JPS6048510B2 - ウラシル誘導体の製法 - Google Patents
ウラシル誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS6048510B2 JPS6048510B2 JP59214785A JP21478584A JPS6048510B2 JP S6048510 B2 JPS6048510 B2 JP S6048510B2 JP 59214785 A JP59214785 A JP 59214785A JP 21478584 A JP21478584 A JP 21478584A JP S6048510 B2 JPS6048510 B2 JP S6048510B2
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- Japan
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- fluorouracil
- compound
- general formula
- formula
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- Expired
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
？′ 。
、、ＲＩＯ−ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−℃Ｈ２ＯＨ（但し
、Ｒ゛はアルキル基を表わす）で示されるＮｉ−（アル
コキシー４−ヒドロキシＪブチル）−５−フルオロウラ
シルの製法に関する。
、Ｒ゛はアルキル基を表わす）で示されるＮｉ−（アル
コキシー４−ヒドロキシＪブチル）−５−フルオロウラ
シルの製法に関する。
本発明によれば、当該目的化合物〔Ｉ〕は５一フルオロ
ウラシルの２，４−ビストリメチルシリル体と一般式（
但し、Ｒ”は前記と同一意味を表わし、Ｒ２はアルコキ
シカルボニルメチル基を表わす。
ウラシルの２，４−ビストリメチルシリル体と一般式（
但し、Ｒ”は前記と同一意味を表わし、Ｒ２はアルコキ
シカルボニルメチル基を表わす。
）で示される化合物とをルイス酸の存在下に反応させて
一般式（但し、Ｒ”およびＲ゜は前記と同一意味を表わ
す。
一般式（但し、Ｒ”およびＲ゜は前記と同一意味を表わ
す。
）で示される化合物を製し、ついで該化合物〔■〕を水
素化ホウ素アルカリ金属の存在下に還元することにより
製することが出来る。本発明において、５−フルオロウ
ラシルの２，４−ビストリメチルシリル体は５−フルオ
ロウラシルとヘキサメチルジシラザンとを加熱下に反応
させることにより容易に合成される〔Ｃｈｅｍ．Ｐｈａ
ｒｍ．Ｂｕｌｌ．ｌｌ．ｌ４７Ｏ（１９６３）〕。
素化ホウ素アルカリ金属の存在下に還元することにより
製することが出来る。本発明において、５−フルオロウ
ラシルの２，４−ビストリメチルシリル体は５−フルオ
ロウラシルとヘキサメチルジシラザンとを加熱下に反応
させることにより容易に合成される〔Ｃｈｅｍ．Ｐｈａ
ｒｍ．Ｂｕｌｌ．ｌｌ．ｌ４７Ｏ（１９６３）〕。
また他方の一般式〔Π〕で示される原料化合物としては
同一般式中Ｒ１が例えばメチル基、エチル基、プロピル
基の如きアルキル基であり、Ｒ”が例えばメトキシカル
ボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル．基、プロ
ポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニル
メチル基の如きアルコキシカルボニルメチル基の如きア
ルコキシカルボニルメチル基である化合物があげられる
。これら４，４ージアルコキシ酩酸アルキルエステルは
フランカルボニン酸を電解酸化することにより容易に合
成される本発明の第１工程の５−フルオロウラシルの２
，４−ビストリメチルシリル体と原料化合物〔■〕との
反応は適当な溶媒中ルイス酸の存在下に実施するのが好
ましい。ルイス酸としては例えば四塩４化錫．トリフツ
化ホウ素エーテルコンプレックス、四塩化チタン等、と
りわけ四塩化錫を好適に用いることが出来る。反応溶媒
としては例えばアセトニトリル、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン等を適宜使用することとが出来る。
同一般式中Ｒ１が例えばメチル基、エチル基、プロピル
基の如きアルキル基であり、Ｒ”が例えばメトキシカル
ボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル．基、プロ
ポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニル
メチル基の如きアルコキシカルボニルメチル基の如きア
ルコキシカルボニルメチル基である化合物があげられる
。これら４，４ージアルコキシ酩酸アルキルエステルは
フランカルボニン酸を電解酸化することにより容易に合
成される本発明の第１工程の５−フルオロウラシルの２
，４−ビストリメチルシリル体と原料化合物〔■〕との
反応は適当な溶媒中ルイス酸の存在下に実施するのが好
ましい。ルイス酸としては例えば四塩４化錫．トリフツ
化ホウ素エーテルコンプレックス、四塩化チタン等、と
りわけ四塩化錫を好適に用いることが出来る。反応溶媒
としては例えばアセトニトリル、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン等を適宜使用することとが出来る。
反応は−５０〜１０℃、とりわけ−２０〜０℃附近にて
好適に進行する。かくして生成した化合物〔■〕は、例
えば反応５液に冷時重曹水を加えて反応を停止させ、つ
いで適当な溶媒による抽出、再結晶する如き公知精製操
作に付すことにより容易に単離することが出来る。
好適に進行する。かくして生成した化合物〔■〕は、例
えば反応５液に冷時重曹水を加えて反応を停止させ、つ
いで適当な溶媒による抽出、再結晶する如き公知精製操
作に付すことにより容易に単離することが出来る。
このようにして得られた化合物〔■〕を水素化ホウ素ア
ルカリ金属で還元することにより目的ｏ化合物〔Ｉ〕を
得ることが出来る。還元反応は、例えばエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライムの如き適当な
溶媒中水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム
の如き水素化ホウ素アルカリ金属の存在下に実施すると
よく、５この際反応系に例えば塩化アルミニウム、四塩
化チタンの如きルイス酸、とりわけ塩化アルミニウムを
共存させることにより目的化合物収率等の面で好結果を
得ることが出来る。反応は０ 〜５０℃、とりわけ１０
〜３０℃附近にて好適に進行する。かくフして生成した
