JPS5943465B2 - ６ａ，１０ａ−シス−ヘキサヒドロジベンゾピラノン類の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、５一置換レゾルシノ一ルと４−（１ヒドロキ
シ−１−メチルエチル）−３−シクロヘキセン−１−オ
ンの新規ケタールを、塩化第二スズの存在下に反応させ
、実質上選択的に６ａ，１０ａ−シス−１−ヒドロキシ
−３一置換−６，６ジメチル−６，６ａ，７，８，１０
，１０ａーヘキサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ビ
ラン−９−オンを製造する新規方法に関する。

ある種のジベンゾピラノンは、有用な薬剤である。

６ａ，１０ａ−トランス−１−ヒドロキシ−３アルキル
−６，６−ジメチル−６，６ａ，７ ８ １０ １０ａ
−ヘキサヒドロ−９Ｈ−ジ９ ９
９ベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オン類が、特に疼痛
、不安、うつ症状の治療上有用であることが最近発見さ
れた（米国特許第３，９２８．５９８号、第３，９４４
，６７３号、第３，９５３，６０３号参照）。

この種の化合物は、Ｆａｈｒｅｎｈｏｌｔｚ，Ｌｕｒｉ
ｅ，Ｋｉｅｒｓｔｅａｄ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏ
ｃ．，？．２０７９（１９６６）；旦』１５９３４（１
９６７）の記載に従つて製造される。すなわち、５−ア
ルキルレゾルシノ一ルとα−アセチルグルタール酸ジエ
チルを反応させて４−メチル−５−ヒドロキシ−７−ア
ルキルクマリン−３−プロピオン酸エチルとし、これを
水素化金属で閉猿させて対応する１−ヒドロキシ−３−
アルキル−７，１０−ジヒドロ−６Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，
ｄ〕ピラン−６，９（８Ｈ）−ジオンとし、９位のケト
ンをケタール化した後メチルマグネシウムプロミドと反
応させ、脱ケタール化すると対応する１−ヒドロキシ−
３−アルキル−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８−
テトラヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ．ｄ〕ビラン−９−
オンが得られる。後者を還元すると、対応する６ａ，１
０ａ−トランス−１−ヒドロキシ−３−アルキル−６，
６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキ
サヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オン
が主生成物として得られ、同時に活性の劣る６ａ，１０
ａ−シス異性体が少量生成する。トランスージベンゾピ
ラノン類のこの製法は、工程数が多く全収率が低いこと
、シス異性体からトランス異性体を分離しなければなら
ない点で不利である。最近、６ａ，１０ａ−シスーヘキ
サヒドロジベンゾビラノン類が対応するトランス異性体
に変換され得ること、このシスーヘキサヒドロジベンゾ
ピラノン類が僅か１工程で収率よく製造され得ることが
見出された。

すなわち、６ａ，１０ａ−シス−１−ヒドロキシ−３一
置換−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１
０ａ−ヘキサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン
−９−オンを、有機溶媒中アルミニウムハライドと反応
させると異性化が起つて、対応する６ａ，１０ａ−トラ
ンスーヘキサヒドロジベンゾピラノンが生成する。この
製法は、本出願と同一田こ提出した係属中の米国出願の
目的とするところである。本発明は、式１で表わされる
６ａ，１０ａ−シスーヘキサヒドロジベンゾピラノンの
新しい製法を提供する。（式中、ＲはＣ５〜Ｃ１０アル
キルを表わし、６ａおよひ１０ａ位に結合する水素原子
は相互にシス配置をとつているものとする。

）この製法は、５一置換レゾルシノ一ル（■）と４（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３シクロヘキセノ
ンから常法によつて誘導される環状または非環状のケタ
ール（■）とを、塩化第二スズの存在下、有機溶媒中、
例えば、−２０℃〜１００℃で、Ｏ．５〜８時間反応さ
せることからなる。

（式中、ＱおよぴＱは、それぞれ独立してあるいは互い
に結合してＪ環状あるいは非環状ケタールの炭化水素残
基を表わす。

）これらは、例えば、式■で表わされるシクロヘキセノ
ン・カルボン酸エステル・ケタールを、ジエチルエーテ
ル中、Ｏ〜２５℃でメチルマグネシウムブロミドと反応
させることによつて製造される。

