JPS6047203B2 - α型窒化珪素の製造方法 - Google Patents

α型窒化珪素の製造方法

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JPS6047203B2
JPS6047203B2 JP8626077A JP8626077A JPS6047203B2 JP S6047203 B2 JPS6047203 B2 JP S6047203B2 JP 8626077 A JP8626077 A JP 8626077A JP 8626077 A JP8626077 A JP 8626077A JP S6047203 B2 JPS6047203 B2 JP S6047203B2
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JP
Japan
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nitriding
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molded
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silicon nitride
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JP8626077A
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JPS5422000A (en
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紘一 菅原
忠輔 志儀
博隆 古賀
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
    • C01B21/0682—Preparation by direct nitridation of silicon

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属珪素(Si)を直接窒化するα型窒化珪
素(S1。
N0)の製造方法に関するものである。従来、51の直
接窒化する方法は公知である。
例えば1200〜12500Cの温度で長時間加熱する
方法があるが、反応時間を短縮しようとすると1400
℃以上の高温とする必要があるが、生成したα−Si3
N。がβ−Si、N、に変移する欠点がある。また特開
昭50−128698号にはSi粉末に窒化反応促進剤
としてに)Na)およびLiの化合物を添加する方法が
あるが、これら窒化反応促進剤と51粉末とは部分的に
反応をするので、1時間以上長時間混合しなければこれ
らの窒化反応促進剤が均一混合できない欠点がある。本
発明は、まず粒子100メッシュ以下のSi粉末または
この51粉末に窒化反応促進剤としてアルカリ金属およ
びアルカリ土類金属のハロゲン化物の中から選ばれた1
種以上を0.01〜3重量%含有させた組成物粉末を成
形し、該成形物を窒化炉内に装填し窒素またはアンモニ
アのガス雰囲気下、1100〜1250℃の温度で加熱
窒化し、該成形物中のSi。
N。の含有量を少くとも55重量%とした後、該成形物
を100メッシュ以下に粉砕し、これに前記反応促進剤
を0.01〜3重量%添加混合し、次いでこれを成形し
、該成形物を窒化炉内に装填し、窒素またはアンモニア
のガス雰囲気下、1250〜14000Cの温度て再窒
化することを特徴とするα−Sj3N。の製造方法であ
る。以下さらに本発明を詳しく説明する。
本発明は原料として51粉末を窒化反応促進剤の1存在
下又は非存在下成形し、窒化した後、これを粉砕成形し
、再窒化することを特徴とするものてある。
一般的に51粉末は熱伝導性が悪く、その窒化は発熱反
応であり、しかもその融点が約1400゜C付近である
ので、窒化反応時の放熱が十分でない・と焼結したり、
溶融したりするので、十分な窒化反応を行うことができ
ない。本発明は、SI粉末を窒化させ、α−Si3N4
を主成分とするSi3N4を製造するにあたり、Si粉
末を成形し主としてα−Si3N4を形成す斧温度で一
次窒化し、次いで窒化反応熱の制御と窒化率を向上させ
るため、一次窒化成形物を粉砕し成形した後、二次窒化
させα−Si3N4の含有量の高いSi3N4を生成さ
せようとするものである。
本発明において使用するSiは、市販のSi純度95%
以上で、粒子の大きさは100メッシュ以下の粉末でな
ければならない。
Si粒子が、100メッシュをこえると窒化反応が遅れ
るので好ましくない。
粒子が100メッシュ以下のSiにポリビニルアルコー
ル、カルボキシメチルセルローズ、メチルセルローズ、
糖密、バルブ廃液、アラビアゴム等の水溶性結合剤を添
加混合し、成形した後、これを窒化炉て窒化する。
この他に、Siに窒化反応促進剤としてアルカリ金属お
よびアルカリ土類金属のハロゲン化物の1種以上を0.
01〜3重量%添加すれば、さらにα一Si3N4の含
有量が向上する。
アルカリ金属およびアルカリ土類金属のハロゲン化物は
いずれも使用できるが、本発明において特に弗化物であ
るNaFおよびCaF2が有効であり、その効果が著し
い。
窒化反応促進剤の添加量が0.01重量%未満では促進
効果が少なく、3重量%を超えるとその効果が緩慢にな
る。次に、これらの混合原料をドラムによる回転造粒あ
るいは10〜10000k91cItの圧力で圧縮成形
することによつてブロック状、粒状、プリケツト状の.
成形物が得られる。
成形物は、窒化炉内に装填され1100〜1250℃の
温度て窒化する。
窒化ガスとしては窒素、アンモニア等のガスを使用する
。窒化炉は、固定床式で、加熱方式としては炉中心部に
電極を挿入して!通電加熱による方法により窒化させる
が、これに限られるものではない。この一次窒化反応に
よつてSi3N4を55重量%以上(その中α−Si,
