JPS6046557A - 湿し水不要平版印刷原版 - Google Patents
湿し水不要平版印刷原版Info
- Publication number
- JPS6046557A JPS6046557A JP15302983A JP15302983A JPS6046557A JP S6046557 A JPS6046557 A JP S6046557A JP 15302983 A JP15302983 A JP 15302983A JP 15302983 A JP15302983 A JP 15302983A JP S6046557 A JPS6046557 A JP S6046557A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- rubber layer
- silicone rubber
- layer
- dampening water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、感光波長域をカットする保護カバーを用いる
ことを特徴とする湿し水不要平版印刷原版に関する。
ことを特徴とする湿し水不要平版印刷原版に関する。
従来、シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水不
要平版印刷原版としては種々のものが知られているが、
なかでも支持体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴ
ム層を設けてなる湿し水不要平版印刷版については過去
にいくつが提案されている。
要平版印刷原版としては種々のものが知られているが、
なかでも支持体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴ
ム層を設けてなる湿し水不要平版印刷版については過去
にいくつが提案されている。
たとえば、ネガ型に作用する版材としては、支持体上に
設けた光剥離性感光層上にシリコーンゴム層を設けて予
備増感されたものが、特開昭56−80046で提案さ
れている。また特開昭55−110249には支持体に
裏打ちされた光剥離性感光層上にアミノシランを含むシ
リコーンゴム層を設けてなる平版印刷版が提案されてい
る。
設けた光剥離性感光層上にシリコーンゴム層を設けて予
備増感されたものが、特開昭56−80046で提案さ
れている。また特開昭55−110249には支持体に
裏打ちされた光剥離性感光層上にアミノシランを含むシ
リコーンゴム層を設けてなる平版印刷版が提案されてい
る。
さらにポジ型に作用する版材としてはUSP−3677
18にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版が提案され
ている。
18にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版が提案され
ている。
このような印刷版において、該シリコーンゴム層上に保
護フィルムを設けるのが一般的であるが。
護フィルムを設けるのが一般的であるが。
白色灯照明の暗室で印刷原版を取扱うと曝光され。
使用不能になる。そのためPS版と同様、黄色螢光灯や
退色防止帯光灯のもとで取扱う必要がある。
退色防止帯光灯のもとで取扱う必要がある。
白色灯下でも取扱える明室安定性の良好な湿し水不要平
版印刷原版を得ることである。
版印刷原版を得ることである。
本発明は最−ヒ層にシリコーンゴム層を有する湿し水不
要平版印刷原版において、該シリコーンゴム層上に波長
が5000A以下の光線を60%以上カットする保護カ
バーを積層することを特徴とする湿し水不要平版印刷原
版に関するものである。
要平版印刷原版において、該シリコーンゴム層上に波長
が5000A以下の光線を60%以上カットする保護カ
バーを積層することを特徴とする湿し水不要平版印刷原
版に関するものである。
本発明において使用される保護カバーとしては波長が5
000A以下の光線を60%以上カットできるものであ
り、たとえば、無機顔料(セラミックブラック、アイア
ンオキサイド、チタニウムオキサイド、ジンクオキサイ
ドなど)、有機顔料(カーボンブランク、ボーンブラッ
クなど)、紫外線吸収剤(2−(2/−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキ
シペンゾフエノン、フェニルサリチレートなト)するい
は染料等を混入したポリエステル、ポリスチレン、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロンポリプロピレン、
ポリカーボネート、セロハン。
000A以下の光線を60%以上カットできるものであ
り、たとえば、無機顔料(セラミックブラック、アイア
ンオキサイド、チタニウムオキサイド、ジンクオキサイ
ドなど)、有機顔料(カーボンブランク、ボーンブラッ
クなど)、紫外線吸収剤(2−(2/−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキ
シペンゾフエノン、フェニルサリチレートなト)するい
は染料等を混入したポリエステル、ポリスチレン、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロンポリプロピレン、
ポリカーボネート、セロハン。
セルローズトリアセテート等のフィルム、合成紙紙、ア
ルミコート紙、フィルムコート終等が挙げられる。
ルミコート紙、フィルムコート終等が挙げられる。
上記の保護カバーは波長が5000X以下の光線を全部
カットするものは非常に好ましいが、少なくとも60%
以上カットする必要があり、好ましくは80%以上カッ
トするものが有効である。
カットするものは非常に好ましいが、少なくとも60%
以上カットする必要があり、好ましくは80%以上カッ
