義を示す。〕〕ｒ−ＮＨｒｔ２１−ｇ式
中、Ｒ２１は、前述したＲ １８と同意義または前述し
たアミノ基の保護基Ｉ（１０と同意ＹＡｋ示す。〕。
義を示す。：］ ＊ Ｃｏ２Ｒ１８基〔式中、Ｒ１８は
、前述したものと同意義を示す。） 、 −ＣＯ８Ｒ１
８基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示す。〕−
０ＣＯＲ”基〔式中、Ｒは、前述したものと同意義を示
す。］ 、−８ＣＯＲ１８基〔式中、ｌ七１８は、前述
したものと同意義を示す。〕〕ｒ−ＮＨｒｔ２１−ｇ式
中、Ｒ２１は、前述したＲ １８と同意義または前述し
たアミノ基の保護基Ｉ（１０と同意ＹＡｋ示す。〕。
−ＮＨＣＯＲ”基〔式中、Ｒ１８は、前述したものと同
意義を示す。〕、ハロゲン原子〔弗素、塩素、臭素また
はヨウ素原子〕、カルボキシ基、シアン基またはニトロ
基である。
意義を示す。〕、ハロゲン原子〔弗素、塩素、臭素また
はヨウ素原子〕、カルボキシ基、シアン基またはニトロ
基である。
一般式（ｎ）におけるＲ６は、アルキル基〔メチル、エ
チル、プロピル、インプロピルまたはブチル基。〕、ア
ルコキシ基〔メトキシ、エトキシ、ノロポキシ、イソプ
ロポキシまたはブトキシ基〕アリール基〔フェニル、４
−メトキシフェニルまたは４−メチルフェニル基〕、ア
リールオキシ基〔フェノキシ、４−メトキシフェノキシ
または４−メチルフェノキシ基〕またはアミン基〔ジメ
チルアミノ、ジメチルアミノまたはジプロピルアミノ基
〕である。
チル、プロピル、インプロピルまたはブチル基。〕、ア
ルコキシ基〔メトキシ、エトキシ、ノロポキシ、イソプ
ロポキシまたはブトキシ基〕アリール基〔フェニル、４
−メトキシフェニルまたは４−メチルフェニル基〕、ア
リールオキシ基〔フェノキシ、４−メトキシフェノキシ
または４−メチルフェノキシ基〕またはアミン基〔ジメ
チルアミノ、ジメチルアミノまたはジプロピルアミノ基
〕である。
一般式（ト）におけるＲ７は、アルキル基〔メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピルまたはプチル基〕、アリ
ール基〔フェニル、４−メトキシフェニルまたは４−メ
チルフェニル基〕である。
チル、プロピル、イソプロピルまたはプチル基〕、アリ
ール基〔フェニル、４−メトキシフェニルまたは４−メ
チルフェニル基〕である。
一般式（ｎ）をイ１する化合物または（Ｉｔ）を有する
化合物を塩基で処理して得られるＨｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍ
ｏｎａまたはＷｉｔｔｉｇ試薬と一般式（１）を有する
化合物を反応させることによシ一般式仙を有する化合物
が得られる。この反応に使用される塩基は、特に限定は
なくアルカリ金属水素化物〔水素化ナトリウムまたは水
素化カリウム〕、アルカリ金属アミド〔ナトリウムアミ
ドまたはカリウムアミド〕、有機塩基〔トリエチルアミ
ン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−
ジアザビシクロ（４，３，Ｏ］］ノンー５−エまたは１
，４−ジアザビシクロ［２，２，２〕オクタン］マ念は
リチウム化合物〔ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリ
チウム、リチウムジイソゾロビルアミドまたは）（トリ
メチルシリル）リチウムアミド〕などである。
化合物を塩基で処理して得られるＨｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍ
ｏｎａまたはＷｉｔｔｉｇ試薬と一般式（１）を有する
化合物を反応させることによシ一般式仙を有する化合物
が得られる。この反応に使用される塩基は、特に限定は
なくアルカリ金属水素化物〔水素化ナトリウムまたは水
素化カリウム〕、アルカリ金属アミド〔ナトリウムアミ
ドまたはカリウムアミド〕、有機塩基〔トリエチルアミ
ン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−
ジアザビシクロ（４，３，Ｏ］］ノンー５−エまたは１
，４−ジアザビシクロ［２，２，２〕オクタン］マ念は
リチウム化合物〔ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリ
チウム、リチウムジイソゾロビルアミドまたは）（トリ
メチルシリル）リチウムアミド〕などである。
この反応に使用される溶媒は、芳香族炭化水素〔ベンゼ
ン、トルエンまたはキシレン〕、エーテル〔ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロ７ランまたはジオキサン〕、アミ
ド〔ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド
〕またはジメチルスルホキシドなどである。反応ｆｆ、
＆は一７８°〜１２０℃である。反応時間は、原料化合
物、使用される塩基の種類または反応温度によって異な
るが１０分間〜２４時間である。ここに得られる一般式
Ｗ）を有する化合物は常法に従って単離することができ
る。第１表に一般式収）第 １ 表 表中の略号は ＴＨＰ ：テトラヒドロピラニル ＰＮＺ 二４−二トロペンジルオキシヵルボニルＰＮＢ
： ４−二トロペンジル である。なお表中のすべての化合物は新規化合物である
。化合物（転）の立体配位に関しては種々の異性体が考
えられ、一般式（財）はその立体異性体の一種またはそ
れらの混合物を示す。
ン、トルエンまたはキシレン〕、エーテル〔ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロ７ランまたはジオキサン〕、アミ
ド〔ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミド
〕またはジメチルスルホキシドなどである。反応ｆｆ、
＆は一７８°〜１２０℃である。反応時間は、原料化合
物、使用される塩基の種類または反応温度によって異な
るが１０分間〜２４時間である。ここに得られる一般式
Ｗ）を有する化合物は常法に従って単離することができ
る。第１表に一般式収）第 １ 表 表中の略号は ＴＨＰ ：テトラヒドロピラニル ＰＮＺ 二４−二トロペンジルオキシヵルボニルＰＮＢ
： ４−二トロペンジル である。なお表中のすべての化合物は新規化合物である
。化合物（転）の立体配位に関しては種々の異性体が考
えられ、一般式（財）はその立体異性体の一種またはそ
れらの混合物を示す。
一般式勤を有する化合物を、加ノ（分解することによｐ
一般式（Ｖｌｔ−有する化合物が得られる。
一般式（Ｖｌｔ−有する化合物が得られる。
一般式（７）におけるＲ’、Ｒ２およびＲ３は前述した
ものと同意義を、Ｒ８は、前述したＲ４またはＲ５と同
意義を、Ｙは酸素または硫黄原子を示す。この加水分解
反応は、酸または塩基の触媒によシ促進される。使用さ
れる酸は、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸
、マロン酸、ギ酸、塩化アルミニウムまたは三弗化ホウ
素などであシ、使用される塩基は、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリ、トリエチルアミン、ビＩＪ ＆ン、４−ジ
メチルアミノピリジン、１．５−ジアザビシクロ［４，
３，Ｏ］ノン−５−エンまたは１．４−ジアザビシクロ
［２，２，２３オクタンなどである。
ものと同意義を、Ｒ８は、前述したＲ４またはＲ５と同
意義を、Ｙは酸素または硫黄原子を示す。この加水分解
反応は、酸または塩基の触媒によシ促進される。使用さ
