JPS6046701B2 - 光感受性エレメント - Google Patents
光感受性エレメントInfo
- Publication number
- JPS6046701B2 JPS6046701B2 JP53047622A JP4762278A JPS6046701B2 JP S6046701 B2 JPS6046701 B2 JP S6046701B2 JP 53047622 A JP53047622 A JP 53047622A JP 4762278 A JP4762278 A JP 4762278A JP S6046701 B2 JPS6046701 B2 JP S6046701B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive layer
- nitro
- dihydro
- furyl
- pyridine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- -1 dihydropyridine compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical group CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MPFLRYZEEAQMLQ-UHFFFAOYSA-N dinicotinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CN=CC(C(O)=O)=C1 MPFLRYZEEAQMLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001054 5 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004008 6 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- PGGQCHVPWSXPSI-UHFFFAOYSA-N diethyl pyridine-3,5-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CN=CC(C(=O)OCC)=C1 PGGQCHVPWSXPSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPMUZECMAFLDQO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hexanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCC WPMUZECMAFLDQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical class CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- WJYYUEQVECTILJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diiodo-2,5-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(I)=C(C)C=C1I WJYYUEQVECTILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOKXCKZXSBBOPC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-1-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1N2C(=C(N=C2C=2C(=CC=CC=2)Cl)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 VOKXCKZXSBBOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXINBFXPADXIEY-UHFFFAOYSA-N 5-Nitrofurfural Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C=O)O1 SXINBFXPADXIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYDWQPKRHOGLPA-UHFFFAOYSA-N 5-nitroimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CN=CN1 VYDWQPKRHOGLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 241000269821 Scombridae Species 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- AVYKQEYOWOHDCW-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid;2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCCC(O)=O.CCCCCC(O)=O.OCCOCCOCCO AVYKQEYOWOHDCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 235000020640 mackerel Nutrition 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitramide Chemical compound [O-][N+](=O)NC1=CC=CC=C1 VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC(C)(C)C JKUYRAMKJLMYLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規の光惑受性エレメント、そしてより詳し
