JPS6049611B2 - 酸素含有炭化水素化合物の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は合成ガスからの酸素含有炭化水素化合物の製
造法に関し、特に、ロジウム触媒の存在下に一酸化炭素
と水素を反応させて酢酸、アセトアルデヒドおよび（ま
たは）エタノールを製造する際、助触媒としてマンガン
、ハーフニウム及びリチウムを併用することを特徴とす
る方法に関する。

合成ガス、実質的にはその中に含まれる一酸化炭素と
水素、から、酢酸、アセトアルデヒド、エタノールなど
の炭素数２の含酸素炭化水素を製造する方法は公知であ
り、その際用いられる触媒としてはロジウム（Ｒｈ）触
媒が効果的であることが知られている。

（例えば、特開昭５１−８０８０６号、同５１−８０８
０７号、同５２−１４７０６号、同５４−１３８５０４
号、同５４−１４１７０５号、同５５−５７５２７号等
参照）。即ち、合成ガス又は一酸化炭素と水素を含むガ
ス混合物を接触的に反応させた場合、使用する触媒や反
応条件によつて反応生成物は極めて多岐に亘り、例えば
、メタンからパラフィンワックスに至る飽和およびα−
オレフィンに富む不飽和の各種脂肪族炭化水素並びに炭
素数６乃至ｍ数個の芳香族炭化水素や、メタノールから
炭素数会見くの高級アルコールに至る各種アルコール類
その他アルデヒド類や脂肪酸類など各種の含酸素炭化水
素化合物が生成する。換言すれば、これら膨大な数の各
種生成物の中から不必要な化合物の生成を抑制し、所望
とする特定の化合物のみを選択的に生成させることは非
常に難しく、そのため好適な触媒の探索を主体に種々の
工夫がなされているが、上述の酢酸、アセトアルデヒド
、エタノールなどの２個の炭素原子を有する含酸素炭化
水素化合物を高い選択率をもつて取得するにはロジウム
触媒が特異的に優れていると言われている。 しかし乍
ら、ロジウム触媒を用いて或る条件下に反応を行つた場
合には、確かに炭酸ガスやメタンその他の炭化水素など
好ましくない副生物の生成は抑制され、或る程度選択的
に炭素数２の含酸素化合物が生成することが認められる
が、触媒活性成分としてロジウム単独では活性が低く、
また、選択性に関しても炭素数２の含酸素化合物のうち
主たる生成物はアセトアルデヒドであるため目的化合物
として酢酸を所望する場合には目的物の収率が充分では
ないという難点がある。

殊に、ロジウムは高価な物質であるため、その触媒活性
や目的物の選択性を改善することは工業上重要な意味を
もつている。一般に金属や金属酸化物或いは金属塩を活
性成分とする固体触媒などに於いてその活性や選択性を
改善する方法の一つとして活性の中心となる成分（主触
媒）に他の活性又は補助的な成分（助触媒）を組合せる
ことが種々試みられているが、組合せる成分によつては
活性向上に何の関係も無いものは論外として、狙いとは
逆に活性や選択性の低下を招くものも数多く、また活性
（又は選択性）が向上するものてあつても目的化合物の
選択性（又は活性）に悪影響を及ぼすものも少なくなく
、具体的に好適な組合せを見出すことは容易ではない。

本発明者らは一酸化炭素と水素を反応させて酢酸、アセ
トアルデヒドおよび（または）エタノールなどの２個の
炭素原子を有する含酸素炭化水素化合物を製造する方法
に於いて、主触媒たるロジウムの触媒性能を改善すべく
、これに数多くの助触媒成分を組合せて試験を行い種々
研究を重ねた結果、ロジウムに助触媒としてマンガン、
ハーフニウム及びリチウムを組合せた触媒が酢酸を主成
分とする炭素数２の含酸素化合物に対して高い選択率を
示すことを見い出し本発明の方法を完成するに至つた。