れる酸は、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸
、マロン酸、ギ酸、塩化アルミニウムまたは三弗化ホウ
素などであシ、使用される塩基は、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
、炭酸カリ、トリエチルアミン、ビＩＪ ＆ン、４−ジ
メチルアミノピリジン、１．５−ジアザビシクロ［４，
３，Ｏ］ノン−５−エンまたは１．４−ジアザビシクロ
［２，２，２３オクタンなどである。
反応に使用される溶媒は、アルコール〔メタノール、エ
タノール、プロパツールまたはブタノール〕、アセトン
、エーテル〔ジエチルエーテル、デトラヒドロフランま
たはジオキサン〕、アミド〔ジメチルホルムアミドｔた
はジメチルアセトアミドラジメチルスルホキシド、ハロ
ダン化炭化水素〔塩化メチレン、クロロホルムまたは四
塩化炭素〕または芳香族炭化水素〔ベンゼン、トルエン
またはキシレン〕などと水の混合溶媒である。この際、
必要に応じてアンモニウム塩等の相聞触媒を使用するこ
とができる。
タノール、プロパツールまたはブタノール〕、アセトン
、エーテル〔ジエチルエーテル、デトラヒドロフランま
たはジオキサン〕、アミド〔ジメチルホルムアミドｔた
はジメチルアセトアミドラジメチルスルホキシド、ハロ
ダン化炭化水素〔塩化メチレン、クロロホルムまたは四
塩化炭素〕または芳香族炭化水素〔ベンゼン、トルエン
またはキシレン〕などと水の混合溶媒である。この際、
必要に応じてアンモニウム塩等の相聞触媒を使用するこ
とができる。
反応温度は一７８℃〜１５０℃である。反応時間は、１
０分〜２４時間である。反応終了後化合物（■は常法に
従って単離することができる。
０分〜２４時間である。反応終了後化合物（■は常法に
従って単離することができる。
なお本発明の出発物質である一般式（１）を有する化合
物は、一般式 〔式中 Ｒ＋ 、 Ｒ２およびＲ３は、前述したものと
同意義を示す。〕を有する化合物′Ｉ！：酸化すること
によりまたは一般式 〔式中 Ｒ１および］（２は、前述したものと同意義を
、２は塩素原子またはアルコキシ基を示す。〕を有する
化合物を還元又はグリニヤ反応にょシ得られる。
物は、一般式 〔式中 Ｒ＋ 、 Ｒ２およびＲ３は、前述したものと
同意義を示す。〕を有する化合物′Ｉ！：酸化すること
によりまたは一般式 〔式中 Ｒ１および］（２は、前述したものと同意義を
、２は塩素原子またはアルコキシ基を示す。〕を有する
化合物を還元又はグリニヤ反応にょシ得られる。
本発明により得られる一般式（９）を有する化合物はチ
ェナマイシンなどの強い抗菌活性を有するカルバペネム
誘導体へ導く重要中間体である。
ェナマイシンなどの強い抗菌活性を有するカルバペネム
誘導体へ導く重要中間体である。
すなわち化合物（Ｖ）Ｕ種々の方法によってカルバペネ
ム誘導体・＼導ける。その一つの方法を第１図に示す一
般式（Ｖ）を有する化合物（Ｒ１：水素原子）ハ酸クロ
ライド（Ｖｉ！ｌ）と反応させることにょシ化合物（ト
）へ導き、これをトリエチルホスファイトと反応させる
ことによりカルバペネム誘導体が得られる・一般式（Ｖ
ＩＤにおけるＲ９は前述したカルざキシ基の保護基を示
し、一般式（ト）および（３）におけるＲ２ 、 Ｒ５
、Ｒ８およびＲ９は前述したものと同意義を示す。
ム誘導体・＼導ける。その一つの方法を第１図に示す一
般式（Ｖ）を有する化合物（Ｒ１：水素原子）ハ酸クロ
ライド（Ｖｉ！ｌ）と反応させることにょシ化合物（ト
）へ導き、これをトリエチルホスファイトと反応させる
ことによりカルバペネム誘導体が得られる・一般式（Ｖ
ＩＤにおけるＲ９は前述したカルざキシ基の保護基を示
し、一般式（ト）および（３）におけるＲ２ 、 Ｒ５
、Ｒ８およびＲ９は前述したものと同意義を示す。
第 １ 図
へ）
以下に実施例をあげて本発明を具体的に示す。
実施例 １
［３８−［３α−（Ｓ＊） 、 ４β］ ） −１−（
２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル） −４−（２，２−ビス
フェニルチオビニル）−２−アゼチジノ鴛素気流下、ジ
エチル ジ（フェニルチオ）メチルフオスフオネイト（
４４２ｍｇ 、 １．２ ｍｍｏｔ）のテトラヒドロフ
ラン（１０ｍｊ）溶液に ブチルリチウム（１，６Ｍヘ
キサン溶液０．７５ｄ）ｔ−氷冷下加え、５分攪拌して
から、アルデヒド（４０７，４ｍｇ、 １．０ ｍｍｏ
ｔ）のテトラヒドロフラン（５−）溶液を滴下する。３
０分後、室温にまで昇温し、更に３０分間攪拌する。酢
酸エチルにて希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水の順に洗
い、ＭｇＳＯ４にて乾燥する。溶媒を減圧下、留去し、
残る油状物をシリカダルＴＬＣＫて精製すると目的物が
５１１ｍｐ（８２％）粘ちょうな油状物として得られた
。
２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル） −４−（２，２−ビス
フェニルチオビニル）−２−アゼチジノ鴛素気流下、ジ
エチル ジ（フェニルチオ）メチルフオスフオネイト（
４４２ｍｇ 、 １．２ ｍｍｏｔ）のテトラヒドロフ
ラン（１０ｍｊ）溶液に ブチルリチウム（１，６Ｍヘ
キサン溶液０．７５ｄ）ｔ−氷冷下加え、５分攪拌して
から、アルデヒド（４０７，４ｍｇ、 １．０ ｍｍｏ
ｔ）のテトラヒドロフラン（５−）溶液を滴下する。３
０分後、室温にまで昇温し、更に３０分間攪拌する。酢
酸エチルにて希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水の順に洗
い、ＭｇＳＯ４にて乾燥する。溶媒を減圧下、留去し、
残る油状物をシリカダルＴＬＣＫて精製すると目的物が
５１１ｍｐ（８２％）粘ちょうな油状物として得られた
。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＬｓ ）δｐｐｍ ： ０．
０４（６Ｈ，ｇ）、（１，８４（９Ｈ、ｓ ）、１゜１
５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＧＨｚ ）、２，８０（ＩＨ，ｄｄ
、’Ｊ＝２．３Ｈｚ）、３．７９（６Ｈ，ｓ）、４．２
２（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝３．６Ｈｚ）、４．２３ （２１
１゜Ｂ）、４．８５（ＩＨ，ａｄ 、Ｊ＝２．９．５Ｈ
ｚ ）、５．７７（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ ＝９．５Ｈｚ
）、６．２７−６．５０（２Ｈ。
０４（６Ｈ，ｇ）、（１，８４（９Ｈ、ｓ ）、１゜１
５（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ＧＨｚ ）、２，８０（ＩＨ，ｄｄ
、’Ｊ＝２．３Ｈｚ）、３．７９（６Ｈ，ｓ）、４．２
２（ＩＨ，ｄｑ、Ｊ＝３．６Ｈｚ）、４．２３ （２１
１゜Ｂ）、４．８５（ＩＨ，ａｄ 、Ｊ＝２．９．５Ｈ
ｚ ）、５．７７（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ ＝９．５Ｈｚ
）、６．２７−６．５０（２Ｈ。
ｍ）、７．０３−７．２５（ＩＩＨ，ｍ）。
元素分析値
実測値二Ｃ，６４，６７；Ｈ，７，３５ＳＮ、 ２．２
０ ；Ｓ 、 １０．０４理論値： Ｃ、６５，６６；
Ｈ，６，９７：Ｎ、 ２．２５：Ｓ 、ＩＯ，３１％実
施例 ２ ［３Ｓ−［３α（Ｓ＊） 、 ４α、１ ｍｌ −１−
（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−（フェニルチオカルビニルメチル）−