（式中、ＱおよびＱ７は、前記と同意義とする。

）原料物質■′のうち、特に好ましいのは環状ケタール
、殊に式■で表わされる環状ケタールであつて、同様に
式■のカルボン酸エステル・ケタールから誘導される。
たはエチル、ｎはＯまたは１を表わす。

）本発明は６ａ，１０ａ−シスーヘキサヒドロジベンゾ
〔ｂ，ｄ〕ビラン−９−オンの有利な製法を提供する。

ここで用いる″６ａ，１０ａ−シス０という用語は、前
記式によつて表わされる化合物の６ａおよび１０ａ位に
結合している水素原子の相対的配置に関する。従つて、
“６ａ，１０ａ−シス”として示される化合物は、前記
式において６ａおよび１０ａ位に結合している水素原子
が分子面に対して同じ側に配置している化合物である。
このことから理解されるように、“６ａ，１０ａ−シス
０という表示によつて少くとも２個の異性が含まれるこ
とになる。さらに詳しく云えば、６ａ水素と１０ａ水素
が共に分子面の上側に配置している化合物があつて、こ
の場合それらの絶対配置は、６ａβ，１０ａβとして示
される。一方では、６ａ水素と１０ａ水素が共に分子面
の下側に配置している化合物があつて、この場合それら
の絶対配置は６ａα，１０ａαとして示される。ここで
は、以下６ａ位水素原子と１０ａ位水素原子の絶対配置
は表示しないこととする。

従つて゜゜６ａ，１０ａ−シズ゜という表示は、前記一
般式で表わされる化合物のそれぞれの鏡像異性体を含む
だけでなく、これら鏡像異性体の混合物をも含むものと
理解されるべきである。例えば、本発明方法で製造され
る６ａ，１０ａ−シス化合物は、６ａα，１０ａα一体
および６ａβ，１０ａβー体のいずれであつてもよく、
さらに両者の混合物であつてもよいものとし、本発明方
法による通常の生成物は後者であつて、この種の混合物
は常法通りに゛ｄｌ一混合物゛として表示される。本発
明の方法によつて製造される製品は、実質的に専ら１−
ヒドロキシ−３一置換−６，６−ジメチル−６，６ａ，
７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ
〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オンのｄｌ−６ａ，１０ａ−シ
ス異性体であるが、一般に約１％ないし約５０ｋ）（重
量）程度の少量の対応するｄｌ−６ａ，１０ａ−トラン
ス異性体が検出される。しかしながら、主生成物である
ｄｌ−シスヘキサヒドロジベンゾピラノンは、一般にハ
ロゲン化アルミニウム処理することによつて（詳細は後
記）、純粋なｄｌ−トランス異性体に変換されるので、
上記の混合生成物からトランス異性体を除去する精製は
不必要である。本発明方法では、４−（１−ヒドロキシ
−１−メチルエチル）−３−シクロヘキセン−１−オン
のケタールと５一置換レゾルシノールを有機溶媒中、適
当な触媒の存在下に反応させる。

この方法に用いるシクロヘキサノン誘導体とレゾルシノ
ール誘導体の量は、一般に凡そ等モル量である。しかし
、必要ならいずれかの反応成分を過剰に使用してもよい
。５一置換レゾルシノールの５位および式１の目的物質
の３位に存在する置換基は同一であり、それぞれの式に
おいてＲで表わされている。

Ｒは、Ｃ５〜ＣｌＯアルキル基を表わし、例えば１，１
−ジメチルペンチル、ｎ−ペンチル、イソヘキシル、ｎ
−ヘキシル、１−メチルヘキシル、１−エチル−２−メ
チルヘキシル、１，２−ジメチルヘプチル、１，１−ジ
メチルヘプチル、ｎ−オクチル、１，２，３−トリメリ
ルヘブチル、１−メチルノニル、ｎ−デシル、１，１−
ジメチルオクチル、１−エチル−１−メチルヘキシルを
含む。本発明方法に使用される５一置換レゾルシノール
の例には、５−ｎ−ペンチルレゾルシノール、５−ｎ−
ヘキシルレゾルシノール、５−（１−メチル−２−エチ
ルヘキシル）レゾルシノール、５（１，１−ジメチルオ
クチル）レゾルシノール、５−（１，２−ジメチルブチ
ル）レゾルシノール、５−（１，２−ジメチルヘプチル
）レゾルシノール、５−（１−エチル−２−メチルブチ
ル）レゾルシノール、５−ｎ−オクチルレゾルシノール
が含まれる。

