JPS6049196B2 - ４−置換−３−シクロヘキセン−１−オンのケタ−ル類およびその製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、４一置換−３−シクロヘキセンー１ーオンの
ケタール類に関する。

さらに詳しくいえば、本発明は、式■て表わされる４−
（１−ヒドロキシー１−メチルエチル）−３−シクロヘ
キセンー１−オンのケタールに関する。（式中、Ｒ″お
よびＲ″は独立して水素、メチル・またはエチル、ｎは
Ｏまたは１を表わす。

）上記式■で表わされる化合物はすべて新規物質である
。本発明はまた、式■で表わされる新規化合物の製造方
法に関する。式■で表わされる４−（１−ヒドロキシー
１一メチルエチル）−３−シクロヘキセンー１−オンの
ケタールは、式■で表わされる４−メトキシカルボニル
ー３−シクロヘキサンー１−オンのケタールにメチルグ
リニヤー試薬を作用させることによつて製造される。

（式中、Ｒ″，Ｒ″およびｎは前記と同意義とする。

）本発明方法の原料物質である４−メトキシカルフボニ
ルー３−シクロヘキサンー１−オンケタールは、Ｄａｎ
ｉｓｈｅｆｓｋｙらの方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．ＳＯ
ｃ．，狐，７８０７（１９７４）；Ｊ．Ｏｒ′Ｇ．Ｃｈ
ｅｍ．，嫂，５３８（１９７５））によつて製造される
。例えば、１−メトキシー３−トリメチルシリルオキシ
ー１，３プタジエンをアクリル酸メチルと反応させると
、３一メトキシー４−メトキシカルボニルー１−トリメ
チルシリルオキシー１−シクロヘキセンが得られる。後
者を、Ｐ−トルエンスルホン酸のような酸の存在下に、
例えば１，２−エタジオール、１，３−プロパンジオー
ル、２，２−ジメチルー１，３−プロパンジオール、２
−メチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールまた
は２，２ジエチルー１，３−プロパンジオールのような
グリコールと反応させると、メタノールの脱離、トリメ
チルシリル基の加水分解と同時にケタール化が起り、４
−メトキシカルボニルー３−シクロヘキセンー１−オン
・ケタール（■）が得られる。本発明方法においては、
上記のケタール化合物（■）を、ジエチルエーテルの存
在下、反応温度０−２５℃で、メチルグリニヤー試薬、
好ましくはメチルマグネシウムプロミドと反応させる。
常法に従つて処理すると、対応する第三アルコールたる
目的物質、すなわち４−（１−ヒドロキシー１−メチル
エチル）−３−シクロヘキセンー１−オン・ケタール（
■）が得られる。例えば、４−メトキシカルボニルー３
−シクロヘキサンー１−オンの２，２−ジメチルー１，
３ープロパンジオールケタールを、ジエチルエーテルの
ような溶媒中メチルマグネシウムプロミドと２時間反応
させ、この反応溶液を塩化アンモニウム水溶液で処理し
、溶媒を除去すると対応する第三アルコール、すなわち
４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチル）−３−シク
ロヘキセンー１一オンの２，２−ジメチルー１，３−プ
ロパンジオ１ールケタール（■，ｎ＝１，Ｒ″＝Ｒ″＝
ＣＨ３）が得られる。

こうして得られる生成物は、後で述べる中間体としての
用途に供するためには、通常、さらに精製することを要
しないが、所望なら常法によつて蒸留またはクロマトグ
ラフしてもよい。

他のケタールあるいは他のメチルグリニヤー試薬を用い
る場合も、上記の操作に準じて容易に実施することがで
きる。

本発明にかかる４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチ
ル）−３−シクロヘキセンー１−オン●ケタール（■）
は医薬品またはその製造用中間体として有用である。

特に、このものは、精神神経科領域における医薬品とし
て有用な６ａ，１０１−トランスー１−ヒドロキシー３
一置換−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，
１０１１，−ヘキサヒドロー側一ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ランー９−オン類を経済的に製造するための中間体とし
て有用である。上記ジベンゾピラノン類は、特に疼痛、
不安、うつ症状の治療上有用てある。