２−アゼチジノン ビニｋ ス＃フィト（２） １００ ｒａｇ ノＣＦ
Ｃ００Ｈ−Ｈ２Ｏ３ （２：１）３−溶液を室温にで２時間１に拌する。
０ ；Ｓ 、 １０．０４理論値： Ｃ、６５，６６；
Ｈ，６，９７：Ｎ、 ２．２５：Ｓ 、ＩＯ，３１％実
施例 ２ ［３Ｓ−［３α（Ｓ＊） 、 ４α、１ ｍｌ −１−
（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−（フェニルチオカルビニルメチル）−
２−アゼチジノン ビニｋ ス＃フィト（２） １００ ｒａｇ ノＣＦ
Ｃ００Ｈ−Ｈ２Ｏ３ （２：１）３−溶液を室温にで２時間１に拌する。
酢酸エチルにて希釈し、重曹水、食塩水にて洗い、Ｍｇ
ＳＯ４にて乾燥する。溶媒を減圧下除くと粗結晶を得る
。シリカゲルクロマトグラフィーにて精製すると目的物
（３）２４ｒｎｇ（，３６％）と脱シリル化のみの起っ
たビニルスルフィド７ ｍｇが得られた。化合物（３）
の ＩＲス＜ｐ ｈル、ＮｕｊｏｌＩ−１： ３３１０ 、
１７７７ ｒａｘ １７４５．１６３３，１６１８．１５８８ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｔ、）スペクトルδｐｐｍ ： １．３０（３Ｈ。
ＳＯ４にて乾燥する。溶媒を減圧下除くと粗結晶を得る
。シリカゲルクロマトグラフィーにて精製すると目的物
（３）２４ｒｎｇ（，３６％）と脱シリル化のみの起っ
たビニルスルフィド７ ｍｇが得られた。化合物（３）
の ＩＲス＜ｐ ｈル、ＮｕｊｏｌＩ−１： ３３１０ 、
１７７７ ｒａｘ １７４５．１６３３，１６１８．１５８８ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｔ、）スペクトルδｐｐｍ ： １．３０（３Ｈ。
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．１２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．１
０Ｈｚ 、Ｃｓ−Ｈ）、２．５３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６
．５．１７Ｈｚ ）、２．９８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６．
５．１７Ｈｚ）、３．７７（ＬＨ，ｄｔ、Ｊ＝８．６．
５Ｈｚ、Ｃ４−Ｈ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８０
（３Ｈ，ａ）、４．１−４．８（３１Ｌｍ）、６．０−
６．５（２Ｈ，ｍ）、７．０−７．３（６Ｈ，ｍ）、 ＭＳ ス２クトルｍ／ｅ ： ４１５ （Ｍ’つ、 ３
０６ 、２６０ 。
０Ｈｚ 、Ｃｓ−Ｈ）、２．５３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６
．５．１７Ｈｚ ）、２．９８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６．
５．１７Ｈｚ）、３．７７（ＬＨ，ｄｔ、Ｊ＝８．６．
５Ｈｚ、Ｃ４−Ｈ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８０
（３Ｈ，ａ）、４．１−４．８（３１Ｌｍ）、６．０−
６．５（２Ｈ，ｍ）、７．０−７．３（６Ｈ，ｍ）、 ＭＳ ス２クトルｍ／ｅ ： ４１５ （Ｍ’つ、 ３
０６ 、２６０ 。
２３４、・・・ 。
実施例 ３
Ｃ３Ｓ −Ｃ３ａ （ｓ＊） 、 ４β（Ｅ、Ｓ＊）］
］−と（３Ｓ−（３（１（Ｓ＊）、４β（Ｚ、Ｓ＊）ｌ
）−と（３３−［３α（Ｓ＊）。
］−と（３Ｓ−（３（１（Ｓ＊）、４β（Ｚ、Ｓ＊）ｌ
）−と（３３−［３α（Ｓ＊）。
４β（Ｚ 、Ｒ＊）〕］−１−（２，４−ジメトキシベ
ンジ／’）−３−（１−ｔ−ｆチルジメチルシリルオキ
シエチル）−４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ−
２−フェニルチオビニル）−２−アゼチジノンの混合物
。
ンジ／’）−３−（１−ｔ−ｆチルジメチルシリルオキ
シエチル）−４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ−
２−フェニルチオビニル）−２−アゼチジノンの混合物
。
窒素気流下、ノエチル （ｌ−フェニルチオ−１−テト
ラヒドロピラニルオキシ）メチルフオスフオネイト（２
０８■＋ ０．５８ｍｍｏｔ）のテトラヒドロフラン（
５ｍｇ）溶ｆｉに ブチルリチウム（ｌ、６区、０．８
ｍｆりを一４０℃にて加える。
ラヒドロピラニルオキシ）メチルフオスフオネイト（２
０８■＋ ０．５８ｍｍｏｔ）のテトラヒドロフラン（
５ｍｇ）溶ｆｉに ブチルリチウム（ｌ、６区、０．８
ｍｆりを一４０℃にて加える。
１０分後、アルデヒド（１）１００〜のテトラヒドロフ
ラン５ ｍ１４溶液を加え、ゆつく９室温にまで昇温す
る。酢酸エチルで希釈し、水、食塩水にて洗い、ＭｇＳ
Ｏ４で乾燥する。減圧下濃縮し、残る油状物をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝２：１で展開する）にて分離精製すると、Ｒｆ＝０
．４８３に３１ｍ９ Ｒｆ＝ ０．２＝５０に４１■の
目的物がそれぞれ１：１のジアステレオマーの混合物と
して？４Ｊ ラれた。収率４８％。
ラン５ ｍ１４溶液を加え、ゆつく９室温にまで昇温す
る。酢酸エチルで希釈し、水、食塩水にて洗い、ＭｇＳ
Ｏ４で乾燥する。減圧下濃縮し、残る油状物をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝２：１で展開する）にて分離精製すると、Ｒｆ＝０
．４８３に３１ｍ９ Ｒｆ＝ ０．２＝５０に４１■の
目的物がそれぞれ１：１のジアステレオマーの混合物と
して？４Ｊ ラれた。収率４８％。
町＝０゜２５のものの物理恒数
ＩＲスペクトルν”ｃ、’Ｉｎ−’： １７５２，１６
１５゜ａｘ ５９Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δｐＰｍ ：０．０２
（６Ｈ，ｓ）、０．８３（９Ｈ，ｓ）、１．１２（１，
５Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．１５ （１，５）１ 、
ｄ 、 Ｊ＝６１（ｚ ）、１．４７（６Ｈ，ｍ）、
２．８６（ＩＨ，ｍ）、３．４−３．８（２）ｉ＋６Ｈ
Ｑδ３．７５に６Ｈ５＠を含む）〕、４．０−５．５
（６Ｈ、ｍ）、６．２−６．５（２Ｈ，ｒｎ）、７．０
−７．３ （５Ｈ＋ ＬＨ、ｍ。
１５゜ａｘ ５９Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δｐＰｍ ：０．０２
（６Ｈ，ｓ）、０．８３（９Ｈ，ｓ）、１．１２（１，
５Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．１５ （１，５）１ 、
ｄ 、 Ｊ＝６１（ｚ ）、１．４７（６Ｈ，ｍ）、
２．８６（ＩＨ，ｍ）、３．４−３．８（２）ｉ＋６Ｈ
Ｑδ３．７５に６Ｈ５＠を含む）〕、４．０−５．５
（６Ｈ、ｍ）、６．２−６．５（２Ｈ，ｒｎ）、７．０
−７．３ （５Ｈ＋ ＬＨ、ｍ。
δ７１８に５Ｈ２８を含む）。
ＭＳ スペクトｋ ｍ／ｅ ： ５５７ （Ｍ”−Ｂｕ
ｔ）、５３０．４７４．４２２、・・・ 。
ｔ）、５３０．４７４．４２２、・・・ 。
実施例 ４
［３８−［３α（Ｓ＊） 、 ４β〕］ −１−（２，
４−ジメトキシベンジル） −３−（１’ ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−フェニルチ