一酸化炭素と水素とをロジウム触媒の存在下に反応させ
て、炭素数２の含酸素化合物を得る方法において、助触
媒としてマンガンとアルカリ金属を併用する方法（特開
昭５６−８３３３号、８３３４号）、ハーフニウムを添
加する方法（特開昭５５−５７５２７号）が知られてい
るが、いずれの方法も酢酸又は炭素数２の含酸素化合物
の活性及び選択率は充分満足できる結果ではない。しか
るに、本発明者らはロジウムに助触媒として、マンガン
、ハーフニウム及びリチウムを組合せた触媒においては
予期し得ない相乗効果が発現し、酢酸又は炭素数２の含
酸素化合物の選択率が大巾に向上することを見い出した
。

以上、本発明の方法について更に詳細に説明する。

本発明の触媒は前述の如くロジウムに助触媒として、マ
ンガン、ハーフニウム及びリチウムを組合せた触媒であ
るが、反応条件下に於ける動的な状態での真の触媒活性
種は必ずしも詳らかではないものの、その活性の中心と
なるものは本質的には互いに共存する金属種であり、従
つて、触媒自体の形態や触媒中の各成分の形は原則的に
は何ら制限はない。

ただ、実体的にはロジウム、ハーフニウムは金属又は低
原子価の塩てあり、また、リチウムは酸化物、無機酸塩
、錯塩等としてロジウム等と物理的に混合され或いは化
学的に結合される。また、担体なしでもよいが、通常は
上記触媒成分は担体に担持される。触媒調製上使用され
るロジウム化合物として゛は、例えば塩化ロジウム・臭
化ロジウム・沃化ロジウム、塩化ロジウム酸ナトリウム
・塩化ロジウム酸アンモニウム●硝酸ロジウム●硫酸ロ
ジウム等の無機酸塩、酸化物、酢酸ロジウム・ギ酸ロジ
ウム・蓚酸ロジウム等の有機酸塩或いはアンミン錯塩、
クラスター等が用いられるが特に制限はない。助触媒と
して使用されるマンガン、ハーフニウム、リチウムは、
ハロゲン酸塩・硫酸塩・硝酸塩・炭酸塩等の無機酸塩、
酸化物、水酸化物、酢酸塩、ギ酸塩、蓚酸塩等の有機酸
塩を問わす使用することができる。

しかし、これらの触媒成分の担体上への担持を容易なら
しめるため、水又は適当な溶媒に可溶性の化合物が好ま
しく用いられる。本発明に於いて用いられるロジウムに
マンガン、ハーフニウム、リチウムを組合せた触媒の調
製法としては、上記ロジウム、マンガン、ハーフニウム
及びリチウムを水又はｎ−ヘキサン、アルコール、アセ
トン等の有機溶媒に溶解し、この溶液に多孔質無機担体
物質を力ｉえ、含浸法・イオン交換法その他の常法によ
り担持させた後、還元又は熱処理することにより担持固
定された目的物を得ることがてきる。

担体上への触媒成分の担持はすべての触媒成分を同時に
行なつてもよいし、又、各成分ごとに逐次的に担体に担
持する方法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処
理等の処理を行いながら、逐次的、段階的に担持する方
法などの各手法を用いることができる。上述の手法によ
つて調製された触媒は通常還元処理を行うことによりロ
ジウムを実質的金属状態に活性化し、ついで反応に供せ
られる。還元処理を行うには水素ガス下又は水素及び一
酸化炭素の混合ガス下、場合によつては窒素、ヘリウム
、アルゴン等の不活性ガスで一部希釈された水素ガスま
たは上記混合ガス下で行うことができる。還元処理温度
としては１００〜６００゜Ｃ１好ましくは２５０〜５５
０℃の温度において行う。