（米国特許第３９２８５９８号、第３９４４６７３号、
第３９５３６０３号）。これらは、Ｆａｈｒｅｒｌｌｌ
Ｏｌレ，Ｌｕｒｉｅ，Ｋｉｅｒｓｔｅａｄ，Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．ＳＯｃ，，嬰−，２０７９（１９６６） ，
？，５９３４（１９６７）の記載に従つて製造される。
すなわち、５−アルキルレゾルシノールとａ−アセチル
グルタール酸ジエチルを反応させて４−メチルーー５−
ヒドロキシー７−アルキルクマリンー３−プロピオン酸
エチルとし、これを水素化金属で閉環させて対応する１
−ヒドロキシー３−アルキルー７，１０−ジヒドロー萌
−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー６，９（８Ｈ）−ジオン
とし、９位のケトンをケタール化した後メチルマグネシ
ウムプロミドと反応させ、脱ケタール化すると対応する
１−ヒドロキシー３−アルキルー６，６−ジメチルー６
，６ａ，７，８−テトラヒドロー明一ジペンゾ〔Ｂ，ｄ
〕ピランー９−オンが得られる。後者を還元すると、対
応する６ａ，１０１−トランスー１−ヒドロキシー３−
アルキルー６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０
，１０３，−ヘキサヒドロー明一ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ランー９−オンが主生成物として得られ、同時に活性の
劣る６ａ，１０１１−シス異性体が少量生成する。トラ
ンスージベンゾピラノン類のこの製法は、工程数が多く
全収率が低いこと、シス異性体からトランス異性体を分
離しなければならない点で不利である。最近、６ａ，１
０１−シスーヘキサヒドロジベンゾピラノン類が対応す
るトランス異性体に変換され得ること、このシスーヘキ
サヒドロジベンゾピラノン類が僅か１工程で収率よく製
造され得ることが見出された。

すなわち６ａ，１ω−シスー１−ヒドロキシー３一置換
−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１１，
−ヘキサヒドロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−
オン（１）を、有機溶媒中アルミニウムハライドと反応
させると異性化が起つて、対応する６ａ，１〔一トラン
スーヘキサヒドロジベンゾピラノンが生成する。しかも
、６ａ，１０ａ−シスーヘキサヒドロジベンゾピラノン
（１）は、本発明者らが見出した新合成法によれば、５
一置換レゾルシノール（■）と前記４一（１−ヒドロキ
シー１−メチルエチル）−３−シクロヘキサンー１−オ
ン・ケタール（■）とを反応させることにより収率よく
製造され得る。（式中、ＲはＣ５−ＣｌＯアルキル、Ｃ
５−ＣｌＯアルケニル、Ｃ５−Ｃ８シクロアルキルまた
はＣ５−Ｃ８シクロアルケニルを表わし、？および１０
１位に結合している水素原子は相互にシス配置？α，１
０１１αまたは？β，１０ａβ）をとつているものとす
る。）上記の新合成法は、レゾルシノール（■）とケタ
ール（■）とを、適当な触媒（例えば、三臭化ホウ素、
三フッ化ホウ素または塩化第二スズ）の存在化、有機溶
媒中、例えば−２０乃至１００℃で０．５乃至８時間反
応させることにより実施される。ここで用いる４゛６ａ
，１０１１−シズという用語は、前記式によつて表わさ
れる化合物の？および１０１位に結合している水素原子
の相対的配置に関する。従つて、゜゜６ａ，１０ａ−シ
ズとして示される化合物は、前記式において？および１
０１１位に結合している水素原子が分子面に対して同じ
側に配置している化合物である。このことから理解され
るように、゛６ａ，１０１−シズという表示によつて少
くとも２個の異性が含まれることになる。さらに詳しく
云えは、ω水素と１０１水素が共に分子面の上側に配置
している化合物があつて、この場合それらの絶対配置は
、ωβ，１０１１βとして示される。一方ては、？水素
と１０３水素が共に分子面の一下側に配置している化合
物があつて、この場合それらの絶対配置はωα，１０１
αとして示される。ここでは、ω位水素原子と１０ａ位
水素原子の絶対配置は表示しないこととする。従つて゜
゜６ａ，１０１−シズという表示は、前記一般式で表わ
さ．れる化合物のそれぞれの鏡像異性体を含むだけでな
く、これら鏡像異性体の混合物をも含むものと理解され
るべきである。上記の方法によつて製造される生成物は
、実質的に専ら１−ヒドロキシー３一置換−６，６−ジ
４メチルー６，６ａ，７，８，１０，１〔，−ヘキサヒ
ドロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オンのＤＩ
−６ａ，１〔−シス異性体であるが、一般に約１％ない
し約５％（重量）程度の少量の対応するｄ１−６ａ，１
０１−トランス異性体が検出される。