オカルざニルメチル−２−アゼチジノン 実施例３で得られたＲｆ＝０．４８の異性体（４）２８
ｍｌ （０，０４６ｍｍｏＬ ） ｆ、酢酸−ＴＨＦ−
水（４：２：１）１ｔｎｔに溶解し、室温で４時間攪拌
する。そのまま薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサ
ン。
４−ジメトキシベンジル） −３−（１’ ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−フェニルチ
オカルざニルメチル−２−アゼチジノン 実施例３で得られたＲｆ＝０．４８の異性体（４）２８
ｍｌ （０，０４６ｍｍｏＬ ） ｆ、酢酸−ＴＨＦ−
水（４：２：１）１ｔｎｔに溶解し、室温で４時間攪拌
する。そのまま薄層クロマトグラフィー（シクロヘキサ
ン。
酢酸エチル＝２：１）にてチオエステル１７ ｍｇ（７
１チ）を得た。
１チ）を得た。
同様にＲ，＝０．２５ の（４）からも化合物（５）が
６４チの収率で得られた。
６４チの収率で得られた。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ３）δｐｐｍ ＝（１，０
２（６Ｈ，ｓ）、０．８０（９Ｈ，ｓ）、１．１６（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．７２ （ＩＨ、ｄｄ 、
Ｊ＝８ 、１５Ｈｚ ）、３．０８ （ＩＨ。
２（６Ｈ，ｓ）、０．８０（９Ｈ，ｓ）、１．１６（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．７２ （ＩＨ、ｄｄ 、
Ｊ＝８ 、１５Ｈｚ ）、３．０８ （ＩＨ。
ｄｄ 、 Ｊ＝５ 、１５Ｈｚ ）、２．９６（ＩＨ，
ｄｄ、Ｊ＝３．４Ｈｚ）、３．８３（６Ｈ，ａ）、３．
８５−４．２５（２Ｈ，ｍ）、４．３２（２Ｈ，ｂｓ）
、６．４３（ＩＨ。
ｄｄ、Ｊ＝３．４Ｈｚ）、３．８３（６Ｈ，ａ）、３．
８５−４．２５（２Ｈ，ｍ）、４．３２（２Ｈ，ｂｓ）
、６．４３（ＩＨ。
ｄｄ 、 Ｊ＝２ 、９Ｈｚ ）、６．４３（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝２Ｈｚ）、７．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、
７．３８（５Ｈ，ｓ）、ＩＲスヘク）ルｙ”’ｑ（ｚ−
’ ： １７５０ ｒ １７００ 、１６１２゜ａｘ １５８８ 。
、Ｊ＝２Ｈｚ）、７．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、
７．３８（５Ｈ，ｓ）、ＩＲスヘク）ルｙ”’ｑ（ｚ−
’ ： １７５０ ｒ １７００ 、１６１２゜ａｘ １５８８ 。
ＭＳ スペクトルｍ／ｅ ： ４７２（Ｍ＋Ｂｕｔ）、
１５２、・・・。
１５２、・・・。
実施例 ５゜
（３８−（３α（Ｓ＊） 、 ４β：］ ：］ −１−
（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−４−ビニル−２−ア
ゼチジノン （１） （６） ブチルリチウムのヘキサン溶液（０，３１ｄ。
（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−４−ビニル−２−ア
ゼチジノン （１） （６） ブチルリチウムのヘキサン溶液（０，３１ｄ。
０５ミリモル）′ｆ：乾燥エチルエーテル（２ｍｌ ）
で希釈し、これにトリフェニルメチルホスホニウムブロ
マイド（０，１７９１％、０．５ミリモル）を徐々に添
加し、室温にて３時間攪拌した。
で希釈し、これにトリフェニルメチルホスホニウムブロ
マイド（０，１７９１％、０．５ミリモル）を徐々に添
加し、室温にて３時間攪拌した。
この反応混合物に水冷下、アルデヒド化合物（１）（０
，１３５５’、０３３ミリモル）の乾燥エチルエーテル
（１−）溶液を添加し、３時間還流した。
，１３５５’、０３３ミリモル）の乾燥エチルエーテル
（１−）溶液を添加し、３時間還流した。
反応混合物を水冷後、酢酸エチルで希釈し、不溶物を濾
過して除いたのち、炭酸水垢す） ＩＪウム溶液で洗浄
して硫酸マグネシウムで乾燥した。次に溶媒を減圧下留
去し、残渣の油状物をシリカダル（１：ｌ）を用いたラ
ビッドクロ々トゲラフイーに付して、シクロヘキサン−
酢酸エチル（８：２）で溶離し、目的とするビニル化合
物（６）を０．０４’１−（３５％）、無色油状物とし
て得た。
過して除いたのち、炭酸水垢す） ＩＪウム溶液で洗浄
して硫酸マグネシウムで乾燥した。次に溶媒を減圧下留
去し、残渣の油状物をシリカダル（１：ｌ）を用いたラ
ビッドクロ々トゲラフイーに付して、シクロヘキサン−
酢酸エチル（８：２）で溶離し、目的とするビニル化合
物（６）を０．０４’１−（３５％）、無色油状物とし
て得た。
ＩＲスペクトルＶＬｉｑｃｍ−１：１７５０．１６１５
．１５１０１１ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｔ、）δｐｐｍ ： Ｕ、（
＋４ （６Ｈ。
．１５１０１１ａＸ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｔ、）δｐｐｍ ： Ｕ、（
＋４ （６Ｈ。
ｇ 、 Ｄｌｍｅｔｈｙｌ ）、０．８２ （９Ｈ、ｇ
、 ｔｅｒｔ −Ｅｕｔｙｌ ）１．１７（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝６．５Ｈｍ、ＣＭ、）、２．８０（ＩＨ。
、 ｔｅｒｔ −Ｅｕｔｙｌ ）１．１７（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝６．５Ｈｍ、ＣＭ、）、２．８０（ＩＨ。
ｄｄ 、 Ｊ＝５Ｈｚ 、 ２Ｈｚ 、 ３−Ｈ）、３
．７〜４．３ （２Ｈ、ｍ。
．７〜４．３ （２Ｈ、ｍ。
４− Ｈ、ＣＨ３ＣＪＩ−）、３．７８（６Ｈ２ｓ、ｏ
ｃＨ５）、４．０５ 。
ｃＨ５）、４．０５ 。
４．４４ （２Ｈ、ＡＢｑ 、Ｊ＝１５Ｈｚ 、ＣＨ２
）、４．９３〜６．０７（３Ｈ１ｍ、ＣＨ−ＣＨ２）、
６．２５〜６．５２ 、７．００〜７．３０（３Ｈ，ｍ
、Ｐｈｅｎｙｌ ）実施例 ６ ［３８−［３α（Ｓ＊）、４β（Ｅ）））−および〔３
ｓ−（Ｓ＊） 、 ４β（Ｚ）〕） −１−（２，４−
ジメトキシベンジル） −３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−４−（２−フェニルチ
オビニル）−２−アゼチジノン ジエチル フェニルチオメチル７オスフオネイト（０，
１３Ｆ、０．５ミリモル）の乾燥テトラヒドロフラン（
２−）溶液に、水冷下 ブチルリチウム（０，３１１ｎ
ｔ、 ０．５ミリモル）を添加した。
）、４．９３〜６．０７（３Ｈ１ｍ、ＣＨ−ＣＨ２）、
６．２５〜６．５２ 、７．００〜７．３０（３Ｈ，ｍ
、Ｐｈｅｎｙｌ ）実施例 ６ ［３８−［３α（Ｓ＊）、４β（Ｅ）））−および〔３
ｓ−（Ｓ＊） 、 ４β（Ｚ）〕） −１−（２，４−
ジメトキシベンジル） −３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−４−（２−フェニルチ
オビニル）−２−アゼチジノン ジエチル フェニルチオメチル７オスフオネイト（０，
１３Ｆ、０．５ミリモル）の乾燥テトラヒドロフラン（
２−）溶液に、水冷下 ブチルリチウム（０，３１１ｎ
ｔ、 ０．５ミリモル）を添加した。
次にアルデヒド化合物（１）（０，１３５？ 、０．３
３ミリモル）の乾燥テトラヒドロンラン（１−）溶液を
水冷下添加して同温度で２時間攪拌した。反応混合物の