この際、触媒の各成分の活性状態を最適な状態に保つ目
的で、低温より徐々に、あるいは段階的に昇温しながら
還元処理を行つてもよい。又、ロジウム化合物の還元は
メタノール、ヒドラジン、ホルマリン等の還元剤で処理
することによつて行なつてもよい。

各触媒成分の使用量については必ずしも厳密な制限はな
いが、担体の表面積（約１ｒｒ１１ｙ〜１０００ボ１ｑ
）を考慮して通常の条件下に於いては、担持触媒中のロ
ジウムの含有量としては０．０１〜１５重量％、好まし
くは０．１〜１唾量％、助触媒マンガン、ハーフニウム
及びリチウムとロジウムの比率（Ｍｎ／Ｒｈ．．Ｈｆ／
Ｒｈ．．Ｌｉ／Ｒｈ）はそれぞれ原子比で０．００１〜
１０好ましくは０．０１〜３、０．００１〜ｍ好ましく
は０．０１〜３、０．００１〜Ｗ好ましくは０．０１〜
５の範囲が用いられる。

本触媒に用いる担体としては、１〜１０００ｄＩｙの比
表面積をもつものか好ましく、シリカ、活性アルミナ、
酸化チタン、酸化トリウム、活性炭、ゼオライト等が用
いうるが特にシリカ系担体が好ましい。

これらの担体は粉末状、ペレット状等あらゆる形状のも
のについて適用可能である。反応は通常気相て行われ、
例えば、触媒を充填した固定床式反応器に一酸化炭素と
水素を含む原料ガスを導通させる。この場合、原料ガス
には酸化炭素と水素以外に、例えは、二酸化炭素、窒素
、アルゴン、ヘリウム、水蒸気、メタン等の他一の成分
を含んても良い。また、触媒反応器は固定床式に限らず
移動床式や流動床式等の形式であつても良い。また、場
合によつては触媒を適当な溶媒中に懸濁して原料ガスを
導通して反応させる液相反応でも実施することができる
。反応条件は広い範囲で変えることができるが、固定床
流通式反応装置に適用される反応条件を代表的な範囲と
して以下に示す。

一酸化炭素と水素のモル比：５０：１〜１：５、好まし
くは１０：１〜１：３、反応温度１５０〜４５０−゜Ｃ
１２００〜３５０℃、圧力１〜３００１ｔｍ１好ましく
は２０〜２００１１ｔｍ．．Ｓ■：１００〜１０３Ｈ−
１、好ましくは１０００〜１ＣＰＨ−１程度が適当であ
る。

以下、本発明について、実施例をもつて、更に詳細に説
明するが、これらの例は本発明についての理解を容易に
するため、あえて条件を統一して示すもので本発明はこ
れらの例によつて何ら制限されないことは勿論である。
触媒調製 実施例１ 塩化ロジウム（ＲｈＣｌ３・３１１２０）２．０４ｙ１
塩化マンガン（ＭｎＣｌ２・４Ｈ２０）０．５１ｙ１塩
化ハーフニウム（ＨｆＣｌ４）０．８２８ｇ、塩化リチ
ウム（ＬｉＣｌ）ノ０．２２０ダ加えた純水２３ｍ１に
溶解した水溶液中に７００℃１時間焼成処理したシリカ
ゲル（富士デヴイソン化学（株）＃５７）２０ｙを加え
、均一に含浸させた。

時々、攪拌しながら、室温下で１時間、８０℃で２０時
間乾燥した。この触媒を石英ガラス製還元反応−管に入
れ、水素１！５Ｎｅ１Ｈ流通下、４５０℃２時間水素還
元した。得られた触媒は第１表実施例１の組成をもつ。
実施例２ 塩化ロジウム（ＲｈＣｌ３・３Ｈ２０）２．０４ｙ１硝
酸マ″ンガン（Ｍｎ（ＮＯ３）２・６１（２０）０．７
４３ｙ１塩化ハーフニウム（ＨｆＣｌ４）０．８２８ｑ
１塩化リチウム（ＬｉＣｌ）０．２２０ｙ加えた純水２
３ｍ１に完全に溶解させてから、実施例１で用いたシリ
カゲル２０ｙに含浸させた。