トするものが有効である。
保護カバーの厚みとしてI′i特に制限はないが。
取扱い上1〜300μ、より好ましくは6〜150μで
ある。
ある。
本発明が適用される湿し水不要平版印刷原版は。
基板に裏打ちされた感光性シリコーンゴム層を有するも
のであってもよいし、またシリコーンゴム層下に必要な
らば接着層を介して基板に裏打ちされた公知の感光層を
有するものであってもよい。
のであってもよいし、またシリコーンゴム層下に必要な
らば接着層を介して基板に裏打ちされた公知の感光層を
有するものであってもよい。
以下に上記の湿し水不要平版印刷原版を構成する基板、
感光性を有するシリコーンゴム層、感光層およびシリコ
ーンゴム層について説明する。
感光性を有するシリコーンゴム層、感光層およびシリコ
ーンゴム層について説明する。
基板としては、厚さが約10μ〜2 mm 、好ましく
は約50〜500μの紙、プラスチックフィルムもしく
はソート、金属板などが適当であるが。
は約50〜500μの紙、プラスチックフィルムもしく
はソート、金属板などが適当であるが。
ゴム弾性を有する基板、シリンダー状の基板を用いても
よい。
よい。
感光性シリコーンゴム層ハシリコーンゴム層そのものが
感光性のものであって、この場合には感光層は不要であ
る。感光性シリコーンゴムとしては、ジメチルポリシロ
キサンの末端OH基にγ−メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン。
感光性のものであって、この場合には感光層は不要であ
る。感光性シリコーンゴムとしては、ジメチルポリシロ
キサンの末端OH基にγ−メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン。
あるいはモノノンナモイルジエトキシシランヲ脱アルコ
ール縮合させた化合物、またポリジオルガノシロキサン
にビスアジド化合物を添加、あるいは、アクリロイルク
ロリドやp−アジドベンゾエートを反応させた化合物な
どを挙げることができる。
ール縮合させた化合物、またポリジオルガノシロキサン
にビスアジド化合物を添加、あるいは、アクリロイルク
ロリドやp−アジドベンゾエートを反応させた化合物な
どを挙げることができる。
また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混合して感
光性シリコーンゴム層として使用することもできる。
光性シリコーンゴム層として使用することもできる。
感光層は活性な光線を照射することにより光硬化または
光度溶化する性質を有する層である。その厚さは任意で
あるが、好ましくは約100μ以下であり、さらに好ま
しくは約05〜10μのものがさらに有用である。
光度溶化する性質を有する層である。その厚さは任意で
あるが、好ましくは約100μ以下であり、さらに好ま
しくは約05〜10μのものがさらに有用である。
感光性物質としては1次のような構成のものが適当であ
る。
る。
(1) ジアゾ化合物
p−ジアゾジフェニルアミンのアルデヒド(ホルムアル
デヒドなど)縮合体のようなジアゾ樹脂。
デヒドなど)縮合体のようなジアゾ樹脂。
ジアゾ化ノボラック樹脂、p−ジアゾキノン、p−イミ
ノジアゾキノン、ジアゾニウム塩とポリビニルアルコー
ルとからなる感光性組成物、ポリ(ヒドロキシエチルメ
タクリレート)とジアゾ樹脂など。
ノジアゾキノン、ジアゾニウム塩とポリビニルアルコー
ルとからなる感光性組成物、ポリ(ヒドロキシエチルメ
タクリレート)とジアゾ樹脂など。
(2) オルトキノンジアジド類
オルトキノンジアジド系の感光性物質、オルトナフトキ
ノンジアジドとノボラックタイプのフェノール樹脂とか
らなる感光性組成物、キノンジアジドスルホン酸とノボ
ラック樹脂のエステル、キノンジアジドスルホン酸とポ
リアミノスチレンとのスルホンアミド、キノンジアジド
スルホン酸とポリヒドロキシスチレンとのエステル、キ
ノンジアジドスルホン酸とポリ−p−ヒドロキシメタク
リルアニリドなど。
ノンジアジドとノボラックタイプのフェノール樹脂とか
らなる感光性組成物、キノンジアジドスルホン酸とノボ
ラック樹脂のエステル、キノンジアジドスルホン酸とポ
リアミノスチレンとのスルホンアミド、キノンジアジド
スルホン酸とポリヒドロキシスチレンとのエステル、キ
ノンジアジドスルホン酸とポリ−p−ヒドロキシメタク
リルアニリドなど。
(3) アジド類(スルボニルアジド、カルボニルアジ
ドを含む) 4.4/−ジアジドスチルベン−2,2/−ジスルホン
酸の如き水溶性芳香族アジド化合物とアクリルアミドや
アクリル系モノマの共重合性ポリマの混合物、2,6−
ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチルノロキサンや
4,4/−ジアジドベンゾフェノンの如き非水溶性芳香
族アジド化合物とポリビニルピロリドンもしくはその共
重合体との混合物、ポリビニル−p−アジドベンゾエー
トやp−アジドベンズアルデヒドでアセタール化したポ
リビニル−p−アジドベンザールなど。
ドを含む) 4.4/−ジアジドスチルベン−2,2/−ジスルホン
酸の如き水溶性芳香族アジド化合物とアクリルアミドや
アクリル系モノマの共重合性ポリマの混合物、2,6−
ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチルノロキサンや
4,4/−ジアジドベンゾフェノンの如き非水溶性芳香
族アジド化合物とポリビニルピロリドンもしくはその共
重合体との混合物、ポリビニル−p−アジドベンゾエー
トやp−アジドベンズアルデヒドでアセタール化したポ
リビニル−p−アジドベンザールなど。
(4) ジアゾ化合物と無機酸あるいは有機酸とのコン
プレックス ジアゾジフェニルアミンとリンタングステン酸との感光
性コンプレックスなどが挙げられる。
プレックス ジアゾジフェニルアミンとリンタングステン酸との感光