テトラヒドロフランを減圧下留去したのち、酢酸エチル
で希釈して、塩化ナトリウム水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。次に溶媒を減圧留去し、残置の油状物を
シリカゲル（２０？）を用いたラピッドクロマトグラフ
ィーに付して、シクロヘキサン：酢酸エチル（２：１）
で溶ＡＩＩＦし、ビニルスルフィド化合物の８体（７）
が（１，０６６？（３９％）、２体（８）が０．１１１
２Ｖ（７％）、無色油状物として得られた。
３ミリモル）の乾燥テトラヒドロンラン（１−）溶液を
水冷下添加して同温度で２時間攪拌した。反応混合物の
テトラヒドロフランを減圧下留去したのち、酢酸エチル
で希釈して、塩化ナトリウム水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。次に溶媒を減圧留去し、残置の油状物を
シリカゲル（２０？）を用いたラピッドクロマトグラフ
ィーに付して、シクロヘキサン：酢酸エチル（２：１）
で溶ＡＩＩＦし、ビニルスルフィド化合物の８体（７）
が（１，０６６？（３９％）、２体（８）が０．１１１
２Ｖ（７％）、無色油状物として得られた。
８体（７）
ＩＲスペクトルν”’Ｑｃｍ’ ： １７６０．１６Ｎ
＋、１５１０ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｃｕｃｔ、 ）δｐｐｍ ： ｏ、
ｏ ４ （６）１ ＋ ｇ ｒＤｌｍｅｔｈｙｌ ）、
０．８１ （９Ｈ、ｓ 、 ｔａｒｔ −１ｕｔｙｌ
）、１、１６ （３Ｈ、ｄ 、Ｊ ＝６ Ｈｚ 、ＣＨ
ｓ ）、２．７８（ＩＨ。
＋、１５１０ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｃｕｃｔ、 ）δｐｐｍ ： ｏ、
ｏ ４ （６）１ ＋ ｇ ｒＤｌｍｅｔｈｙｌ ）、
０．８１ （９Ｈ、ｓ 、 ｔａｒｔ −１ｕｔｙｌ
）、１、１６ （３Ｈ、ｄ 、Ｊ ＝６ Ｈｚ 、ＣＨ
ｓ ）、２．７８（ＩＨ。
ｄｄ、Ｊ＝５Ｈ２，２，５Ｈｚ 、３Ｈ）、３．７６（
６Ｈ，ｓ。
６Ｈ，ｓ。
０ＣＲ３）、４．０９．４．４０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
１５Ｈｚ 。
１５Ｈｚ 。
Ｃ■Ｉ２）、５．５５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ 、１
５Ｈｚ 。
５Ｈｚ 。
ｖｉｎｙｌ−Ｈ）、６．２９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１５１（
ｙ、。
ｙ、。
ｖｉｎｙｌ−Ｈ）、６．２５−７．３０ （３Ｈ、ｍ
、 Ｐｈｅｎｙｌ ）、分析 割算値： Ｃ，６５，４５；Ｈ，７，６５；Ｎ、２．７
３：Ｓ、６．２４測定値： Ｃ，６５，３７；Ｈ，７，
８８；Ｎ、２．７１；Ｓ、６．２９２体（８） ＩＲスペクトルシＬ′ｑｃｒｒＬ−に１７５０．１６５
０．１５１ＯＮＩＶＩＲスペクトル（ｃＤｃｚ３）δｐ
ｐｒｎ：０．０４（６Ｈ，ｓ。
、 Ｐｈｅｎｙｌ ）、分析 割算値： Ｃ，６５，４５；Ｈ，７，６５；Ｎ、２．７
３：Ｓ、６．２４測定値： Ｃ，６５，３７；Ｈ，７，
８８；Ｎ、２．７１；Ｓ、６．２９２体（８） ＩＲスペクトルシＬ′ｑｃｒｒＬ−に１７５０．１６５
０．１５１ＯＮＩＶＩＲスペクトル（ｃＤｃｚ３）δｐ
ｐｒｎ：０．０４（６Ｈ，ｓ。
Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ）、０．８２ （９Ｈ、ｓ 、 ｔ
ｅｒｔ−Ｅｕｔｙｌ ）、１−１６ （３Ｈ、ｄ 、Ｊ
＝６ Ｈｚ １ＣＬ（ｓ ）、２．７８（ＬＨ。
ｅｒｔ−Ｅｕｔｙｌ ）、１−１６ （３Ｈ、ｄ 、Ｊ
＝６ Ｈｚ １ＣＬ（ｓ ）、２．７８（ＬＨ。
ｍ、３−Ｈ）、３．７０ （６Ｈ、ａ 、０ｃＨｓ ）
、４．０６．４．３３（２ｔ（、ＡＢｑ 、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ 、ＣＨ２）、４．４８（１）１．ｄｄ。
、４．０６．４．３３（２ｔ（、ＡＢｑ 、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ 、ＣＨ２）、４．４８（１）１．ｄｄ。
Ｊ＝＝１０Ｈｚ 、 ２Ｈｚ 、 ４−Ｈバ５．４４（
ＪＨ，ａｄ、Ｊ＝１０ｉ（ｚ 、１０Ｈｚ 、ｖｋｎｙ
ｌ−Ｈ）、６．１２（ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝１０ Ｈｚ ＋
ｖｉｎｙｌ−Ｈ）、６．１０−７．３０（３Ｈ，ｍ。
ＪＨ，ａｄ、Ｊ＝１０ｉ（ｚ 、１０Ｈｚ 、ｖｋｎｙ
ｌ−Ｈ）、６．１２（ＩＨ，ｄ 、Ｊ＝１０ Ｈｚ ＋
ｖｉｎｙｌ−Ｈ）、６．１０−７．３０（３Ｈ，ｍ。
Ｐｈｅｎｙｌ ）、７．１５ （５Ｈ、ｓ 、 Ｐｈｅ
ｎｙｌ ）実施例 ７゜ ［：３Ｓ−（３α（Ｓ＊） 、 ４β（Ｅ）］：ｌ−と
［３Ｓ−［３α（８＊） 、 ４β（Ｚ）〕）−ｔ＝（
２，４−シメト＃ ’／ ヘ：／ ）ル）−３−（１−
ｔ−ブチルツメチルシリルオキシエチル）−４−（２−
クロル−２−フェニルチオビニル）−２−アゼチジノン
の混合物ジエチル （１−クロル−１−フェニルチオ）
メチルフオスフオネイト（０，１９５ｐ 、０．６６ミ
リモル）の乾燥テトラヒドロ７ラン（３ｍｊ）溶液に、
水冷下 ブチルリチウム（０，４１ｍｌ 、 ０．６６
ミリモル）を添加した。次にアルデヒド化合物（ｌン（
０，１３５Ｐ 、 ０．３３ミリモル）の乾燥テトラヒ
ドロフラン（１−）溶′Ｗ１．ｔ−水冷下添加して、同
温度で２時間攪拌した。反応混合物のテトラヒドロフラ
ンを減圧下留去したのち、酢酸エチルで希釈して、塩化
す） ＩＪクム水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した
。次に、溶媒を減圧留去し、残液の油状物をシリカダル
（２２１）を用いたラピッドクロマトグラフィーに付し
て、シクロヘキサン：酢酸エチル（８：２）で溶離した
。その結果、オレフィン化合物Ｅと２の混合物１：１を
０．０８Ｖ−（４４チ）、無色油状物として得た。
ｎｙｌ ）実施例 ７゜ ［：３Ｓ−（３α（Ｓ＊） 、 ４β（Ｅ）］：ｌ−と
［３Ｓ−［３α（８＊） 、 ４β（Ｚ）〕）−ｔ＝（
２，４−シメト＃ ’／ ヘ：／ ）ル）−３−（１−
ｔ−ブチルツメチルシリルオキシエチル）−４−（２−
クロル−２−フェニルチオビニル）−２−アゼチジノン
の混合物ジエチル （１−クロル−１−フェニルチオ）
メチルフオスフオネイト（０，１９５ｐ 、０．６６ミ
リモル）の乾燥テトラヒドロ７ラン（３ｍｊ）溶液に、
水冷下 ブチルリチウム（０，４１ｍｌ 、 ０．６６
ミリモル）を添加した。次にアルデヒド化合物（ｌン（
０，１３５Ｐ 、 ０．３３ミリモル）の乾燥テトラヒ
ドロフラン（１−）溶′Ｗ１．ｔ−水冷下添加して、同
温度で２時間攪拌した。反応混合物のテトラヒドロフラ
ンを減圧下留去したのち、酢酸エチルで希釈して、塩化
す） ＩＪクム水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した
。次に、溶媒を減圧留去し、残液の油状物をシリカダル
（２２１）を用いたラピッドクロマトグラフィーに付し
て、シクロヘキサン：酢酸エチル（８：２）で溶離した
。その結果、オレフィン化合物Ｅと２の混合物１：１を
０．０８Ｖ−（４４チ）、無色油状物として得た。
ＩＲスペクトルν”ｑｃｍ−’ ：１７６０，１６１０
．１５１０゜ａｘ ３５ ＮＭＲ、Ｃベクトル（ＣＤＣ６，）δｐｐｒｎ 二０．
０４ （６Ｈ。
．１５１０゜ａｘ ３５ ＮＭＲ、Ｃベクトル（ＣＤＣ６，）δｐｐｒｎ 二０．
０４ （６Ｈ。