しかしながら、主生成物であるｄ１−シスヘキサヒドロ
ジベンゾピラノンは、一般にハロゲン化アルミニウムで
処理することによつて純粋なｄｌ−トラ７ンス異性体を
除去する精製は不必要である。上記方法で使用するレゾ
ルシノール類（■）はＡｄａｍｓｅｔａｌ，Ｊ．，Ａｒ
ｎ．Ｃｈｅｍ．ＳＯｃ．，互，６６４（１９４８）に記
載の方法によつて製造される。本発明に係る４−（１−
ヒドロキシー１−メチθルエチル）−３−シクロヘキサ
ンー１−オン●ケタールを用いる新製法により製造され
るｄ１−６ａ，１０１−シスージベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラ
ノン類について、具体的な例を示すと次に掲げるような
化合物がある。５ｄ１−６ａ，１０ａ−シスー１−ヒド
ロキシー３−ｎ−ペンチルー６，６−ジメチルー６，６
ａ，７，８，１０，１０ａ，−ヘキサヒドロー明−ジペ
ンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン；ＤＩ−６ａ，１０ｉ
−シスー１−ヒドロキシー３ーノ（１，２−ジメチルヘ
プチル）−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０
，１０１１，−ヘキサヒドロー側一ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕
ピランー９−オンニｄｌ−６ａ，１０ａ−シスー１−ヒ
ドロキシー３−（１，１−ジメチルー２−オクテニル）
−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１０１
，−ヘキサヒドロー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９
ーオン；ｄ１−６ａ，１０ａ−シスー１−ヒドロキシー
３−（１，２−ジメチルー１−ヘキセニル）−６，６−
ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１０ａ，−ヘキサ
ヒドロー叩−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン；Ｄ
Ｉ−６ａ，１０ａ−シスー１−ヒドロキシー３−シクロ
ヘキシルー６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０
，１０１，−ヘキサヒドロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ランー９−オンニＤＩ−６ａ，１０１−シスー１−ヒド
ロキシー３−（１−シクロヘプテニル）−６，６−ジメ
チルー６，６ａ，７，８，１０，１０１，−ヘキサヒド
ロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン；および
ｄｌ−６ａｉ２、、、１〔−シスー１−ヒドロキシー３
一（２−シクロヘキセニル）−６，６−ジメチルー６，
６ａ，７，８，１０，１０１１１，−ヘキサヒドロー胆
−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン。

本方法は、適当な触媒、例えば三フッ化ホウ素、三臭化
ホウ素、塩化第二スズなどの存在下に実施される。

特に好ましい触媒には、三フッ化ホウ素（一般に、ジエ
チルエーテレート●コンプレックスとして市販されてい
る）および塩化第二スズが含まれる。本方法で一般に使
用される触媒量は、当モル量ないし１〜６モル過剰量の
範囲である。しかし、触媒の正確な使用量は重要でなく
、好ましい触媒量は２〜４モル過剰量である。本方法は
、通常、ハロゲン化炭化水素類（ジクロルメタン、クロ
ロホルム、１，１ージクロルエタン、１，２ージクロル
エタン、１，２ージブロムエタン、１−ブロムー２−ク
ロルエタン、１ーブロムプロパン、１，１ージブロムエ
タン、２ークロルプロパン、１−ヨードプロパン、１−
ブロムー２−クロルエタン、ブロムベンゼン、１，２ー
ジク咀レベンゼンなど）、芳香族溶媒（ベンゼン、クロ
ルベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレンなど
）、エーテル類（ジエチルエーテル、メチルエチルエー
テル、ジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなど
）のような有機溶媒中で実施される。特に好ましい溶媒
には、ジクロルメタン、１，１ージクロルエタン、１，
２−ジブ七ムエタン、１，２ージクロルエタン、１−ク
ロルプロパン、２−ブロムプロパン、クロルベンゼン、
ベンゼン、キシレン、トルエン、ジエチルエーテルおよ
びメチルエチルエーテルが含まれる。ある量の水が反応
混合物に加えられてもよく、この場合目的とする生成物
に対して１モル当量の水を加える。