性コンプレックスなどが挙げられる。
(5)1分子中に不飽和基などを2つ以上有する多官能
性のモノマーやオリゴマーなどを適当なポリマーバイン
ダーと混合したもの。
性のモノマーやオリゴマーなどを適当なポリマーバイン
ダーと混合したもの。
代表的な光重合性の不飽和基としては、ア、クリロイル
基、メタクリロイル基、アクリルアミド基。
基、メタクリロイル基、アクリルアミド基。
マレイン酸エステル基、アリル基、ビニルエーテル基、
ビニルチオエーテル基、ビニルアミノ基。
ビニルチオエーテル基、ビニルアミノ基。
グリシジル基、アセチレン性不飽和基などが挙げられる
。
。
(6) 既存の高分子に感光性の基をぺ/ダントさせる
ことにより得られる感光性高分子、あるいはそれを改質
したもの。
ことにより得られる感光性高分子、あるいはそれを改質
したもの。
代表的な感光性の基としては、オレフィン基。
シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、フエ=
/I/ 7 シトM r ”アソ基、α−フェニルマレ
イミド基などが挙、けられる。
/I/ 7 シトM r ”アソ基、α−フェニルマレ
イミド基などが挙、けられる。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は9通常約0.5
〜100μ、好ましくは約0.5〜60μの厚みを有し
1次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十刃
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
〜100μ、好ましくは約0.5〜60μの厚みを有し
1次のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十刃
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
(ここで、nは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のア
ルキル基、アルクニル基あるいはアリール基であり、R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい) この線状有機ポリシロキサンには1通常架橋剤。
ルキル基、アルクニル基あるいはアリール基であり、R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい) この線状有機ポリシロキサンには1通常架橋剤。
触媒等が添加される。
架橋剤としては、たとえばアセトキシシラン。
ケトオキシムンラン、アルコキシシラン、アミノシラン
などが、また触媒としては、たとえば有機スズ化合物等
が用いられる。
などが、また触媒としては、たとえば有機スズ化合物等
が用いられる。
シリコーンゴム層の厚さは05〜20μが望ましい。ま
た必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層間あるいは
シリコーンゴム層または感光層と基板間の接着のために
1層間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカップ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光
層に公知のシリコーンプライマ′やシランカップリング
剤を添加することも効果的である。
た必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層間あるいは
シリコーンゴム層または感光層と基板間の接着のために
1層間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカップ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光
層に公知のシリコーンプライマ′やシランカップリング
剤を添加することも効果的である。
次に本発明の湿し水不要平版印刷原版の製造方法の手順
について説明する。
について説明する。
まず基板の上に、リバースロールコータ、エアーナイフ
コータなどの通常のコータあるいはボエラのような回転
塗布装置を用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布
、乾燥および必要に応じて熱キュア後、シリコーンガム
溶液を感光層上に同様の方法で塗布し2通常100〜1
20℃の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめて
シリコーンゴム層を形成する。
コータなどの通常のコータあるいはボエラのような回転
塗布装置を用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布
、乾燥および必要に応じて熱キュア後、シリコーンガム
溶液を感光層上に同様の方法で塗布し2通常100〜1
20℃の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめて
シリコーンゴム層を形成する。
次に保護層として、波長が5000A以下の光線を60
チ以上カットする保護カバーをシリコーンゴム層上にラ
ミネータ等を用いて張り合わせることにより湿し水不要
平版印刷原版が得られる。
チ以上カットする保護カバーをシリコーンゴム層上にラ
ミネータ等を用いて張り合わせることにより湿し水不要
平版印刷原版が得られる。
このようにして得られた湿し水不要平版印刷原版は、保
護カバーを剥離し、真空密着された原画フィルムを通し
て活性光線で露光される。露光後。
護カバーを剥離し、真空密着された原画フィルムを通し
て活性光線で露光される。露光後。
湿し水不要平版印刷版にとって公知の現像液で現像する