目的化合物〔Ｉ〕は、例えば反応液に冷時水もしくはメ
タノールを加えて反応を停止し、反応終了液より適当な
溶媒による抽出、再結晶あるいは更にシリカゲルクロマ
トする如き公知精製操作を適宜組台せることにより容易
に単離することができる。本発明の目的化合物〔Ｉ〕は
いずれも新規化合物であり、それ自体抗腫瘍性を有する
有用な医薬化合物であるばかりでなく、更に悪性固型ガ
ンの治療薬Ｎ１−（２ −テトラヒドロフリル）−５ー
フルオロウラシルの合成中間体としても重要な化合物で
ある。
ルカリ金属で還元することにより目的ｏ化合物〔Ｉ〕を
得ることが出来る。還元反応は、例えばエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライムの如き適当な
溶媒中水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム
の如き水素化ホウ素アルカリ金属の存在下に実施すると
よく、５この際反応系に例えば塩化アルミニウム、四塩
化チタンの如きルイス酸、とりわけ塩化アルミニウムを
共存させることにより目的化合物収率等の面で好結果を
得ることが出来る。反応は０ 〜５０℃、とりわけ１０
〜３０℃附近にて好適に進行する。かくフして生成した
目的化合物〔Ｉ〕は、例えば反応液に冷時水もしくはメ
タノールを加えて反応を停止し、反応終了液より適当な
溶媒による抽出、再結晶あるいは更にシリカゲルクロマ
トする如き公知精製操作を適宜組台せることにより容易
に単離することができる。本発明の目的化合物〔Ｉ〕は
いずれも新規化合物であり、それ自体抗腫瘍性を有する
有用な医薬化合物であるばかりでなく、更に悪性固型ガ
ンの治療薬Ｎ１−（２ −テトラヒドロフリル）−５ー
フルオロウラシルの合成中間体としても重要な化合物で
ある。
実施例
（１）２，４−ビストリメチルシリルー５−フルオロウ
ラシル１６．４ｇおよび４，４ージメトキシ酪酸メチル
エステル１２ｇを無水アセトニトリル５０ｍιに溶解し
、−４０℃に冷却する。
ラシル１６．４ｇおよび４，４ージメトキシ酪酸メチル
エステル１２ｇを無水アセトニトリル５０ｍιに溶解し
、−４０℃に冷却する。
この溶液にかくはん下四塩化錫７．８ｇを含む無水ジク
ロロエタン５ｒｎ，ι溶液をｍ分間を要して滴下する。
滴下後反応温度を徐々に上げ約３紛間でｏ℃とする。こ
の反応液に飽和重曹水を加えて反応を停止させ、有機溶
媒層を分取する。この溶液を乾燥し、減圧下に濃縮する
。得られる残査をエタノールより再結晶することにより
、無色結晶としてＮ”−（１−メトキシー３−メトキシ
カルボニルプロピル）−５ −フルオロウラシル１０．
６ｇを得る。収率６９％（２） 水素化ホウ素ナトリウ
ム１．５２ｇをジグライム５０ｍ１にけん濁し、これに
５〜１０゜Ｃて無水塩化アルミニウム１．９２ｇを加え
る。
ロロエタン５ｒｎ，ι溶液をｍ分間を要して滴下する。
滴下後反応温度を徐々に上げ約３紛間でｏ℃とする。こ
の反応液に飽和重曹水を加えて反応を停止させ、有機溶
媒層を分取する。この溶液を乾燥し、減圧下に濃縮する
。得られる残査をエタノールより再結晶することにより
、無色結晶としてＮ”−（１−メトキシー３−メトキシ
カルボニルプロピル）−５ −フルオロウラシル１０．
６ｇを得る。収率６９％（２） 水素化ホウ素ナトリウ
ム１．５２ｇをジグライム５０ｍ１にけん濁し、これに
５〜１０゜Ｃて無水塩化アルミニウム１．９２ｇを加え
る。
この溶液に激しくかくはんしながらＮ゛一（１−メトキ
シー４−メトキシカルボニルプロピル）−５−フルオロ
ウラシル４．８８ｇを含むジグライム８０７７１，１溶
液を３紛間を要して滴下する。
シー４−メトキシカルボニルプロピル）−５−フルオロ
ウラシル４．８８ｇを含むジグライム８０７７１，１溶
液を３紛間を要して滴下する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ５−フルオロウラシルの２，４−ビストリメチルシ
リル体と一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１はアルキル基、Ｒ＾２はアルコキシカル
ボニルメチル基を表わす。 ）で示される化合物とをルイス酸の存在下に反応させて
一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同一意味を表わす
。 ）で示される化合物を製し、ついでこの化合物を水素化
ホウ素アルカリ金属の存在下に還元することを特徴とす
る一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は前記と同一意味を表わす。 ）で示されるＮ＾１−（１−アルコキシ−４−ヒドロキ
シブチル）−５−フルオロウラシルの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214785A JPS6048510B2 (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | ウラシル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214785A JPS6048510B2 (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | ウラシル誘導体の製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52148344A Division JPS6019755B2 (ja) | 1977-12-09 | 1977-12-09 | ウラシル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60149570A JPS60149570A (ja) | 1985-08-07 |
| JPS6048510B2 true JPS6048510B2 (ja) | 1985-10-28 |
Family
ID=16661493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59214785A Expired JPS6048510B2 (ja) | 1984-10-12 | 1984-10-12 | ウラシル誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048510B2 (ja) |
-
1984
- 1984-10-12 JP JP59214785A patent/JPS6048510B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60149570A (ja) | 1985-08-07 |
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