ｓ 、 Ｄｌｍｅｔｈｙｌ （ｃｉｓとｔｒａｎａ））
、０．８２（９Ｈ，ｓ。
、０．８２（９Ｈ，ｓ。
ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ （ｅｌｓとｔｒａｎｓ））、１
．１５ （１，５Ｈ。
．１５ （１，５Ｈ。
ｄ ＋ Ｊ ＝６．５ Ｈｚ＋ ＣＨｓ （ｏｌｅ又は
ｔｒａｎｓ ）、１．１８（１，５Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝６
．５Ｈｚ 、 ＣＨ４（ｃｉｇ又はｔｒａｎａ ） ）
２．８４（ＩＨ，ｍ、３Ｂ、（ｃｓｓとｔｒａｎｓ ）
）、３．７７（６Ｈ＋ ｓ ＋ＯＣＨ，（ｃｉｓとｔｒ
ａｎｓ ））、３．９〜４．３５（３Ｈ、ｍ 、 ＣＨ
２＊ ＣＨ３Ｃ１−（ｅｔａとｔｒａｎｓ ））、４．
５０（０，５Ｈ，ｄｄ 、Ｊ＝１０Ｈｚ 、２Ｈｚ 、
４−Ｈ（ｃｉｓ又はｔｒａｎｓ ） ）、４．７２ （
０，５Ｈ、ｄｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ ＊ ２Ｈｚ １４
−Ｈ（ｃｉａ又はｔｒａ、Ｈ８））、５，７７（０，５
Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ 、 ｖｌｎｙｌ−Ｈ（ｃｉ
ｓ又はｔｒａｎｓ ））、’ ５．９６ （０，５Ｈ，
ｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ 。
ｔｒａｎｓ ）、１．１８（１，５Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝６
．５Ｈｚ 、 ＣＨ４（ｃｉｇ又はｔｒａｎａ ） ）
２．８４（ＩＨ，ｍ、３Ｂ、（ｃｓｓとｔｒａｎｓ ）
）、３．７７（６Ｈ＋ ｓ ＋ＯＣＨ，（ｃｉｓとｔｒ
ａｎｓ ））、３．９〜４．３５（３Ｈ、ｍ 、 ＣＨ
２＊ ＣＨ３Ｃ１−（ｅｔａとｔｒａｎｓ ））、４．
５０（０，５Ｈ，ｄｄ 、Ｊ＝１０Ｈｚ 、２Ｈｚ 、
４−Ｈ（ｃｉｓ又はｔｒａｎｓ ） ）、４．７２ （
０，５Ｈ、ｄｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ ＊ ２Ｈｚ １４
−Ｈ（ｃｉａ又はｔｒａ、Ｈ８））、５，７７（０，５
Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ 、 ｖｌｎｙｌ−Ｈ（ｃｉ
ｓ又はｔｒａｎｓ ））、’ ５．９６ （０，５Ｈ，
ｄ 、 Ｊ＝１０Ｈｚ 。
ｖｉｎｙｌ−Ｈ（ｃｉｓ又はｔｒａｎａ ））、６２５
〜７３０（３Ｈ＋ ｍ ＋ ｐｈｅｎｙｌ （ｃｉｓと
ｔｒａｎｓ ））、７１５〜７．３０ （５Ｈ＋ ｍ
＋ ｐｈａｎｙｌ （ｃｉｓ （！： ｔｒａｎｓ ）
Ｍｉスペクトルｍ／ｅ ： ５４８（Ｍｊ）、４９１（
λ’ｌ−５７）分析 計算値： Ｃ，６１，３４：Ｈ，６，９９；Ｎ、２．５
６；Ｓ、５．８５ＣＬ 、６．４７ 測定値： Ｃ，６１，２４；Ｈ，７゜２６ ；Ｎ 、２
．５５ ：Ｓ 、６．１８ＣＬ 、５．３７ 実施例 ８ ［：３Ｓ−（：３α（Ｓ＊） 、 ４β（Ｅ）〕］−お
よび〔３Ｓ−（３α（Ｓ＊）、４β（Ｚ）：ＩＩ）−１
−（２，４−／ｌトキシヘンジル） −３−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−（２
−シアノ−２−メトキシビニル）−２−アゼチジノン 窒素気流下、ジエチル （１−シアノ−１−メトキシ）
メチルフオスフオネイト ３１０■（１，５ｍｍｏｔ）
のテトラヒドロフラン（５ｒｎｔ）溶液にリチウムへキ
サメチルジシラザイド（１，５ｍｍｏｔ）のテトラヒド
ロフラン溶液（２ｄ）ｔ−７８℃にて加える。１０分彼
、アルデヒド（１）４０７．４Ｔｎｇ（１，Ｏｍｍｏｔ
）のテトラヒドロフラン（５−）溶液を一７８℃にて加
え、滴下後、１０分してから、ゆつくり室温にまで昇温
し、更に１時間攪拌を続けた。酢酸で過剰の塩基を中和
し、酢酸エチルにて希釈し、有機層を、重曹水、食塩水
で洗い、Ｎ ａ ２Ｓ０４にて乾燥する。溶ａを留去し
、残る油状物をシリカデル薄層クロマトグラフィーにて
分離する。酢酸エチルニジクロヘキサン＝１：１で展開
するとＲ，＝０．７８０に１７７■（３８，４％）のα
ηの一方の異性体、Ｒ４＝０．４４０に２８４〜（６１
，６％）の（１ηの他方の異性体を両人性体を合せると
定量的に得られた。
〜７３０（３Ｈ＋ ｍ ＋ ｐｈｅｎｙｌ （ｃｉｓと
ｔｒａｎｓ ））、７１５〜７．３０ （５Ｈ＋ ｍ
＋ ｐｈａｎｙｌ （ｃｉｓ （！： ｔｒａｎｓ ）
Ｍｉスペクトルｍ／ｅ ： ５４８（Ｍｊ）、４９１（
λ’ｌ−５７）分析 計算値： Ｃ，６１，３４：Ｈ，６，９９；Ｎ、２．５
６；Ｓ、５．８５ＣＬ 、６．４７ 測定値： Ｃ，６１，２４；Ｈ，７゜２６ ；Ｎ 、２
．５５ ：Ｓ 、６．１８ＣＬ 、５．３７ 実施例 ８ ［：３Ｓ−（：３α（Ｓ＊） 、 ４β（Ｅ）〕］−お
よび〔３Ｓ−（３α（Ｓ＊）、４β（Ｚ）：ＩＩ）−１
−（２，４−／ｌトキシヘンジル） −３−（１−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−（２
−シアノ−２−メトキシビニル）−２−アゼチジノン 窒素気流下、ジエチル （１−シアノ−１−メトキシ）
メチルフオスフオネイト ３１０■（１，５ｍｍｏｔ）
のテトラヒドロフラン（５ｒｎｔ）溶液にリチウムへキ
サメチルジシラザイド（１，５ｍｍｏｔ）のテトラヒド
ロフラン溶液（２ｄ）ｔ−７８℃にて加える。１０分彼
、アルデヒド（１）４０７．４Ｔｎｇ（１，Ｏｍｍｏｔ
）のテトラヒドロフラン（５−）溶液を一７８℃にて加
え、滴下後、１０分してから、ゆつくり室温にまで昇温
し、更に１時間攪拌を続けた。酢酸で過剰の塩基を中和
し、酢酸エチルにて希釈し、有機層を、重曹水、食塩水
で洗い、Ｎ ａ ２Ｓ０４にて乾燥する。溶ａを留去し
、残る油状物をシリカデル薄層クロマトグラフィーにて
分離する。酢酸エチルニジクロヘキサン＝１：１で展開
するとＲ，＝０．７８０に１７７■（３８，４％）のα
ηの一方の異性体、Ｒ４＝０．４４０に２８４〜（６１
，６％）の（１ηの他方の異性体を両人性体を合せると
定量的に得られた。
Ｒｆ＝０．７８０の異性体の物理恒数
ＩＲス被クりル ｖ”ｑに）１１： ２２２０（Ｗ）、
＋７５３＋ａｘ １６１．２．１６１４．１５９０ Ｍ５スペクトルｍ／ｅ ：４６０（Ｍ＋）、４４５，４
０３（Ｍ＋−ｔＢｕ） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２５）δｐｐｍ ：０．０３
（３Ｈ。
＋７５３＋ａｘ １６１．２．１６１４．１５９０ Ｍ５スペクトルｍ／ｅ ：４６０（Ｍ＋）、４４５，４
０３（Ｍ＋−ｔＢｕ） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ２５）δｐｐｍ ：０．０３
（３Ｈ。
ＩＩ）、０．０５（３Ｈ，ｓ）、０．８３（９Ｈ，ｓ）
、１．１２ （３Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝６Ｈｚ ）、２．
７８（ＩＩＬ ｄｄ。
、１．１２ （３Ｈ、ｄ 、 Ｊ ＝６Ｈｚ ）、２．
７８（ＩＩＬ ｄｄ。
Ｊ ” ２ ＋ ４ Ｈｚ ＋ Ｃｓ −Ｈ）、３．６
４（３Ｈ，ａ）、３．８６（６Ｈ，ｓ）、４．０７（Ｉ
Ｈ，ｍ）、４１９（２Ｈ，ｂ８）、４．４０（ＩＨ、ｄ
ｄ 、 Ｊ ＝２ 、９Ｈｚ 。
４（３Ｈ，ａ）、３．８６（６Ｈ，ｓ）、４．０７（Ｉ
Ｈ，ｍ）、４１９（２Ｈ，ｂ８）、４．４０（ＩＨ、ｄ
ｄ 、 Ｊ ＝２ 、９Ｈｚ 。
Ｃ４−Ｈ）、５．１９ （ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝９Ｈｚ