くは陽画として作用する光惑受性エレメントに関する。
くは陽画として作用する光惑受性エレメントに関する。
光感受性組成物に対して活性な放射の影響下にその溶解
度を変化するように光感受性組成物は画像複製技術にお
いて既知である。適当な溶媒中におけるその組成物の溶
解度が低下するかまたは上昇するかによつてそれぞれ陰
画的にまたは陽画的に働く画像が形成される。原図の陰
画像を生成する組成物は、陽画像を生成する組成物より
はるかに一般的である。陽画的に働く系の一つは、o−
キノンジアジドの光分解に基づいている。
度を変化するように光感受性組成物は画像複製技術にお
いて既知である。適当な溶媒中におけるその組成物の溶
解度が低下するかまたは上昇するかによつてそれぞれ陰
画的にまたは陽画的に働く画像が形成される。原図の陰
画像を生成する組成物は、陽画像を生成する組成物より
はるかに一般的である。陽画的に働く系の一つは、o−
キノンジアジドの光分解に基づいている。
そこで生ずる光分解生成物は、水性アルカリ中において
出発化合物よりも一層可溶性である。他の陽画的に働く
系は米国特許第3782951号明細書に開示されてい
るが、これはヘキサアリールジイミダゾール、水素供与
体、エチレン性不飽和化合物および有機重合体結合剤の
組成物を記載している。更に別の陽画として働く組成物
はドイツ国特出願公開(0S)第2242106号明細
書に知られている。
出発化合物よりも一層可溶性である。他の陽画的に働く
系は米国特許第3782951号明細書に開示されてい
るが、これはヘキサアリールジイミダゾール、水素供与
体、エチレン性不飽和化合物および有機重合体結合剤の
組成物を記載している。更に別の陽画として働く組成物
はドイツ国特出願公開(0S)第2242106号明細
書に知られている。
この組成物は、1・4−ジヒドロー4−(2″−ニトロ
フェニル)ピリジンを光感受性化合物として含有してお
り、そして第一義的にこれは比較的高い光感受性を生じ
且つ比較的簡単な処理のみを必要とする点で優れている
。しかしながら、この組成物に伴なう不利点は、露出画
像領域と未露光画像領域との間の有効溶解度差が多くの
実際的応用に充分な程度に大きくないということである
。この溶解度差の小さい結果として、現像工程の間にレ
リーフ画像形成の完了前に未露光領域は溶解し始めて劣
悪な形成レリーフ、薄い層および低下した画像鮮明さ(
シャープ)を招来する。これらの欠陥は種々の応用にお
いて非常に不利でありうる。例えばその物質が印刷回路
製造に使用される場合には、現像後に支持体上に残留す
る感光性層は溶解し始めそして非常に薄くなりその結果
レジストパターンとしてその目的をもはや完全には満足
しなくなつてしまう。その結果、欠陥性エッチングが生
じ、これは所望の印刷回路の品質を損なう。この層がオ
フセットプレートの製造に使用される場合には、そのよ
うなプレートが受ける応用に耐えるだけの機械的強度は
ない。露光画像領域および未露光画像領域における溶解
度の実質的な差、すなわち広い処理寛容度(ラチチユー
ド)は現像操作により処理される光感受性基層が満足し
なくてはならない本質的要件である。本発明によれば、
少くとも1種の重合体状結合剤およびジヒドロピリジン
化合物を含有する光感受性層を担持する支持体を包含し
ておりしかもそのジヒドロピリジン化合物が式〔式中R
1およびR2はアルキル、アリール、置換アリールおよ
び複素環式環であり、R3およびR4はCOOR″、C
OR′(そのR″はアルキル、置換アルキルまたはアリ
ールである)およびCNであり、そしてまたR1および
R3および/またはR2およびR4は一緒になつて5ま
たは6員の炭素環式または複素環式環を形成しうる〕の
ものであるような陽画像生成用光感受性エレメントが提
供される。
フェニル)ピリジンを光感受性化合物として含有してお
り、そして第一義的にこれは比較的高い光感受性を生じ
且つ比較的簡単な処理のみを必要とする点で優れている
。しかしながら、この組成物に伴なう不利点は、露出画
像領域と未露光画像領域との間の有効溶解度差が多くの
実際的応用に充分な程度に大きくないということである
。この溶解度差の小さい結果として、現像工程の間にレ
リーフ画像形成の完了前に未露光領域は溶解し始めて劣
悪な形成レリーフ、薄い層および低下した画像鮮明さ(
シャープ)を招来する。これらの欠陥は種々の応用にお
いて非常に不利でありうる。例えばその物質が印刷回路
製造に使用される場合には、現像後に支持体上に残留す
る感光性層は溶解し始めそして非常に薄くなりその結果
レジストパターンとしてその目的をもはや完全には満足
しなくなつてしまう。その結果、欠陥性エッチングが生
じ、これは所望の印刷回路の品質を損なう。この層がオ
フセットプレートの製造に使用される場合には、そのよ
うなプレートが受ける応用に耐えるだけの機械的強度は
ない。露光画像領域および未露光画像領域における溶解
度の実質的な差、すなわち広い処理寛容度(ラチチユー
ド)は現像操作により処理される光感受性基層が満足し
なくてはならない本質的要件である。本発明によれば、
少くとも1種の重合体状結合剤およびジヒドロピリジン
化合物を含有する光感受性層を担持する支持体を包含し
ておりしかもそのジヒドロピリジン化合物が式〔式中R
1およびR2はアルキル、アリール、置換アリールおよ
び複素環式環であり、R3およびR4はCOOR″、C