これらのレゾルシノール類は、Ａｄａｍｓｅｔａｌ，Ｊ
．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．ＳＯｃ．，７Ｏ，６６４（１９４８
）によつて示された方法によつて製造される。

本発明方法によつて容易に製造されるｄｌ一６ａ，１０
ａ−シスージベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラノン類の例としては
、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ３−ｎ−
ペンチル一６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０
，１０ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ラン一９−オン；ｄ！−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒド
ロキシ−３−（１，２−ジメチルヘプチル）−６，６−
ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒ
トロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラン一９一オンなど
が挙げられる。

本方法は、触媒としての塩化第二スズの存在下に実施さ
れる。

本方法で一般に使用される触媒量は、当モル量ないし１
〜６モル過剰量の範囲である。しかし、触媒の正確な使
用量は重要でなく、好ましい触媒量は２〜４モル過剰量
である。本方法は、通常、ハロゲン化炭化水素類（ジク
ロルメタン、クロロホルム、１，１−ジクロルエタン、
１″，２−ジクロルエタン、１，２−ジブロムエタン、
１−ブロム−２−クロルエタン、１ブロムプロパン、１
，１−ジブロムエタン、２−クロルプロパン、１−ヨー
ドプロパン、１−ブロム−２−クロルエタン、ブロムベ
ンゼン、１，２−ジクロルベンゼンなど）、芳香族溶媒
（ベンゼン、クロルベンゼン、ニトロベンゼン、トルエ
ン、キシレンなど）、エーテル類（ジエチルエーテル、
メチルエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテルなど）のような有機溶媒中で実施される。
特に好ましい溶媒には、ジクロルメタン、１，１−ジク
ロルエタン、１，２−ジブロムエタン、１，２−ジクロ
ルエタン、１−クロルプロパン、２−ブロムプロパン、
クロルベンゼン、ベンゼン、キシレン、トルエン、ジエ
チルエーテルおよびメチルエチルエーテルが含まれる。
ある量の水が反応混合物に加えられてもよく、この場合
目的とする生成物に対して１モル当量の水を加える。し
かし、さらに少量もしくは大量、すなわち生成物に対し
て０．１〜５モル当量の水が使用されてもよい。通常、
本発明方法は、−２０℃−１００℃の範囲で実施され、
好ましくは−１０℃〜４０℃、さらに好ましくは−１０
℃〜室温で実施される。

シクロヘキサノン・ケタールと５一置換レゾルシノール
の反応は０．５〜８．０時間で実質的に完了するが、さ
らに長時間反応させても目的物の生成に有害ではないの
で、必要なら長時間反応させてもよい。反応終了後、生
成物、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シス一１ヒドロキシ−３一
置換−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１
０ａヘキサヒトロー９Ｈニジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ビラン一
９−オンは、反応液を水だけで洗滌するかまたは、必要
なら希塩基水溶液および希酸水溶液で順次洗滌し、この
反応液から溶媒を、例えば減圧蒸留によつて除去するこ
とにより容易に単離される。

生成物、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シスーヘキサヒドロジベ
ンゾピラノンは、通常さらに精製することを要しない。
式Ｖで表わされる４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエ
チル）−３−シクロヘキセン−１−オンのケタール類は
新規物質である。特に好ましいケタールは、式■で表わ
される環状ケタールである。これらは、一般に、４−メ
トキシカルボニル−３−シクロヘキセン−１−オンの適
当なケタールにメチルグリニヤー試薬、例えばメチルマ
グネシウムプロミドを作用させることによつて製造され
る。４−メトキシカルボニル−３−シクロヘキセンー１
−オンのケタール類は、Ｄａｎｉｓｈｅｆｓｋｙらの方
法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９６，７８０７（
１９７４）；Ｊ．０ｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，５３８（１
９７５）によつて製造され得る。