これに実施例１と同様に乾燥及び還元処理を行ない、第
１表実施例２の触媒を得た。実施例３塩化ロジウム（Ｒ
ｈＣｌ３・３Ｈ２０）２．０４ｙ１塩化マンガン（Ｍｎ
Ｃｌ．・４Ｈ２０）０．５１ｙ１塩化ハーフニウム（Ｈ
ｆＣｌ４）０．８２８ｙ１酢酸リチウム（ＬｌＯＡｃ）
０．３４２ｙ加えた純水２３ｍ１に完全に溶解させてか
ら、実施例１で用いたシリカゲル２０ｙに含浸させた。

これに実施例１と同様に乾燥及び還元処理を行ない、第
１表実施例３の触媒を得た。実施例４ 塩化ロジウム（ＲｈＣｌ３・記，０）２．０４ｙ１酢酸
マンガン（Ｍｎ（０Ａｃ）２・２Ｈ２０）０．５４ｇ、
塩化ハーフニウム（ＨｆＣｌ４）０．３１１ｆ１酢酸リ
チウム〔ＬｌＣｌ）０．２２０ｙ加えた純水２３ｍ１に
完全に溶解させてから、実施例１で用いたシリカゲル２
０ｙに含浸させた。

これに実施例１と同様に乾燥及び還元処理を行ない、第
１表実施例４の触媒を得た。実施例５塩化ロジウム（Ｒ
ｈＣｌ３・３Ｈ２０）２．０４ｑ１塩化マンガン（Ｍｒ
ｌＣｌ２・４Ｈ２０）０．５１ｙ１塩化ハーフニウム（
ＨｆＣｌ，）０．３１１ｙ、臭化リチウム（ＬｌＢｒ・
Ｈ２Ｏ）０．５４３ダ加えた純水２３ｍ１に完全に溶解
させてから、実施例１で用いたシリカゲル２０ｙに含浸
させた。

これに実施例１と同様に乾燥及び還元処理を行ない、第
１表実施例５の触媒を得た。参考例１塩化ハーフニウム
を用いない他は実施例１と同様にして、第１表参考例１
の触媒を得た。

参考例２ 塩化リチウムを用いない他は実施例１と同様にして第１
表参考例２の触媒を得た。

参考例３ 塩化ロジウム（ＲｈＣｌ３・川２０）２．０４ｙ）塩化
ハＭ＊−フニウム（ＨｆＣｌ４）０．３１１ｇ、塩化リ
チウム（ＬｉＣｌ）０．０８３ダを加えた純水２３ｍ１
に完全に溶解させてから、実施例１で用いたシリカゲル
２０ダに含浸させた。

これに実施例１と同様に、乾燥及び還元処理を行ない、
第１表参考例３の触媒を得た。活性評価及び結果上記触
媒１０ｍ１をステンレススチール製Ｕ字型反応管に充填
し、原料ガス（ＣＯ／Ｈ。

＝９／１）を１００ＮＩＩＨの速度で送入し、反応圧力
１００ｋ９１ｃ１１Ｇ）反応速度３００’Ｃにおいて反
応を行なつた。加圧冷却一捕集した液体生成物及び反応
ガスをガスクロマトグラフ法により分析した結果を第１
表に示した。Ｃ２−Ｏ欄に示したものは酢酸、アセトア
ルデヒド、及びエタノ〜−ルへの選択率の合計値であＸ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ ロジウム触媒の存在下に一酸化炭素と水素を反応さ
   せて酢酸、アセトアルデヒドおよび（または）エタノー
   ルを製造する方法に於いて、助触媒としてマンガン、ハ
   ーフニウム及びリチウムを併用することを特徴とする方
   法。