OR′(そのR″はアルキル、置換アルキルまたはアリ
ールである)およびCNであり、そしてまたR1および
R3および/またはR2およびR4は一緒になつて5ま
たは6員の炭素環式または複素環式環を形成しうる〕の
ものであるような陽画像生成用光感受性エレメントが提
供される。
前記に定義された本発明の化合物は、次の表に要約され
ている。R1およびR2においてはアルキルは1〜2?
の炭素原子の範囲であり、アリールは6〜1陥の炭素原
子の範囲であり、そして置換アリールは6〜14個の炭
素原子の範囲である。R3およびR4においては、R″
は1〜4個の炭素原子数のアルキル、1〜4個の炭素原
子数の置換アルキルまたは6〜m個の炭素原子数のアリ
ールである。これらの1・4−ジヒドロー4−(5″−
ニトロー2″−フリル)ピリジンは、パンチ氏(FIa
ntzsch)のピリジン合成法によつて5−ニトロフ
ルフラール、β−ケトカルボン酸エステルまたはβ−ケ
トカルボン酸ニトリルまたはβージケトンとアンモニア
、またはβ−アミノクロトン酸エステルから製造するこ
とができる(Elderfield氏編「HeterO
cycllcCOmpOurlds」第1巻(1950
)第462頁以下参照)。
ている。R1およびR2においてはアルキルは1〜2?
の炭素原子の範囲であり、アリールは6〜1陥の炭素原
子の範囲であり、そして置換アリールは6〜14個の炭
素原子の範囲である。R3およびR4においては、R″
は1〜4個の炭素原子数のアルキル、1〜4個の炭素原
子数の置換アルキルまたは6〜m個の炭素原子数のアリ
ールである。これらの1・4−ジヒドロー4−(5″−
ニトロー2″−フリル)ピリジンは、パンチ氏(FIa
ntzsch)のピリジン合成法によつて5−ニトロフ
ルフラール、β−ケトカルボン酸エステルまたはβ−ケ
トカルボン酸ニトリルまたはβージケトンとアンモニア
、またはβ−アミノクロトン酸エステルから製造するこ
とができる(Elderfield氏編「HeterO
cycllcCOmpOurlds」第1巻(1950
)第462頁以下参照)。
1●4−ジヒドロー2●6−ジメチルー4−(5″−ニ
トロー7−フリル)ピリジンー3・5ージカルボン酸ジ
第3級ブチルエステル(表の化合物3)の合成は次に記
載されている。
トロー7−フリル)ピリジンー3・5ージカルボン酸ジ
第3級ブチルエステル(表の化合物3)の合成は次に記
載されている。
他の化合物もこれと同様にして製造される。24.4y
の5ーニトロフルフラールジアセテート、33.2yの
アセト酢酸第3級ブチルエステル、5.0yの酢酸アン
モニウムおよび5.077!tのアンモニア溶液(25
%)の溶液を40m1のピリジン中で蒸気浴に6時間加
熱する。
の5ーニトロフルフラールジアセテート、33.2yの
アセト酢酸第3級ブチルエステル、5.0yの酢酸アン
モニウムおよび5.077!tのアンモニア溶液(25
%)の溶液を40m1のピリジン中で蒸気浴に6時間加
熱する。
冷却後この溶液を1eの氷水に注ぎ、そして0℃に一晩
放置する。分離した沈殿を4回熱エタノールから再結晶
する。195℃の融点を有する黄色結晶12yが得られ
る。
放置する。分離した沈殿を4回熱エタノールから再結晶
する。195℃の融点を有する黄色結晶12yが得られ
る。
光感受性記録用エレメントの製造のためには、1・4−
ジヒドロー4−(5″−ニトロー2″−フリル)−ピリ
ジンを少くとも1種の既知の相容性有機結合剤(例えば
アルカリ可溶性結合剤)と共に支持体例えばフィルムベ
ースに通常の被覆方法例えば浸漬塗布、スピンコーティ
ング、ドクターナイフコーティング、スプレーその他に
より適用する。多数の結合剤例えばアルカリ可溶性結合
剤が前述の応用の目的に対して適当であるということが
知られている。これらの結合剤は往々にしてアルカリ可
溶性促進作用基例えば酸無水物基、カルボキシル基スル
ホン酸基その他を包含している。その例としては、アク
リル酸および/またはメタアクリル酸重合体および/ま
たはそれらの他の適当な単量体例えばアクリル酸エステ
ルまたは他のアクリル誘導体、ビニル化合物例えばビニ
ルエーテル、ビニルアセテートまたはそれらのけん化生
成物、スチレン、ビニルピロリドン、ブタジエンおよび
関連単量物との共重合体、ポリアクリル酸無水物、マレ
イン酸無水物、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、
モノアミドおよび/または無水物および関連化合物の誘
導体例えばイタコン酸と適当な共重合体例えばスチレン
、エチレン、ビニルエーテル、ビニルアセテート、その
他との共重合体、ポリスチレンスルホン酸および/また
はそれらの共重合体、セルロース誘導体例えばカルボキ
シメチルセルロース、セルロースフタレートまたはサク
シネート、アルギン酸およびそれらの誘導体があげられ
る。更に「ノボラック(NOvOlac)」の名称で知
られているフェノ−ルーホルムアルデヒド樹脂が適当で
ある。
ジヒドロー4−(5″−ニトロー2″−フリル)−ピリ
ジンを少くとも1種の既知の相容性有機結合剤(例えば
アルカリ可溶性結合剤)と共に支持体例えばフィルムベ
ースに通常の被覆方法例えば浸漬塗布、スピンコーティ
ング、ドクターナイフコーティング、スプレーその他に
より適用する。多数の結合剤例えばアルカリ可溶性結合
剤が前述の応用の目的に対して適当であるということが
知られている。これらの結合剤は往々にしてアルカリ可
溶性促進作用基例えば酸無水物基、カルボキシル基スル
ホン酸基その他を包含している。その例としては、アク
リル酸および/またはメタアクリル酸重合体および/ま
たはそれらの他の適当な単量体例えばアクリル酸エステ
ルまたは他のアクリル誘導体、ビニル化合物例えばビニ
ルエーテル、ビニルアセテートまたはそれらのけん化生
成物、スチレン、ビニルピロリドン、ブタジエンおよび