しかし、さらに少量もしくは大量、すなわち生成物に対
して０．１〜５モル当量の水が使用されてもよい。通常
、本方法は、−２０℃〜１００′Ｃの範囲て実施され、
好ましくは−１０℃〜４０′Ｃさらに好ましくは一１０
゜Ｃ〜室温で実施される。

シクロヘキサノン・ケタールと５一置換レゾルシノール
の反応は０．５〜８．（ロ）間で実質的に完了するが、
さらに長時間反応させても目的物の生成に有害ではない
ので、必要なら長時間反応させてもよい。反応終了後、
生成物、ｄ１−６ａ，１０１１−シスー１ーヒドロキシ
ー３一置換−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１
０，１〔，−ヘキサヒドロー側ージペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ランー９−オンは、反応液を水だけで洗滌するかまたは
、必要なら希塩基水溶液および希酸水溶液で順次洗滌し
、この反応液から溶媒を、例えば減圧蒸留によつて除去
することにより容易に単離される。

生成物、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シスーヘキサヒドロジベ
ンゾピラノンは、通常さらに精製することを要しない。
ｄ１−６ａ，１０１−シスー１−ヒドロキシー３一置換
−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１〔，
−ヘキサヒドロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー１−
オン（１）は、それ自身薬理的に活性であり、また他の
抗不安剤や抗うつ剤を製造するのに有用である。

例えば、ｄ１−６ａ，１０１−シスー１−ヒドロキシー
３−（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル
ー６，６ａ，７，８，１０，１〔，−ヘキサヒドロー明
−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オンをジクロルメタ
ン中塩化アルミニウムと反応させると完全な異性化が起
り、対応するｄ１−６ａ，１０ａ−トランス化合物、Ｄ
Ｉ−６ａ，１０ａ−トランスー１−ヒドロキシー３一（
１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチルー６，
６ａ，７，８，１０，１Ｃ＄３，−ヘキサヒドロー側一
ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オンが得られる。後者
は、これを１日量約０．１〜１００ｍ９で投与するとき
、ひとの不安症および／またはうつ病の治療に特に有効
てある。本発明化合物、その製法およびその中間体とし
ての使用方法をさらに詳しく説明するために、以下に実
施例および参考例を示す。

実施例１ α，α−ジメチルー１，４−ジオキサスペロ〔４，５〕
−７−デセンー８−メタノール；４一（１−ヒドロキシ
ー１−メチルエチル）−３−シクロヘキセンー１−オン
●エチレンケタールメチルマグネシウムプロミド１１０
ｒｒ１ｍ０１のジエチ）ルエーテル溶液に、攪拌下、４
−メトキシカルボニルー３−シクロヘキセンー１−オン
●エチレンケタール１１．０ｇをトルエン１００ｍ１に
溶かした溶液を３紛間で滴下した。

反応混液を約１５℃で２時間攪拌し、次いで５℃に冷却
して１．３Ｍ塩化アンモニ）ウム水溶液１００ｍ１に加
えた。有機層を分離し、水洗、乾燥後溶媒を減圧下に留
去して４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチル）−３
−シクロヘキセンー１−オン●エチレンケタール６．６
ｇを得た。元素分析：ＣｌｌＨｌ８Ｏ３として計算値：
Ｃ，６６．６４：Ｈ，９．ｌ５；０，２４．２１。実験
値：Ｃ，６６．６８：Ｈ，９．Ｏ５；０，２４．３００
ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：γ１．３（Ｓ，６Ｈ，Ｃ（ＣＨ
３）２）：２．６（Ｓ，ｌＨ，ＯＨ）実施例２α，α，
３，３−テトラメチルー１，５−ジオキサスピロ〔５，
５〕−５−ウンデセンー９−メタノール；４−（１−ヒ
ドロキシー１−メチルエチル）−３−シクロヘキセンー
１−オン●２，２ージメチルー１，３−プロパンジオー
ルケタール反応温度を２５℃とした点を除き、実施例１
の操作に従い、４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチ
ル）−３−シクロヘキセンー１−オン・２，２ージメチ
ルー１，３−プロパンジオールケタール８０ｇを得た。