例えば、１ーメトキシ−３−トリメチルシリルオキシ−
１，３−ブタジエンをアクリル酸メチルと反応させると
、３−メトキシ−４−メトキシカルボニル−１−トリメ
チルシリルオキシ−１−シクロヘキセンが得られる。後
者を、ｐ−トルエンスルホン酸のような酸の存在下に、
例えば１，２−エタンジオール、１，３−プロパンジオ
ール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、
２−メチルー２−エチル−１，３−プロパンジオールま
たは２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオールのよ
うなグリコールと反応させると、メタノ一ルの脱離、ト
リメチルシリル基の加水分解と同時にケタール化が起り
、４−メトキシカルボニル−３ーシクロヘキセン−１−
オン・ケタールが得られる。このケタールを、ジエチル
エーテルの存在下０〜２５℃でメチルマグネシウムブロ
ミドと反応させると対応する第三アルコール、すなわち
４−（１ーヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−シク
ロヘキセン−１−オン・ケタールが得られる。例えば、
４−メトキシカルボニル−３−シクロヘキセン−１−オ
ンの２，２−ジメチル−１，３一プロパンジオールケタ
ールを、ジエチルエーテルのような溶媒中メチルマグネ
シウムブロミドと２時間反応させ、この反応溶液を塩化
アンモニウム水溶液で処理し、溶媒を除去すると対応す
る第三アルコール、すなわち４−（１−ヒドロキシ１−
メチルエチル）−３−シクロヘキセン−１′オンの２，
２−ジメチル−１，３−プロパンジオールケタール（■
，ｎ−１，Ｒ′＝Ｒ″＝ＣＨ３）が得られる。

このものは、通常、さらに精製することを要しないが、
所望なら、常用の条件下に、蒸留またはクロマトグラフ
してもよい。他のケタール、例えば、非環状のジメチル
ケタール、ジエチルケタールなども上記方法に準じて容
易に製造される。

前にも述べたように、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シス−１ヒ
ドロキシ−３一置換−６，６−ジメチルー６，６ａ，７
，８，１０，１０ａ−ヘキサヒドロ−９Ｈ−ジベンゾ〔
ｂ，ｄ〕ピラン−９−オン（１）はそれ自体薬理的に活
性であり、また抗不安剤や抗うつ剤の製造に有用である
。

例えば、ｄｌー６ａ，１０ａ−シス−１−ヒドロキシ−
３一（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル
−６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒドロ−９
Ｈ−ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オンをジクロルメ
タン中塩化アルミニウムと反応させると完全な異性化が
起り、対応するｄｌ−６ａ，１０ａ−トランス化合物、
ｄｊ−６ａ，１０ａ−卜ランス−１−ヒドロキシ−３−
（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル−６
，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒドロ−９Ｈ−
ジベンゾ〔ｂ，ｄ〕ピラン−９−オンが得られる。後者
は、これを１日量約０．１〜１００Ｗ９で投与するとき
、ひとの不安症およぴ／またはうつ病の治療に特に有効
である。本発明の操作をさらに詳しく説明するために、
以下に参考例および実施例を示す。

参考例 １ α，α−ジメチル−１，４−ジオキサスピロ〔４，５〕
−７−デセン−８−メタノ一ル；４−（１−ヒドロキシ
−１−メチルエチル）−３ーシクロヘキセン−１−オン
・エチレンケターノレメチルマグネシウムブロミド１１
０ｍｍｏｌのジエチルエーテル溶液に、攪拌下、４−メ
トキシカルボニル−３−シタロヘキセン−１−オン・エ
チレンケタール１１．０９をトルエン１００ｍｌに溶か
した溶液を３０分間で滴下した。