関連単量物との共重合体、ポリアクリル酸無水物、マレ
イン酸無水物、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、
モノアミドおよび/または無水物および関連化合物の誘
導体例えばイタコン酸と適当な共重合体例えばスチレン
、エチレン、ビニルエーテル、ビニルアセテート、その
他との共重合体、ポリスチレンスルホン酸および/また
はそれらの共重合体、セルロース誘導体例えばカルボキ
シメチルセルロース、セルロースフタレートまたはサク
シネート、アルギン酸およびそれらの誘導体があげられ
る。更に「ノボラック(NOvOlac)」の名称で知
られているフェノ−ルーホルムアルデヒド樹脂が適当で
ある。
本発明のエレメントの製造のためには、マレイン酸無水
物とスチレンとの共重合体が特に有利な重合体状結合剤
である。
物とスチレンとの共重合体が特に有利な重合体状結合剤
である。
1・4−ジヒドロー4(5″−ニトロー7−フリル)ピ
リジンの濃度は光感受性組成物の全重量基準て約20〜
8鍾量%である。
リジンの濃度は光感受性組成物の全重量基準て約20〜
8鍾量%である。
この光感受性化合物は単独でかまたは相互の混合物とし
て使用することができる。重合体状結合剤の濃度は組成
物の全重量基準て約20〜8呼量%である。開始剤また
は開始剤系の添加によつて光感受性層の感度を改善する
ことができる。
て使用することができる。重合体状結合剤の濃度は組成
物の全重量基準て約20〜8呼量%である。開始剤また
は開始剤系の添加によつて光感受性層の感度を改善する
ことができる。
適当な開始剤例えばベンゾフェノン、ミヒラーのケトン
、ヘキサアリールビスイミダゾールその他は文献から既
知である。ミヒラーのケトン、p−ジメチルアミノベン
ズアルデヒド、5−ニトロイミダゾールおよびニトロア
ニリンが有効であると証明されている。光感受性層はま
た、適当な染料および顔料ならびにその他の添加剤例え
ば可塑剤、接着促進剤その他を含有させることができる
。存在させる場合には、その開始剤または開始剤系は全
組成物重量基準で1鍾量%までの量て使用することがで
きる。支持体としては、写真エレメントの製造に一般に
使用されるフィルムベースを使用することができる。
、ヘキサアリールビスイミダゾールその他は文献から既
知である。ミヒラーのケトン、p−ジメチルアミノベン
ズアルデヒド、5−ニトロイミダゾールおよびニトロア
ニリンが有効であると証明されている。光感受性層はま
た、適当な染料および顔料ならびにその他の添加剤例え
ば可塑剤、接着促進剤その他を含有させることができる
。存在させる場合には、その開始剤または開始剤系は全
組成物重量基準で1鍾量%までの量て使用することがで
きる。支持体としては、写真エレメントの製造に一般に
使用されるフィルムベースを使用することができる。
適当な支持体は紙、被覆紙、金属例えはアルミニウムお
よび銅の箔およびシート、合成重合体物質例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル例えばポリエチ
レンテレフタレートおよびポリアミドの支持体ならびに
セルロースアセテート、セルロースブチレート、および
セルロースアセテートブチレートの支持体がある。この
光感受性層を直接これら支持体上にコーティングしそし
てこの形でレリーフ画像製造に使用することができる。
また、それを最初に一時的な剥離可能支持体、好ましく
は透明プラスチックフィルムにコーティングし、そして
それを次いで一緒に使用すべき支持体上に、積層により
移すことがてきる。この光感受性層の厚さは10〜15
0pmまたはそれ以上の範囲である。この記録用エレメ
ントは例えばこの光感受性層をその支持体に係留するた
めの通常の中間層を含有することがてきる。
よび銅の箔およびシート、合成重合体物質例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル例えばポリエチ
レンテレフタレートおよびポリアミドの支持体ならびに
セルロースアセテート、セルロースブチレート、および
セルロースアセテートブチレートの支持体がある。この
光感受性層を直接これら支持体上にコーティングしそし
てこの形でレリーフ画像製造に使用することができる。
また、それを最初に一時的な剥離可能支持体、好ましく
は透明プラスチックフィルムにコーティングし、そして
それを次いで一緒に使用すべき支持体上に、積層により
移すことがてきる。この光感受性層の厚さは10〜15
0pmまたはそれ以上の範囲である。この記録用エレメ
ントは例えばこの光感受性層をその支持体に係留するた
めの通常の中間層を含有することがてきる。
染料、顔料その他を支持体または中間層中に存在させる
ことができる。画像形成のためには、光感受性エレメン
トを紫外線に富んだ放射を発光する放射源例えば水銀蒸
気ランプ、キセノンランプその他に画像的に露光させる
。次いでこのエレメントを露光画像領域を洗去すること
により現像する。好ましくは、洗去のためには水性アル
カリ溶液が使用され、このものは適当なアルカリとして
例えば炭酸アルカリ、硼酸アルカリおよび水酸化アルカ
リならびに既知の炭酸塩、硼酸塩および燐酸塩バッファ
ー系を含有しうる。洗去溶液には更に表面活性物質を含
有させることができる。当然のことながら、使用される
重合体状結合剤によつては有機溶媒もまた洗去に使用す
ることができる。記載の1・4−ジヒドロー4−(5″
−ニトロー2″−フリル)ピリジンがそのような良好な
性質を有する光感受性化合物であるということは当業者
にとつて全く予期せざることでありそして驚くべきこと
である。
ことができる。画像形成のためには、光感受性エレメン
トを紫外線に富んだ放射を発光する放射源例えば水銀蒸
気ランプ、キセノンランプその他に画像的に露光させる