）、６３２（ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝２Ｈｚ ）、Ｃ３２（
ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝２．９Ｈｚ）、７．０１ （ＩＨ、
ｄ 、 Ｊ＝９Ｈｚ ）Ｒｆ＝０．４４０の異性体の物
理恒数 １、ＲスペクトルＶ”ｑＣｒｒＬ−’ ： ２．２９０
（ｗ）、 １７５２゜１６３８．１６１４．１５９０ Ｍ５スにクトルｍ／ｅ ：４６０（Ｍ＋）、４４５゜４
０３ （Ｍ＋＋ｔＢｕ ） ＮＭＲス４クトル（ＣＤＣ４５）δｐｐｍ ：０．０４
（３Ｈ，ｓ）、０．０６（３Ｈ，ｓ）、０．８５（９Ｈ
，ｓ）、１．１７ （３Ｈ。
）、６３２（ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝２Ｈｚ ）、Ｃ３２（
ＩＨ、ｄｄ 、Ｊ＝２．９Ｈｚ）、７．０１ （ＩＨ、
ｄ 、 Ｊ＝９Ｈｚ ）Ｒｆ＝０．４４０の異性体の物
理恒数 １、ＲスペクトルＶ”ｑＣｒｒＬ−’ ： ２．２９０
（ｗ）、 １７５２゜１６３８．１６１４．１５９０ Ｍ５スにクトルｍ／ｅ ：４６０（Ｍ＋）、４４５゜４
０３ （Ｍ＋＋ｔＢｕ ） ＮＭＲス４クトル（ＣＤＣ４５）δｐｐｍ ：０．０４
（３Ｈ，ｓ）、０．０６（３Ｈ，ｓ）、０．８５（９Ｈ
，ｓ）、１．１７ （３Ｈ。
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２，４
Ｉ４ｚ）、３．３８（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ
）、３．７８（３Ｈ。
Ｉ４ｚ）、３．３８（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ
）、３．７８（３Ｈ。
Ｓ）、４．１１ （Ｉ Ｈ１ｍ 、Ｃｓ−Ｈ）、４．２
１ （２Ｈ、ｂ＠）、４３８（ＩＨｌｄｄ、Ｊ＝２．１
０Ｈ２，Ｃ４−Ｈ）、５．０８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈ
ｚ）、６．３２（、ＬＨ，ｄ。
１ （２Ｈ、ｂ＠）、４３８（ＩＨｌｄｄ、Ｊ＝２．１
０Ｈ２，Ｃ４−Ｈ）、５．０８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈ
ｚ）、６．３２（、ＬＨ，ｄ。
Ｊ＝２Ｈｚ）、６．３２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．９Ｈｚ
）、７．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） 実施例 ９゜ ［３８−［：３α（Ｓ＊） 、 ４β］〕−メチル［：
１−（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒド
ロキシエチル）−２−アゼチジノン〕−４−イルジチオ
アセテートｑ３および（３ｓ−［３α（８勺、４β〕〕
−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−（２−メチルチオ−２−アゼト
キシメチルチオビニル）−２−アゼチジノンａ４ アセトキシメチル化合物（ロ）４８Ｔｎ９のメチルアル
コール（２，５ゴ）溶液に、２０チ塩酸１−を添加し室
温で一時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し
、炭酸水素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗浄した
のち無水硫酸マグネシラムで乾燥した。減圧下、溶媒を
蒸発した残渣をシリカデル薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒ニジクロヘキサン−酢酸エチル１ ：９）にて精
製すると、ジチオエステル化合物（ト）が１５１ｎ９、
及び出発物質の脱シリル化合物α◆が４ｍｇ得られた。
）、７．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） 実施例 ９゜ ［３８−［：３α（Ｓ＊） 、 ４β］〕−メチル［：
１−（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒド
ロキシエチル）−２−アゼチジノン〕−４−イルジチオ
アセテートｑ３および（３ｓ−［３α（８勺、４β〕〕
−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−（２−メチルチオ−２−アゼト
キシメチルチオビニル）−２−アゼチジノンａ４ アセトキシメチル化合物（ロ）４８Ｔｎ９のメチルアル
コール（２，５ゴ）溶液に、２０チ塩酸１−を添加し室
温で一時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し
、炭酸水素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗浄した
のち無水硫酸マグネシラムで乾燥した。減圧下、溶媒を
蒸発した残渣をシリカデル薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒ニジクロヘキサン−酢酸エチル１ ：９）にて精
製すると、ジチオエステル化合物（ト）が１５１ｎ９、
及び出発物質の脱シリル化合物α◆が４ｍｇ得られた。
ジチオエステル化合物Ｃ１１の物理恒数Ｎ１−〆］】：
セ□スイクトル（ＣＤＣ２３）６２１１ｍ 二１．１２
（３Ｈ。
セ□スイクトル（ＣＤＣ２３）６２１１ｍ 二１．１２
（３Ｈ。
ｄ 、Ｊ ＝６．５ Ｈｚ 、ＯＨ５）、２．５９（３
１１、ｓ 、 ＳＣ馬）２８〜３．５（３Ｈ２ｍ、３−
Ｈ１ＣＨ２Ｃ８）、３７８（３Ｈ、ｓ 、 ＯＭｅ ）
、３．８１（３Ｈ，ｓ、ＯＭｅ）、３．７〜４．２ （
２Ｈ、ｍ 、 ４−Ｈ、Ｃ馬ＣＨ（ＯＨ） ）、４１０
゜４．５１（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝−１４Ｈｚ、ＮＣＨ
２）、６．３〜７．２ （３Ｈ、ｍ 、 ｐｈｅｒ＋ｙ
ｌ ）ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ３函−’ ：３４２０
，１７２０゜ａｘ １６２０．１５００ ＭＳスペクトルｒｒＶ′ｅ ： ３６９ （Ｍ”）脱シ
リル化合物ｑ４の物理恒数 ＮＭＲスＪクトｐｖ（ＣＤＣＬ、）δｐｐｍ ： １．
２４ （３Ｈ。
１１、ｓ 、 ＳＣ馬）２８〜３．５（３Ｈ２ｍ、３−
Ｈ１ＣＨ２Ｃ８）、３７８（３Ｈ、ｓ 、 ＯＭｅ ）
、３．８１（３Ｈ，ｓ、ＯＭｅ）、３．７〜４．２ （
２Ｈ、ｍ 、 ４−Ｈ、Ｃ馬ＣＨ（ＯＨ） ）、４１０
゜４．５１（２Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝−１４Ｈｚ、ＮＣＨ
２）、６．３〜７．２ （３Ｈ、ｍ 、 ｐｈｅｒ＋ｙ
ｌ ）ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ３函−’ ：３４２０
，１７２０゜ａｘ １６２０．１５００ ＭＳスペクトルｒｒＶ′ｅ ： ３６９ （Ｍ”）脱シ
リル化合物ｑ４の物理恒数 ＮＭＲスＪクトｐｖ（ＣＤＣＬ、）δｐｐｍ ： １．
２４ （３Ｈ。
ｄ、Ｊ＝６Ｈ３，ＯＨ５）、１．９９ （３Ｈ、ｓ 、
Ｃ０ＣＨｓ ）、２、１２ （３Ｈ、ｓ 、５ＣＨｓ
）、２．７６−２．９５（ＩＨ。
Ｃ０ＣＨｓ ）、２、１２ （３Ｈ、ｓ 、５ＣＨｓ
）、２．７６−２．９５（ＩＨ。
ｍ、３Ｈ）、３．７６（６Ｈ，ｓ、ＯＭｅ）、４．２３