反応混液を約１５℃で２時間攪拌し、次いで５℃に冷却
して１．３Ｍ塩化アンモニウム水溶液１００ｍｌに加え
た。有機層を分離し、水洗、乾燥後溶媒を減田下に留去
して４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチノの３−シ
クロヘキセン−１−オン・エチレンケタール６．６９を
得た。元素分析：Ｃｌ，Ｈｌ８Ｏ３として計算値：Ｃ２
，６６．６４；Ｈ，９．ｌ５；０，２４．２１０実験値
：Ｃ，６６．６８；Ｈ，９．Ｏ５；０，２４．３００ｎ
ｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ１．３（Ｓ，６Ｈ，Ｃ（ＣＨ３
）２）；２．６（Ｓ，ｌＨ，ＯＨ）参考例 ２ α，α，３，３−テトラメチル−１，５−ジオキサスピ
ロ〔５，５〕−５−ウンデセン一９−メタノール；４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−シクロヘ
キセン−１−オン・２，２−ジメチル−１，３−プロパ
ンジオールケタール反応温度を２５℃とした点を除き、
参考例１の操作に従い、４−（１−ヒドロキシ−１−メ
チルエチル）−３−シクロヘキセン−１−オン・２，２
−ジメチル−１，３−プロパンジオールケタール８０９
を得た。

ＭｐｌｌＯ℃ｏ元素分析：Ｃｌ４Ｈ２４Ｏ３として計算
値：Ｃ，６９．９６；Ｈ，ｌＯ．Ｏ７；０，１９．９７
０実験値：Ｃ，７Ｏ．ｌ７；Ｈ，ｌＯ．ｌｌ；０，２０
．０７０ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）：δ１．３（Ｓ，６Ｈ，
Ｃ（ＣＨ３）２｛）Ｈ）；１．０（２ｓ，各３Ｈ，Ｃ−
Ｃ（ＣＨ３）２−Ｃ）。実施例 １ｄ１−６ａ，１０ａ
−シス一１−ヒドロキシ−３−（１，１−ジメチルヘプ
チル）−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，
１０ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ビラ
ン一９−オン４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル
）−３−シクロヘキセン−１−オン・エチレンケタール
２．３０９と５−（１，１−ジメチルヘプチル）レゾル
シノール２．１２９を市販ジクロルメタン５０ｍ１に溶
かし、攪拌しながら氷／アセトン浴を用いて−１０℃に
冷却した。

この冷攪拌混液に、塩化第二スズ３．６ｍ１を５分間で
滴下した。塩化第ニスズの滴下中に反応混液の温度は−
１０℃から０℃に上昇した。塩化第二スズの添加終了後
、反応混液を０〜５℃に維持しながら４時間、さらに２
５℃に加温してから２時間攪拌した。次いで、反応混液
を水および１Ｎ水酸化ナトリウムで洗滌し、乾燥した。
減圧下に溶媒を留去し、固形残渣をｎ−ヘキサン２０ｍ
１から結晶化して純度８９％のｄｌ−６ａ，１０ａ−シ
ス一１−ヒドロキシ−３−（１，１−ジメチルヘプチル
）−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１０
ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ビラン一
９−オン２．６６９を得た。Ｍｐｌ６Ｏ〜１６２℃。実
施例 ２ｄ１−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ３
−（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル−
６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ
−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラン一９−オン４−（１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル）−３−シクロヘキセン−１
−オン・２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール
ケタール８４０ｍｇ、５−（１，１−ジメチルヘプチル
）レゾルシノール７５０Ｗ１９および市販ジクロルメタ
ン４０ｍ１の混合物を−１０℃に冷却して攪拌しながら
塩化第二スズ０．８２ｍ１を一度に加えた。

反応混液をＯ〜５℃に温めて４時間、さらに約２５℃に
加温して３時間攪拌した。反応混液を水および１Ｎ水酸
化ナトリウム溶液で洗滌し、乾燥した。減圧下に溶媒を
留去して、ｄｌ−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ
−３−（１，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチ
ル−６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘキサヒトロー
９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ビラン一９−オン８３０ηを
得た。本品は１０ｍ１のｎ−ヘキサンから結晶化された
。Ｍｐｌ５９〜１６１℃。実施例 ３ ｄ１−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ−３−ｎ−
ペンチル一６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０
，１０ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピ
ラン一９−オン５−ｎ−ペンチルレゾルシノール１．８
９，４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−
シクロヘキセン−１−オン・エチレンケタール２．４９
およびジクロルメタン５０ｍ１の混合物を−１０℃に冷
却し、攪拌しながら塩化第二スズ１．８ｍ１を１５分間
で滴下した。