。次いでこのエレメントを露光画像領域を洗去すること
により現像する。好ましくは、洗去のためには水性アル
カリ溶液が使用され、このものは適当なアルカリとして
例えば炭酸アルカリ、硼酸アルカリおよび水酸化アルカ
リならびに既知の炭酸塩、硼酸塩および燐酸塩バッファ
ー系を含有しうる。洗去溶液には更に表面活性物質を含
有させることができる。当然のことながら、使用される
重合体状結合剤によつては有機溶媒もまた洗去に使用す
ることができる。記載の1・4−ジヒドロー4−(5″
−ニトロー2″−フリル)ピリジンがそのような良好な
性質を有する光感受性化合物であるということは当業者
にとつて全く予期せざることでありそして驚くべきこと
である。
先行技術文献〔J.Arrl.Chem.SOc.、7
7(1955)447参照〕から、光感受性は分子中の
ニトロ基の位置の函数であることが知られている。すわ
ち、ドイツ国特許出願公開(0S)第2242106号
明細書の14−ジヒドロー4一(2″−ニトロフェニル
)ピリジンは光感受性化合物として記載されているが、
一方ニトロ基が結合に対してオルト位にはない相当する
3″−または4″−ニトロ誘導体は光に非感受性である
。従つて、分子中の位置に基づいて云えば、1・4−ジ
ヒドロー4−(5″−ニトロー7−フリル)ピリジンが
光感受性であるということは当業者には予期されないこ
とである。また、これら化合物から製造された光感受性
層がドイツ国特許出願公開(0S)第2242106号
明細書開示の化合物より優れていることも予期できない
ことである。最善の態様は例4に説明されており、その
場合には表の化合物3たるl・4−ジヒドロー2・6−
ジメチルー4−(5″−ニトロー7−フリル)ピリジン
ー3・5−ジカルボン酸ジ第3級ブチルエステルおよび
アルカリ可溶性有機重合体状結合剤たるスチレン−マレ
イン酸無水物共重合体を使用してオフセット印刷プレー
トが製造されている。
7(1955)447参照〕から、光感受性は分子中の
ニトロ基の位置の函数であることが知られている。すわ
ち、ドイツ国特許出願公開(0S)第2242106号
明細書の14−ジヒドロー4一(2″−ニトロフェニル
)ピリジンは光感受性化合物として記載されているが、
一方ニトロ基が結合に対してオルト位にはない相当する
3″−または4″−ニトロ誘導体は光に非感受性である
。従つて、分子中の位置に基づいて云えば、1・4−ジ
ヒドロー4−(5″−ニトロー7−フリル)ピリジンが
光感受性であるということは当業者には予期されないこ
とである。また、これら化合物から製造された光感受性
層がドイツ国特許出願公開(0S)第2242106号
明細書開示の化合物より優れていることも予期できない
ことである。最善の態様は例4に説明されており、その
場合には表の化合物3たるl・4−ジヒドロー2・6−
ジメチルー4−(5″−ニトロー7−フリル)ピリジン
ー3・5−ジカルボン酸ジ第3級ブチルエステルおよび
アルカリ可溶性有機重合体状結合剤たるスチレン−マレ
イン酸無水物共重合体を使用してオフセット印刷プレー
トが製造されている。
本発明の光感受性エレメントは印刷プレート特にオフセ
ット印刷プレートの製造、ならびに剥離可能な支持体を
有するエレメントを使用した印刷回路の製造に特に適し
ている。線、スクリーンまたはハーフトーン原画の透明
または不透明陽画コピーもまた製造することができる。
次の実施例は本発明を説明するためのものである。
ット印刷プレートの製造、ならびに剥離可能な支持体を
有するエレメントを使用した印刷回路の製造に特に適し
ている。線、スクリーンまたはハーフトーン原画の透明
または不透明陽画コピーもまた製造することができる。
次の実施例は本発明を説明するためのものである。
ここに%は特に記載されていない限りは重量基準である
。例1 オフセット印刷プレートの製造が意図される場合には次
の組成の流延成形(キヤスチング)用溶液をアルミニウ
ムプレートに適用する。
。例1 オフセット印刷プレートの製造が意図される場合には次
の組成の流延成形(キヤスチング)用溶液をアルミニウ
ムプレートに適用する。
フェノ−ルーホルムアルデヒド樹脂(商品名AlnOv
Ol) 10.0ダグリコー
ルモノメチルエーテル 5.0yブルートリア
リールメタン染料(ビクトリア・ピュアブルーFGA)
0.1y表の化合物12.5y
p−ジメチルアミノベンズアルデヒド 0.25yアセ
トン 90.0m1乾燥さ
れた層の厚さは20pm,てある。
Ol) 10.0ダグリコー
ルモノメチルエーテル 5.0yブルートリア
リールメタン染料(ビクトリア・ピュアブルーFGA)
0.1y表の化合物12.5y
p−ジメチルアミノベンズアルデヒド 0.25yアセ
トン 90.0m1乾燥さ
れた層の厚さは20pm,てある。
次いでこのプレートを1加秒間60CTtの距離で水銀
蒸気ランプ(1000W)を使用して原図写真の下で露
光させる。
蒸気ランプ(1000W)を使用して原図写真の下で露
光させる。
この露光された画像部分を次いで次の組成を有する水性
溶液を使用して洗去する。高い使用寿命の陽画的に=マ
■◆セット印刷プレートが得られる。例2 次の組成の光感受性混合物をポリエチレンテレフタレー
トフィルムベースを適用し、乾燥させそして透明な除去
可能なりパーフィルムを与える。
溶液を使用して洗去する。高い使用寿命の陽画的に=マ
■◆セット印刷プレートが得られる。例2 次の組成の光感受性混合物をポリエチレンテレフタレー
トフィルムベースを適用し、乾燥させそして透明な除去
可能なりパーフィルムを与える。
アクリル酸(5モル%)中のメチルメタクリレート(4
0モル%)/エチルアクリレート (55モル%)の共
重合体 10.0y表の化合物1
45.0yトリエチレングリコールジn−ヘキサン酸エ
ステル/トリエチレングリコールジーn−オクタン酸エ