（２Ｈ＊ ｍ 、 ＮＣＨ２）、５．１８ （２Ｈ、ｓ
、５ＣＨ２） １５．４８（ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝９．
５Ｈｚ 、 ｖｌｎｙｌ−Ｈ）、６２〜７．１ （３Ｈ
、ｍ 、 ｐｈｅｎｙ＋ ）ＭＳスペクトルｍ／ｅ ：
’ ４４１ （Ｍ”）特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士樫山庄治
（２Ｈ＊ ｍ 、 ＮＣＨ２）、５．１８ （２Ｈ、ｓ
、５ＣＨ２） １５．４８（ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝９．
５Ｈｚ 、 ｖｌｎｙｌ−Ｈ）、６２〜７．１ （３Ｈ
、ｍ 、 ｐｈｅｎｙ＋ ）ＭＳスペクトルｍ／ｅ ：
’ ４４１ （Ｍ”）特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士樫山庄治
Claims (3)
- （１）一般式 〔式中、Ｒ１は、水素原子またはアミドＮＨ基の保護基
もしくは置換基を Ｒ２は、水素原子または水酸基の保
護基を Ｈ５は、水素原子、アルキル基またはアリール
基を Ｈ４およびＲ５は、同一または異なる水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、芳香族複素環
チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、アルコキシカ
ルがニル基、アルキルチオカルビニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アミノ基、アミド基、ハロゲン原子
、カルボキシ基、シアノ基またはニトロ基を示す。〕を
有する化合物。 - （２）一般式 〔式中 Ｒ１は、水素原子またはアミドＮＨ基の保護基
もしくは＠換基を＋ Ｒ２は、水素原子またけ水酸基の
置換基を １５は、水素原子、アルキル基またはアリー
ル基を示す。〕を有する化合物に 一般式 ％式％（） −〔式中 Ｒ４およびＲ５は、同一または異なる水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、芳香族複
素環チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、アルコキ
シ力ルゲニル基、アルキルチオカルボニル基、アシルオ
キシ基、アシルチオ基、アミン基、アミド基、ハロゲン
原子、カルボキシ基、シアン基またはニトロ基ｔ” ＊
Ｒ６は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基またはアミン基を示す。〕 または、一般式 〔式中、Ｒ４およびＲ５は、前述したものと同意義を
Ｒ７は、アルキル基またはアリール基を。 Ｘはハロゲン原子を示す。〕を塩基で処理して得られる
Ｈｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍｏｎｓ試薬またはＷｉｔｔｉｇ試
薬を反応させることを特徴とする一般式■〔式中、Ｒ１
，Ｒ２，Ｒ’ 、 Ｒ’およびＲ５は、前述したものと
同意義を示す。〕を有する化合物の製造法。 - （３）一般式 の保護基もしくは置換基を＋ Ｒ２は、水素原子または
水酸基の保護基を Ｒ３は、水素原子、アルキル基また
はアリール基を Ｒ４およびＲ５は、同一または異なる
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、芳
香族複素環チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、ア
シルオキシ基、アシルチオ基、アミン基、アミド基、ハ
ロダン原子、カルボキシ基、シアン基またはニトロ基を
示す。〕を有する化合物を加水分解して、一般式（Ｖ） 〔式中、Ｒ’ ＊ Ｒ２およびＲ３は、前述したものと
同意義を Ｒ８は、前述したＲ４またはＲ５と同意義を
、Ｙは、酸素または硫黄原子を示プ“。〕を有する化合
物へ導く製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152700A JPS6045559A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | β−ラクタム化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152700A JPS6045559A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | β−ラクタム化合物およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045559A true JPS6045559A (ja) | 1985-03-12 |
| JPH03385B2 JPH03385B2 (ja) | 1991-01-07 |
Family
ID=15546230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58152700A Granted JPS6045559A (ja) | 1983-08-22 | 1983-08-22 | β−ラクタム化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045559A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62289558A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-16 | Sagami Chem Res Center | β−ラクタム化合物およびその製造方法 |
| US5112966A (en) * | 1984-10-31 | 1992-05-12 | Sumitomo Pharmaceuticals Company, Limited | Beta-lactams |
| US5115651A (en) * | 1989-10-05 | 1992-05-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Drum-type washing machine |
-
1983
- 1983-08-22 JP JP58152700A patent/JPS6045559A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5112966A (en) * | 1984-10-31 | 1992-05-12 | Sumitomo Pharmaceuticals Company, Limited | Beta-lactams |
| JPS62289558A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-16 | Sagami Chem Res Center | β−ラクタム化合物およびその製造方法 |
| US5115651A (en) * | 1989-10-05 | 1992-05-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Drum-type washing machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03385B2 (ja) | 1991-01-07 |
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