ことにより印刷版が得られる。
ことにより印刷版が得られる。
本発明になる湿し水不要平版印刷原版によれば次のよう
な効果が達成される。
な効果が達成される。
(1) 明室灯下に印刷原版を放置しておいても活性光
線があたらないため印刷原版が使用不能になることはな
い。
線があたらないため印刷原版が使用不能になることはな
い。
(2)製造工程での印刷原版のカッティング梱包作業な
どを明室下で行なえるため1作業能率が向上する。
どを明室下で行なえるため1作業能率が向上する。
(3) 印刷原版へのゴミ等の異物の付着防止などに効
果が発揮できる。
果が発揮できる。
以下実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1〜4 比較例1,2
化成処理アルミ板(住友軽金属製:厚さ0.24−)に
下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃・2分加熱
処理して厚さ2.2μの感光層を設けた。
下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃・2分加熱
処理して厚さ2.2μの感光層を設けた。
(a)エステル化度44%のフェノールノボラック樹脂
(スミライトレジンpR5023,5,住友デュレズ製
)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル 100部(b) 4* ”−ジフェニルメタ
ンジイソシアナートろ 0部 (C) パラトルエンスルホン (d) ジブチルスズジアセテート 02部(θ) テ
トラヒドロフラン 2000音す続いてこの上に下記の
シリコーンゴム組成物を回転塗布後,120℃・3分で
力n熱硬イヒして厚み2、6μのシリコーンゴム層を設
けた。
(スミライトレジンpR5023,5,住友デュレズ製
)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
エステル 100部(b) 4* ”−ジフェニルメタ
ンジイソシアナートろ 0部 (C) パラトルエンスルホン (d) ジブチルスズジアセテート 02部(θ) テ
トラヒドロフラン 2000音す続いてこの上に下記の
シリコーンゴム組成物を回転塗布後,120℃・3分で
力n熱硬イヒして厚み2、6μのシリコーンゴム層を設
けた。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部(分子量約
so,ooo末端水酸基) (b) ビニルトリメチルエチルケト 8部オキシムシ
ラン (C) ジブチルスズジアセテー) 0. 2 部(d
) γーアミノプロピルトリメト 2部キシシラン (θ) アイツノニーE 1soo部 さらに,このシリコーンゴム層の上に表1に示す保護カ
バーをラミネータで張り合わせ,湿し水不要平版印刷原
版を作成した。
so,ooo末端水酸基) (b) ビニルトリメチルエチルケト 8部オキシムシ
ラン (C) ジブチルスズジアセテー) 0. 2 部(d
) γーアミノプロピルトリメト 2部キシシラン (θ) アイツノニーE 1soo部 さらに,このシリコーンゴム層の上に表1に示す保護カ
バーをラミネータで張り合わせ,湿し水不要平版印刷原
版を作成した。
上記のようにして得られた湿し水不要子n反印届11原
版を白色灯下1.5mの所に放置し曝光許容時間を調べ
た。曝光許容時間は現像液でグレースケール感度を評価
したとき曝光の有無によるグレースケール感度の変化幅
を2以下となる時間とする。
版を白色灯下1.5mの所に放置し曝光許容時間を調べ
た。曝光許容時間は現像液でグレースケール感度を評価
したとき曝光の有無によるグレースケール感度の変化幅
を2以下となる時間とする。
実施例1のように活性光線をまったく通さない場合は曝
光許容時間が大幅に改善されている。また実施例2〜4
の如き5000X以下の波長のカット率が小さくなるに
したがって曝光許容時間が短くなったが,実用性を有す
る保護カバーであると判断される。
光許容時間が大幅に改善されている。また実施例2〜4
の如き5000X以下の波長のカット率が小さくなるに
したがって曝光許容時間が短くなったが,実用性を有す
る保護カバーであると判断される。
一方,比較例のポリプロピレンまたは保護カバーなしの
場合においては曝光許容時間が3〜5分と非常に短かっ
た。
場合においては曝光許容時間が3〜5分と非常に短かっ
た。
実施例5 比較例3
厚み0.24 mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾ
ール樹脂(スミライトレジンPC−1:住友デュレズ製
)を1μの厚みに塗布し、180r:で6分間キュアし
て基板とした。この基板にエステル化度44%の7エノ
ールノボラツク樹脂(住人デュレズ製:スミレジンPR
50235)のナフトキノン−1,2−、、>アジド−
5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分97重
量%、エステル化度はIRスペクトルから定量)の6重
量係ジオキサン溶液をホエラで回転塗布、乾燥させて2
μの感光層を形成した。この上に次の組成物を回転塗布
後、12DC・4分で加熱硬化して厚み25μのシリコ
ーンゴム層を設けた。
ール樹脂(スミライトレジンPC−1:住友デュレズ製
)を1μの厚みに塗布し、180r:で6分間キュアし
て基板とした。この基板にエステル化度44%の7エノ
ールノボラツク樹脂(住人デュレズ製:スミレジンPR
50235)のナフトキノン−1,2−、、>アジド−
5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分97重
量%、エステル化度はIRスペクトルから定量)の6重
量係ジオキサン溶液をホエラで回転塗布、乾燥させて2