ステル(1:1)混合物 0.1yブルート
リアリールメタン染料(ビクトリア・ピュア●ブルーF
GA)(メチレンクロリド100m1中に溶解)
0.1y乾燥後の光感受性層
のコーティング厚さは50μmである。
0モル%)/エチルアクリレート (55モル%)の共
重合体 10.0y表の化合物1
45.0yトリエチレングリコールジn−ヘキサン酸エ
ステル/トリエチレングリコールジーn−オクタン酸エ
ステル(1:1)混合物 0.1yブルート
リアリールメタン染料(ビクトリア・ピュア●ブルーF
GA)(メチレンクロリド100m1中に溶解)
0.1y乾燥後の光感受性層
のコーティング厚さは50μmである。
カバーフィルムを除去した後、この光感受性層を銅回路
板上に積層して印刷回路製造に使用するためのホトレジ
ストを形成させ、そしてこれを原・図写真の下で24叩
2間60cmの距離で水銀蒸気ランプ(1000W)を
使用して露光させる。
板上に積層して印刷回路製造に使用するためのホトレジ
ストを形成させ、そしてこれを原・図写真の下で24叩
2間60cmの距離で水銀蒸気ランプ(1000W)を
使用して露光させる。
現像は次の組成の溶液を使用して行なう。 水
1e 次いでこのプレートを通常の塩化第二鉄溶液で通常の方
法でエッチングする。
1e 次いでこのプレートを通常の塩化第二鉄溶液で通常の方
法でエッチングする。
ホトレジストフィルムの除去後、高品質の印刷回路が得
られる。例3次の組成コーティング溶液Aを調製する。
られる。例3次の組成コーティング溶液Aを調製する。
エノールホルムアルデヒド樹脂(AlnOvOl)
9.0y表の化合物
44.5yトリエチレングリコールジーn−ヘキサン酸
エステル/トリエヂレンングリコールジーn−オクタン
酸エステル(1:1)混合物 0.1gブルート
リアリールメタン染料(ビクトリア・ピュア●ブルーF
GA) 0.1yアセトン
150.0yエチレングリコールモ
ノエチルエステル20.0y別にコーティング溶液Bを
調製したがこれは光感受性化合物としてドイツ特許出願
公開(0S)第2242106号明細書の化合物(2)
を4.5y含有しているという点でのみ溶液Aとは異つ
ていた。
9.0y表の化合物
44.5yトリエチレングリコールジーn−ヘキサン酸
エステル/トリエヂレンングリコールジーn−オクタン
酸エステル(1:1)混合物 0.1gブルート
リアリールメタン染料(ビクトリア・ピュア●ブルーF
GA) 0.1yアセトン
150.0yエチレングリコールモ
ノエチルエステル20.0y別にコーティング溶液Bを
調製したがこれは光感受性化合物としてドイツ特許出願
公開(0S)第2242106号明細書の化合物(2)
を4.5y含有しているという点でのみ溶液Aとは異つ
ていた。
これら成形溶液をオフセット印刷フォームの製造用に使
用される場合にはアルミニウムプレートに適用して乾燥
後20PTr!.のコーティング厚さを形成させる。
用される場合にはアルミニウムプレートに適用して乾燥
後20PTr!.のコーティング厚さを形成させる。
生成されたエレメントを例1に記載のようにして露光さ
せ、そして露光された部分を次の組成の溶液で洗去する
。Na2cO32OyNa3PO4・12H20201
Na0H3.3y グリコールモノエヂルエーテル 20m1水
全量1eとなす量次の結果が
得られる。
せ、そして露光された部分を次の組成の溶液で洗去する
。Na2cO32OyNa3PO4・12H20201
Na0H3.3y グリコールモノエヂルエーテル 20m1水
全量1eとなす量次の結果が
得られる。
プレートA プレートB画像形成開
始 2囲25鰍画像形成完了 50秒
12[相]層の溶解 15囲215囲2
前記の結果から明らかなように、プレートAはかなり広
い処理範囲でプレートBより優れている。
始 2囲25鰍画像形成完了 50秒
12[相]層の溶解 15囲215囲2
前記の結果から明らかなように、プレートAはかなり広
い処理範囲でプレートBより優れている。
例4
オフセット印刷プレート製造用に使用される場合に次の
光感受性組成物の成形用溶液をアルミニウムプレートに
適用する。
光感受性組成物の成形用溶液をアルミニウムプレートに
適用する。
スチレン(50モル%)−マレイン酸無水物(50モル
%)共重合体 5.0y表の化合
物 2.5y酢酸エチルエス
テル 100.0m1乾燥被覆のコー
ティング厚さは20P7TLである。
%)共重合体 5.0y表の化合
物 2.5y酢酸エチルエス
テル 100.0m1乾燥被覆のコー
ティング厚さは20P7TLである。
このエレメントを例2に記載のようにして露光させる。
露光された画像部分を次いで次の組成の溶液を使用して
溶解させる。Na2cO32OqNa3PO4 ・12H2020y ・NaOH3y グリコールモノエチルエーテル 20m1水
全量1eとなす量次の結果が
得られる。
露光された画像部分を次いで次の組成の溶液を使用して
溶解させる。Na2cO32OqNa3PO4 ・12H2020y ・NaOH3y グリコールモノエチルエーテル 20m1水
全量1eとなす量次の結果が
得られる。
画像記録の開始 2囲′
画像記録の完了 5鰍
層の溶解 20σ秒
例5
次の組成の流延成形用溶液をポリエチレンテレフタレー
トフィルムベースに適用する。
トフィルムベースに適用する。
この成形“被膜の乾燥コーティング厚さは10μmであ
る。スチレン−マレイン酸モノエステル共重合体
5.0q表の化合物
23.0y赤色ジアゾ染料(セレス・レッド) 0
.5yメチレンクロリド 100.
0mt乾燥後、60C!nの距離て紫外線ランプ(10
00W)を使用して12叱2間この層を露光させる。
る。スチレン−マレイン酸モノエステル共重合体
5.0q表の化合物
23.0y赤色ジアゾ染料(セレス・レッド) 0
.5yメチレンクロリド 100.