塩化第二スズの添加中に、反応混液の温度は−４℃に上
昇した。反応混液を０〜５℃に温めて６時間攪拌した。
反応混液を数回水洗し、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し
て油状残渣を得た。これを、イソプロパノール２ｍ１を
含むメチルシクロヘキサン５Ｗ１１から結晶化し、ｄｌ
６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ−３−ｎ−ペンチ
ル−６，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１０
ａ−ヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ビラン一
９−オン５００ηを得た。Ｍｐｌ５２〜１５４℃。

実施例 ４ ｄ１−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ３−（１，
１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル−６，６ａ
，７，８，１０，１０ａヘキサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ
〔Ｂ，ｄ〕ピラン一９−オン４−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）３−シクロヘキセン−１−オン・プロ
ピレンケタール（５．２８９），５−（１，１−ジメチ
ルヘプチル）レゾルシノール４．７２９およびジクロル
メタン（シクロヘキサンで安定化）１００ｍ１の混合物
を−２０℃に冷却して攪拌し、温度を一定に保ちながら
塩化第二スズ５．２ｍ１を１５分間で滴下した。

次いで反応混液をＯ℃で８時間攪拌し、水１００ｍ１を
加えた。１６時間放置し、有機層を分取し、１Ｎ塩酸１
００ｍ１ずつで２回、水１００ｍ１で１回洗滌した。硫
酸マグネシウムで乾燥し、Ｐ過し、減圧下に溶媒を留去
し、粗生成物７．７９を得た。これをヘキサンから再結
晶し、純度９００１０のｄｌ−６ａ，１０ａ−シス一１
−ヒドロキシ−３−（１，１−ジメチルヘプチル）−６
，６−ジメチル−６，６ａ，７，８，１０，１０ａ−ヘ
キサヒトロー９Ｈ−ジベンゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラン一９オン
６．７５９を得た。本品は、Ｎｍｒにより実施例１の製
品と同定された。実施例 ５ ｄ１−６ａ，１０ａ−シス一１−ヒドロキシ−３−（１
，１−ジメチルヘプチル）−６，６−ジメチル−６，６
ａ，７，８，１０，１０ａヘキサヒトロー９Ｈ−ジベン
ゾ〔Ｂ，ｄ〕ピラン一９−オン反応混液に水０．３６ｍ
１を加えたこと、塩化第二スズ添加時に−１０を維持し
たことの２点を除き、実施例４の操作を反覆した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 式IIで表わされる５−置換レゾルシノールと４−（
   １−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−シクロヘキ
   セノンのケタールとを、塩化第二スズの存在下、有機溶
   媒中で反応させて、式 I で表わされる６ａ，１０ａ−
   シス−ヘキサヒドロジベンゾピラノン類を得ることを特
   徴とする製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ａ（ I ）▲数式、
   化学式、表等があります▼（II）（式中、ＲはＣ＿５〜
   Ｃ＿１＿０アルキルを表わし、式 I 中の６ａ位および
   １０ａ位に結合する水素原子は相互にシス配置をとるも
   のとする。 ）２ ケタールが式IIIで表わされる化合物である特許
   請求の範囲１記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｒ
   ′およびＲ″は独立して水素、メチルまたはエチル、ｎ
   は０または１を表わす。 ）３ 反応温度が−２０℃ないし１００℃である特許請
   求の範囲１記載の方法。４ 反応時間が０．５ないし８
   時間である特許請求の範囲１記載の方法。 ５ 有機溶媒がハロゲン化炭化水素である特許請求の範
   囲１記載の方法。 ６ Ｒがベンチルまたは１，１−ジメチルヘプチルであ
   る特許請求の範囲１記載の方法。 ７ 反応温度が−１０℃ないし４０℃である特許請求の
   範囲３記載の方法。 ８ ハロゲン化炭化水素がジクロルメタンである特許請
   求の範囲５記載の方法。