ＭｐｌｌＯ℃。元素分析：Ｃｌ４Ｈ２４Ｏ，として計算
値：Ｃ，６９．９６；Ｈ，ｌＯ．Ｏ７；０，１９．９７
。実験値：Ｃ，７Ｏ．ｌ７；Ｈ，ｌＯ．ｌｌ；０，２０
．０７。ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ１．３（Ｓ，６Ｈ，
Ｃ（ＣＨ３）２−０Ｈ）１．０（２Ｓ，各３Ｈ，Ｃ−Ｃ
（ＣＨ３）２−Ｃ）。参考例１ｄ１−６ａ，１１−シス
ー１−ヒドロキシー３一（１，１−ジメチルヘプチル）
−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１〔，
−ヘキサヒドロー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−
オン４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチル）一３−
シクロヘキセンー１−オン●エチレンケタール２．３０
ｇと５−（１，１−ジメチルヘプチル）レゾルシノール
２１．２ｇを市販ジクロルメタン５０ｍ１に溶かし、攪
拌しながら氷／アセトン浴を用いて一１０℃に冷却した
。

この冷攪拌混液に、塩化第二スズ３．６ｍ１を５分間で
滴下した。塩化第二スズの滴下中に反応混液の温度は−
１０℃から０℃に上昇した。塩化第二スズの添加終了後
、反応混液を０〜５℃に維持しながら４時間、さらに２
５゜Ｃに加温してから２時間攪拌した。次いで反応混液
を水および１Ｎ水酸化ナトリウムて洗滌し、乾燥した。
減．圧下に溶媒を留去し、固形残渣をｎ−ヘキサン２０
ｍ１から結晶化して純度８９％のｄ−６ａ，１０３−シ
スー１−ヒドロキシー３−（１，１−ジメチルヘプチル
）−６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１〔
，−ヘキサヒドロー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９
−オン２．６６ｇを得た。Ｍｐｌ６Ｏ〜１６２℃。参考
例２ ｄ１−６ａ，１０ａ−シスー１−ヒドロキシー３一（１
，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチルー６，６
ａ，７，８，１０，１〔，−ヘキサヒドロー側−ジペン
ゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン４−（１−ヒドロキシー
１−メチルエチル）一３−シクロヘキセンー１−オン・
２，２−ジメチルー１，３−プロパンジオールケタール
８４０ｍｇ、５−（１，１−ジメチルヘプチル）レゾル
シノール７５０ｍｇおよび市販ジクロルメタン４０ｍ１
の混合物を−１０℃に冷却して攪拌しながら塩化第二ス
ズ）０．８２ｍ１を一度に加えた。

反応混液を０〜５℃に温めて４時間、さらに約２５℃に
加温して３時間攪拌した。反応混液を水および１Ｎ水酸
化ナトリウム溶液て洗滌し、乾燥した。減圧下に溶媒を
留去して、ｄ１−６ａ，１ω−シスー１−ヒドロキシー
３一）（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチ
ルー６，６ａ，７，８，１０，１０１，−ヘキサヒドロ
ー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン８３０ｍｇ
を得た。本品は１０ｍＬ（７）ｎ−ヘキサンから結晶化
された。Ｍｐｌ５９〜１６１℃。ノ参考例３ ｄ１−６ａ，１０１−シスー１−ヒドロキシー３−ｎ−
ペンチルー６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８９１０
，１由，−ヘキサヒドロー明−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラ
ンー９−オン５−ｎ−ペンチルレゾルシノール１．８ｇ
１４−（１−ヒドロキシー１−メチルエチル）−３−シ
クロヘキセンー１−オン●エチレンケタール２．４ｇお
よびジクロルメタン５０ｍＬの混合物を−１０４Ｃに冷
却し、攪拌しながら塩化第二スズ１．８ｍ１を１紛間で
滴下した。