N44呼量%を含有)のものが得られる。
本発明において一次窒化反応の終了点っをSi3N45
5重量%以上とした理由はこれ以上窒化反応を継続して
も窒化に時間を要するからである。次に、得られた窒化
物を粉砕機で100メッシュ以下に粉砕する。
粉砕機は、通常ボールミル型のものを使用する。この粉
砕物に対し窒化反応促進剤としてアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属のハロゲン化物の中から選ばれた1種以
上を0.01〜0.鍾量%添加し、これに水溶性結合剤
を添加混練後、ブロック、プリケツト、粒状に成形する
。なお反応促進剤としては前記のNaFlCaF2が好
ましく用いられる。なお、一次窒化で窒化反応促進剤を
添加した場ク合、二次窒化においても一次窒化と同じ窒
化反応促進剤及び添加量を用いるが、その理由は一次窒
化で一部金属珪素粉末と反応したり、揮散したりして窒
化反応促進剤としての効果が減少するからである。
さらにこの他に金属鉄等の鉄化合物をSi7に対し、0
.01〜5重量%添加するとα−Si3N4の生成率が
一層向上する。成形方法は前記と同じ方法による。この
成形物を固定床式の窒化炉に装填し、窒素ガスあるいは
アンモニアガスを吹込んで通電加熱ノして窒化する。
二次窒化温度は一次窒化温度1100〜1250℃より
100〜150℃高い1250〜1400℃である。
このように限定した理由は一次窒化で成形物中にSl3
N4が存在するので、反応熱の制御が行われ反応が促進
されるからである。このようにして得られた窒化物は、
Si3N4が95重量%以上、α−Si3N4が8唾量
%以上である。
以上説明したように本発明の方法は、原料粉末を窒化反
応促進剤存在下又は非存在下成形し、温度1100〜1
250゜CてSl3N4を55重量%以上生成させ、粉
末窒化による異常な発熱を防止し、さらに得られたα−
Sl3N4量を向上させると同時に未窒化物をできるだ
け減少させるため再粉砕し、さらに窒化反応促進剤を添
加し成形して、未窒化の金属珪素を再窒化する方法てあ
る。得られた窒化物は所定の粒度に粉砕して耐火物用、
セラミックス用として使用することができる。又必要に
応じて窒化反応促進剤等は酸処理等の除去手段により除
去することができる。以下実施例、比較例をあけて本発
明を具体的に説明する。
なお実施例、比較例の第1表〜第5表の記載は次のよう
にして行つたものである。
(1)反応促進剤の配合割合は、内割の重量比(%)で
示す。
(2)窒化珪素及びα窒化珪素の量は理学電機(株)製
商品名「ジーグラーフレツクス2013」のX線回折装
置を用いて求めた。
実施例1 100メッシュ以下のSi粉末に濃度3重量%ポリビニ
ルアルコール水溶液1轍量%を添加し、充分混練し15
0k9ノdの圧力下30×30×30Tf$Lのブロッ
クに成形し、窒素ガス雰囲気下1200℃の温度で5時
間窒化した。
その成形物を100メッシュ以下に粉砕し、X線回折に
よる分析結果、成形物中のI3N4は55重量%、その
中α−Si3N4は5踵量%でろつた。この窒化物をボ
ールミルで100メッシュ以下に分砕し、第1表に示す
反応促進剤を添加した後、ml度3重量%ポリビニルア
ルコール水溶液15重量名添加混練後150kgノdの
圧力下30×30X30TI$&のブaツクに成形した
。
このブロックを窒化炉に装填し、窒素ガス雰囲気下13
50℃の温度で4時間窒化し、得られた窒化吻の組成は
第1表に示す。
実施例2 100メッシュ以下のSi粉末に第2表に示す反応促進
剤を添加した後、濃度3重量%ポリビニルアルコール水
溶液1.5重量%を添加混練後、150k91dの圧力
下30×30×30wnのブロックに成形した。
このブロックを窒化炉に装填し、窒素ガス雰男気下12
00℃の温度て5時間窒化し、第2表に示1ような窒化
物を得た。この窒化物をボールミルで100メッシュ以
下に粉砕し、これに第3表に示す反応促進剤をそれぞれ
添加し、さらに濃度3重量%ポリビニルアルコール水溶
液15重量%を添加混練後、150k91cI1の圧力
下30×30×(至)朗のブロックに成形した。
この成形物を窒化炉に装填し、窒素ガス雰囲気下135
0′Cの温度で4時間窒化して得られた窒化物の組成は
第3表に示す。実施例3 325メッシュ以下のSi粉末に第4表に示す反応促進
剤を添加し、さらに濃度2重量%のカルボキシメチルセ
ルロース水溶液15重量%を添加混練した。
これを回転造粒して得た10〜50T$tの粒状物をS
iC製皿台に載せ、窒化炉に装填し、アンモニアガス雰
囲気下1150゜Cの温度で3時間窒化し、第4表に示
す窒化物を得た。この窒化物を振動ミルで325メッシ
ュ以下に粉砕したものに第5表に示す反応促進剤を添加
し、これに濃度5重量%ポリビニルアルコール水溶液.
を2鍾量%添加し造粒機で造粒し10〜50Tf0!L
の粒状物を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 100メッシュ以下の金属珪素粉末または該金属珪
    素粉末に対し、窒化反応促進剤としてアルカリ金属およ
    びアルカリ土類金属のハロゲン化物の中から選ばれた1
    種以上を0.01〜3重量%含有させた組成物粉末を成
    形し、該成形物を窒素またはアンモニアのガス雰囲気下
    、1100〜1250℃の温度で加熱窒化し、該成形物
    中の窒化珪素の含有量を少くとも55重量%以上とした
    後、該成形物を100メッシュ以下に粉砕し、これに前
    記窒化反応促進剤を0.01〜3重量%添加混合し、次
    いでこれを成形し、該成形物を窒化炉で1250〜14
    00℃の温度で再窒化することを特徴とするα型窒化珪
    素の製造方法。
JP8626077A 1977-07-19 1977-07-19 α型窒化珪素の製造方法 Expired JPS6047203B2 (ja)

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