μの感光層を形成した。この上に次の組成物を回転塗布
後、12DC・4分で加熱硬化して厚み25μのシリコ
ーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部(分子量約
30,000.末端OH基)(b) メチルトリアセト
キシシラン 6部(C) ジブチルススジアセテート
02部(d) γ−アミノプロピルトリエト 35部キ
7ンラン (θ)アイソパーE 1500部 次いでこのシリコーンゴム層上に実施例1で用いたカー
ボンブラックを混入したルミラー(50μ)をラミネー
タで張り合わせて湿し水不要平版印刷原版を作成した。
30,000.末端OH基)(b) メチルトリアセト
キシシラン 6部(C) ジブチルススジアセテート
02部(d) γ−アミノプロピルトリエト 35部キ
7ンラン (θ)アイソパーE 1500部 次いでこのシリコーンゴム層上に実施例1で用いたカー
ボンブラックを混入したルミラー(50μ)をラミネー
タで張り合わせて湿し水不要平版印刷原版を作成した。
上記のようにして得られた湿し水不要平版印刷原版を明
室下に数日放置してから、ルミラーを剥いで150線/
インチの網点画像を持つネガフィルムを通してメタルハ
ライドランプ(岩崎電気製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離から60秒照射した。次いで、この露
光された印刷原版は、エタノール/アイソパーE (6
5/ 35重量比)からなる現像液を用いて現像したと
ころ。
室下に数日放置してから、ルミラーを剥いで150線/
インチの網点画像を持つネガフィルムを通してメタルハ
ライドランプ(岩崎電気製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離から60秒照射した。次いで、この露
光された印刷原版は、エタノール/アイソパーE (6
5/ 35重量比)からなる現像液を用いて現像したと
ころ。
露光部は容易に除去されて基板が露出し、一方。
未露光部はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネ
ガフィルムを忠実に再現した画像を持つ印刷原版が得ら
れた。
ガフィルムを忠実に再現した画像を持つ印刷原版が得ら
れた。
一方、比較例として保護カバーを剥いだ湿し水不要平版
印刷原版を明室下に10分間放置した後。
印刷原版を明室下に10分間放置した後。
上記に示したように露光、現像したところ9本来非画線
部となるべきシリコーン層までが除去され。
部となるべきシリコーン層までが除去され。
印刷版を得ることができなかった。
特許出願人 東 し 株 式 会 社
Claims (1)
- 最上層にシリコーンゴム層を有する湿し水不要平版印刷
原版において、該シリコーンゴム層上に波長が5000
A以下の光線を60%以上カットする保護カバーを積層
したことを特徴とする湿し水不要平版印刷原版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15302983A JPS6046557A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 湿し水不要平版印刷原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15302983A JPS6046557A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 湿し水不要平版印刷原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046557A true JPS6046557A (ja) | 1985-03-13 |
Family
ID=15553406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15302983A Pending JPS6046557A (ja) | 1983-08-24 | 1983-08-24 | 湿し水不要平版印刷原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046557A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02235064A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| JPH04299351A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成用感光性積層材料 |
| JPH0779030A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-03-20 | Man Roland Druckmas Ag | Pzt層の製造方法 |
-
1983
- 1983-08-24 JP JP15302983A patent/JPS6046557A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02235064A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| JPH04299351A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成用感光性積層材料 |
| JPH0779030A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-03-20 | Man Roland Druckmas Ag | Pzt層の製造方法 |
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