塩化第二スズの添加中に、反応混液の温度は−４℃に上
昇した。反応混液をＯ〜５℃に温めて６時間攪拌した。
反応混液を数回水洗し、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し
て油状残渣を得た。これをイソプロパノール２ｍ１を含
むメチルシクロヘキサン５ｍ１から結晶化し、ｄｌ−６
ａ，１〔ーシスー１−ヒドロキシー３−ｎ−ペンチルー
６，６−ジメチルー６，６ａ，７，８，１０，１０ａ，
−ヘキサヒドロー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−
オン５００ｍ９を得た。Ｍｐｌ５２〜１５４℃。参考例
４ｄ１−６ａ，１〔−シスー１−ヒドロキシー３−（１
，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチルー６，６
ａ，７，８，１０，１０１，−ヘキサヒドロー側−ジペ
ンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−ホン４−（１−ヒドロキシ
ー１−メチルエチル）−３−シクロヘキセンー１−オン
・プロピレンケタール（５．２？）、５−（１，１−ジ
メチルヘプチル）レゾルシノール４．７２ｇおよびジク
ロルメタン（シクロヘキサンで安定化）１００ｍｔの混
合物を−２０℃に冷却して攪拌し、温度を一定に保ちな
がら塩化第二スズ５．２ｍ１を１５分間で滴下した。次
いで反応混液をＯ℃で８時間攪拌し、水１００ｍ１を加
えた。■時間放置し、有機層を分取し、１Ｎ塩酸１００
ｍ１ずつで２回、水１００ｍ１で１回洗滌した。硫酸マ
グネシウムで乾燥し、沖過し、減圧下に溶媒を留去し、
粗生成物７．７ｇを得た。これをヘキサンから再結晶し
、純度９０％のＤＩ−６ａ，１０１−シスー１ーヒドロ
キシー３−（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジ
メチルー６，６ａ，７，８，１０，１１，−ヘキサヒド
ロー側−ジペンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン６．７５
ｇを得た。本品は、ＲｌＩＴｌｒにより参考例１の製品
と同定された。参考例５ ｄ１−６ａ，１〔−シスー１−ヒドロキシー３一（１，
１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチルー６，６ａ
，７，８，１０，１０１，−ヘキサヒドロー側−ジペン
ゾ〔Ｂ，ｄ〕ピランー９−オン反応混液に水０．３６ｍ
Ｌを加えたこと、塩化第二スズ添加時に−１０℃を維持
したことの２点を除き、参考例４の操作を反覆した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式IIIで表わされる４−（１−ヒドロキシ−１−メ
   チルエチル）−３−シクロヘキサン−１−オン・ケター
   ル。 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｒ
   ′およびＲ″は独立して水素、メチルまたはエチル、ｎ
   は０または１を表わす。 ）２ ｎが０である特許請求の範囲１記載の化合物。３
   ｎが１である特許請求の範囲１記載の化合物。 ４ Ｒ′とＲ″が共にメチルである特許請求の範囲１記
   載の化合物。 ５ 式IVで表わされる化合物にメチルグリニヤー試薬を
   作用させて式IIIで表わされる化合物を得ることを特徴
   とする製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）▲数式、化
   学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｒ′およびＲ″
   は独立して水素、メチルまたはエチル、ｎは０または１
   を表わす。 ）６ 反応温度が０〜２５℃である特許請求の範囲５記
   載の方法。７ 反応をジエチルエーテルの存在下に行う
   特許請求の範囲５または６記載の方法。 ８ メチルグリニヤー試薬がメチルマグネシウムプロミ
   ドである特許請求の範囲５，６または７記載の方法。 ９ ｎが０である特許請求の範囲５，６，７または８記
   載の方法。 １０ ｎが１で、Ｒ′とＲ″が共にメチルである特許請
   求の範囲５，６，７または８記載の方法。