0mt乾燥後、60C!nの距離て紫外線ランプ(10
00W)を使用して12叱2間この層を露光させる。
露光された層部分を次いて次の組成の溶液を使用して溶
解させる。Na3PO4・121−12020y メチルグリコール 20y 水 全量1eとなす量 透明支持体上に赤い原画の複製が得られる。
解させる。Na3PO4・121−12020y メチルグリコール 20y 水 全量1eとなす量 透明支持体上に赤い原画の複製が得られる。
例6ポリエチレンテレフタレートフィルムベース上に次
の組成の成形用溶液を適用し次いでこれを乾燥させる。
の組成の成形用溶液を適用し次いでこれを乾燥させる。
メチルメタクリレート(40モル%)、エチルアクリレ
ート(55モル%)およびアクリル酸(5モル%)の共
重合体とカーボンブラックとの(1:1)混合物
10.0ダ例2のトリエチレング
リコールジーn−ヘキサン酸エステルとトリエチレング
リコールジーn−オクン酸エステルとの混合物
0.5rfL1アセトン
90.0m1次いでこの層上に次の組成の別の層を
適用する。
ート(55モル%)およびアクリル酸(5モル%)の共
重合体とカーボンブラックとの(1:1)混合物
10.0ダ例2のトリエチレング
リコールジーn−ヘキサン酸エステルとトリエチレング
リコールジーn−オクン酸エステルとの混合物
0.5rfL1アセトン
90.0m1次いでこの層上に次の組成の別の層を
適用する。
スチレン(50モル%)とマレイン酸無水物(50モル
%)の共重合体 10.0y表の化
合物32.5y例2のトリエチレングリコールジーn−
ヘキサン酸エステルとトリメチレングリコ−ルジーn−
オクタン酸エステル 2.5mL
酢酸エチルエステル 100.0m1
乾燥後このエレメントを2分間スクリーン原画を通して
紫外線ランプ(1000W)に露光させる。
%)の共重合体 10.0y表の化
合物32.5y例2のトリエチレングリコールジーn−
ヘキサン酸エステルとトリメチレングリコ−ルジーn−
オクタン酸エステル 2.5mL
酢酸エチルエステル 100.0m1
乾燥後このエレメントを2分間スクリーン原画を通して
紫外線ランプ(1000W)に露光させる。
次の組成の溶液を使用して露光点を洗去した後、陽画ス
クーン画像が得られる。Na3PO4・12H2020
y メチルグリコール 20m1 水 全量1fとなす量
クーン画像が得られる。Na3PO4・12H2020
y メチルグリコール 20m1 水 全量1fとなす量
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少くとも1種の有機重合体状結合剤およびジヒドロ
ピリジン化合物を含有する光感受性層を担持する支持体
を包含し而してそのジヒドロピリジン化合物が式▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1およびR_2はアルキル、アリール、置
換アリールおよび複素環式環であり、R_3およびR_
4はCOOR′、COR′(R′はアルキル、置換アル
キルまたはアリールである)およびCNであり、そして
またR_1およびR_3および/またはR_2およびR
_4は一緒になつて5員または6員の炭素環式環または
複素環式環を形成してもよい)を有するものであること
を特徴とする、陽画像形成用の光感受性エレメント。 2 ジヒドロピリジン化合物が光感受性層の全重量基準
で20〜80重量%の量で存在している、前記第1項記
載のエレメント。 3 開始剤が光感受性層の10重量%までの量で光感受
性層中に存在している、前記第2項記載のエレメント。 4 ジヒドロピリジン化合物が1・4−ジヒドロ−2・
6−ジメチル−4−(5′−ニトロ−2′−フリル)−
3・5−ジアセトピリジン、1・4−ジヒドロ−2・6
−ジメチル−4−(5′−ニトロ−2′−フリル)ピリ
ジン−3・5−ジカルボン酸−ジ第3級ブチルエステル
および1・4−ジヒドロ−2・6−ジメチル−4−(5
′−ニトロ−2′−フリル)ピリジン−3・5−ジカル
ボン酸ジエチルエステルからなる群の一員である、前記
第1項記載のエレメント。5 光感受性層が光感受性化
合物として1・4−ジヒドロ−2・6−ジメチル−4−
(5′−ニトロ−2′−フリル)ピリジン−3・5−ジ
カルボン酸ジ第3級ブチルエステルを包含しそしてその
有機重合体状結合剤がマレイン酸無水物とスチレンとの
共重合体である、前記第1項載のエレメント。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2718130.2 | 1977-04-23 | ||
| DE19772718130 DE2718130C2 (de) | 1977-04-23 | 1977-04-23 | lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53133022A JPS53133022A (en) | 1978-11-20 |
| JPS6046701B2 true JPS6046701B2 (ja) | 1985-10-17 |
Family
ID=6007089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53047622A Expired JPS6046701B2 (ja) | 1977-04-23 | 1978-04-21 | 光感受性エレメント |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046701B2 (ja) |
| BE (1) | BE866247A (ja) |
| DE (1) | DE2718130C2 (ja) |
| FR (1) | FR2388304A1 (ja) |
| GB (1) | GB1575281A (ja) |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE58908012D1 (de) * | 1989-03-20 | 1994-08-11 | Siemens Ag | Lichtempfindliches Gemisch. |
| EP0388484B1 (de) * | 1989-03-20 | 1994-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Hochauflösender Photoresist |
| US5340819A (en) * | 1991-10-21 | 1994-08-23 | Imperial Chemical Industries Plc | Method for treating urinary incontinence using 9-(3-nitrophenyl)-3,4,6,7,9,10-hexahydro-1,8-(2H,5H) acridinedione |
| GB9220570D0 (en) * | 1991-10-21 | 1992-11-11 | Ici Plc | Therapeutic agent |
| US5455253A (en) * | 1992-10-20 | 1995-10-03 | Zeneca Limited | Heterocyclic derivatives |
| JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
| JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
| US7521168B2 (en) | 2002-02-13 | 2009-04-21 | Fujifilm Corporation | Resist composition for electron beam, EUV or X-ray |
| KR100955454B1 (ko) | 2002-05-31 | 2010-04-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 포지티브 레지스트 조성물 |
| US7771915B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-08-10 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method |
| JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
| DE602005007427D1 (de) | 2004-07-20 | 2008-07-24 | Fujifilm Corp | Bilderzeugendes Material |
| JP4439409B2 (ja) | 2005-02-02 | 2010-03-24 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| EP1701213A3 (en) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
| US20060204732A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
| JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| ATE410460T1 (de) | 2005-08-23 | 2008-10-15 | Fujifilm Corp | Härtbare tinte enthaltend modifiziertes oxetan |
| JP4757574B2 (ja) | 2005-09-07 | 2011-08-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
| EP2103639A1 (en) | 2005-11-04 | 2009-09-23 | Fujifilm Corporation | Curable polycyclic epoxy composition, ink composition and inkjet recording method therewith |
| DE602007012161D1 (de) | 2006-03-03 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | Härtbare Zusammensetzung, Tintenzusammensetzung, Tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und Flachdruckplatte |
| JP5276264B2 (ja) | 2006-07-03 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法 |
| JP2008189776A (ja) | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版 |
| US8541063B2 (en) | 2007-02-06 | 2013-09-24 | Fujifilm Corporation | Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device |
| DE602008006279D1 (de) | 2007-02-07 | 2011-06-01 | Fujifilm Corp | Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf |
| JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
| JP2008208266A (ja) | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版 |
| JP5224699B2 (ja) | 2007-03-01 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版 |
| JP5159141B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版 |
| JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
| JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
| JP5111039B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物 |
| JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| JP5265165B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
| JP4898618B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-21 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| US8240838B2 (en) | 2007-11-29 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material |
| JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
| US20090214797A1 (en) | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Fujifilm Corporation | Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same |
| JP5583329B2 (ja) | 2008-03-11 | 2014-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体 |
| JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
| JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
| JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
| JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| EP2169018B1 (en) | 2008-09-26 | 2012-01-18 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method |
| JP5461809B2 (ja) | 2008-09-29 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
| JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5349095B2 (ja) | 2009-03-17 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| JP5383289B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物 |
| JP5572026B2 (ja) | 2009-09-18 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| EP2644664B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-07-29 | Fujifilm Corporation | Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article |
| JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
| JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL195002A (ja) * | 1954-03-12 | 1900-01-01 | ||
| DE1239940B (de) * | 1962-07-24 | 1967-05-03 | Kalle Ag | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial fuer Reproduktionszwecke |
| US3776735A (en) * | 1971-12-28 | 1973-12-04 | Kalle Ag | Light-sensitive copying composition containing a light insensitive polymer and a light sensitive heterocyclic compound |
| DE2242106A1 (de) * | 1972-08-26 | 1974-03-21 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches photographisches material |
-
1977
- 1977-04-23 DE DE19772718130 patent/DE2718130C2/de not_active Expired
-
1978
- 1978-04-21 BE BE187005A patent/BE866247A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-04-21 FR FR7811887A patent/FR2388304A1/fr active Granted
- 1978-04-21 JP JP53047622A patent/JPS6046701B2/ja not_active Expired
- 1978-04-21 GB GB1596478A patent/GB1575281A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2388304A1 (fr) | 1978-11-17 |
| FR2388304B1 (ja) | 1983-05-27 |
| BE866247A (fr) | 1978-10-23 |
| DE2718130C2 (de) | 1979-05-17 |
| DE2718130B1 (de) | 1978-09-14 |
| JPS53133022A (en) | 1978-11-20 |
| GB1575281A (en) | 1980-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6046701B2 (ja) | 光感受性エレメント | |
| US4181531A (en) | Positive non-silver systems containing nitrofuryldihydropyridine | |
| US3901710A (en) | Photographic material comprising a light-sensitive 1,4-dihydropyridine derivative | |
| US4966828A (en) | Carbonylmethylene-heterocyclic compounds containing trihalogenomethyl groups, process for their preparation, and light-sensitive mixture containing the compounds | |
| US4243741A (en) | Negative tonable systems containing dihydropyridines and photooxidants | |
| EP0014012B1 (en) | Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer | |
| US4255513A (en) | Photopolymerizable recording materials | |
| US2940853A (en) | Azide sensitized resin photographic resist | |
| US4780393A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same | |
| US3634082A (en) | Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether | |
| US4469774A (en) | Positive-working photosensitive benzoin esters | |
| JPS5935010B2 (ja) | ポジ用フオトレジスト組成物 | |
| JPH0251509A (ja) | 不飽和β―ケト―エステルアセタール、その製造方法およびその用途 | |
| CA2038963A1 (en) | Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom | |
| US5057398A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same | |
| JPS6329754A (ja) | ポジ形像形成用組成物 | |
| EP0118766B1 (en) | Light-sensitive composition | |
| JPH02181150A (ja) | 放射線に敏感な混合物 | |
| US4271260A (en) | Positive nonsilver washout systems containing dihydropyridines and photooxidants | |
| US5326826A (en) | Radiation-sensitive polymers containing diazocarbonyl groups and a process for their preparation | |
| PL103094B1 (pl) | Srodek zdolny do fotopolimeryzacji | |
| JPH0145901B2 (ja) | ||
| US5171656A (en) | Photosensitive composition | |
| US4229514A (en) | Photosensitive composition | |
| US3169868A (en) | Light sensitive photoresist composition |