JPS6049720B2 - Sus304ステンレス鋼のスケ−ル除去方法 - Google Patents
Sus304ステンレス鋼のスケ−ル除去方法Info
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- JPS6049720B2 JPS6049720B2 JP15350381A JP15350381A JPS6049720B2 JP S6049720 B2 JPS6049720 B2 JP S6049720B2 JP 15350381 A JP15350381 A JP 15350381A JP 15350381 A JP15350381 A JP 15350381A JP S6049720 B2 JPS6049720 B2 JP S6049720B2
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、SUS304ステンレス鋼(18Cr−8N
1ステンレス鋼)の焼鈍スケールを中性塩の電解液中に
おける電解作用により除去する方法に関するものである
。
1ステンレス鋼)の焼鈍スケールを中性塩の電解液中に
おける電解作用により除去する方法に関するものである
。
SUS304ステンレス鋼は、冷間圧延の際に生じたひ
すみ等を除去するために約880〜11000Cで焼鈍
され、その際に表面にスケールが生成する。
すみ等を除去するために約880〜11000Cで焼鈍
され、その際に表面にスケールが生成する。
このスケールは、そのままにしておくとその後の作業に
支障を生じるため、除去しなければならな、、現在、こ
の脱スケール法としては、主に、苛性ソーダの溶融塩中
で前処理した後、硫酸、硝酸、及び硝−弗酸混合液中で
の酸洗を行つている。
支障を生じるため、除去しなければならな、、現在、こ
の脱スケール法としては、主に、苛性ソーダの溶融塩中
で前処理した後、硫酸、硝酸、及び硝−弗酸混合液中で
の酸洗を行つている。
また、中性塩の電解液中における電解説スケール法とし
て、硫酸ナトリウム水溶液中での電解説スケール後に、
硝−弗酸混合水溶液中で処理する脱スケール法もある。
しかるに、いずれの方法も酸を使用するため、酸洗廃液
及び水洗廃液の完全な処理が必要となる。
て、硫酸ナトリウム水溶液中での電解説スケール後に、
硝−弗酸混合水溶液中で処理する脱スケール法もある。
しかるに、いずれの方法も酸を使用するため、酸洗廃液
及び水洗廃液の完全な処理が必要となる。
また、Cr6*が溶出するため、その処理も重要な問題
である。一方、本発明者らの研究によれば、SUS30
4ステンレス鋼の焼鈍スケールは、焼鈍温度、焼鈍雰ヨ
囲気、焼鈍時間等の焼鈍条件によつてそのスケールの組
成が異り、スケールの種類によつては、通常の酸洗では
脱スケール時間が増大し、脱スケール損失が大きくなる
。
である。一方、本発明者らの研究によれば、SUS30
4ステンレス鋼の焼鈍スケールは、焼鈍温度、焼鈍雰ヨ
囲気、焼鈍時間等の焼鈍条件によつてそのスケールの組
成が異り、スケールの種類によつては、通常の酸洗では
脱スケール時間が増大し、脱スケール損失が大きくなる
。
さらに具体的に説明すると、SUS304ステンレ・ス
鋼を約880〜1100’Cで焼鈍したとき、焼鈍条件
に応じてその表面には少なくとも2種類のスケールが生
成される。
鋼を約880〜1100’Cで焼鈍したとき、焼鈍条件
に応じてその表面には少なくとも2種類のスケールが生
成される。
その一つ(スケールA)は、灰色がかつた黒味を帯び、
第1図イ,口に示すように、比較的大きな結晶粒がみら
れ、結晶粒界も明らかで、比較的厚いスケール層が生成
されているものと考えられる。
第1図イ,口に示すように、比較的大きな結晶粒がみら
れ、結晶粒界も明らかで、比較的厚いスケール層が生成
されているものと考えられる。
また、他方(スケールB)は茶色を帯び、第2図イ,口
に示すように、素地金属の圧延疵がみられるほど薄いス
ケール層をもち、その表面には欠陥も少なく、非常に小
さな結晶で緻密に構成されている。さらに、スケールA
の方がスケールBよりも表面にミクロな凹凸があり、結
晶粒界近傍に欠陥が存在しているように見受けられる。
これらのスケール層は、それをX線回折(CLlKal
4OkVllOOrTlAlモノクロメータ使用)及び
電子線回折(反射法)で固定した結果、スケールAはコ
ランダム型(Me2O3)及びスピネル型(Me3O4
)の酸化物で構成され、内層にコランダム型酸化物、外
層にスピネル型酸化物のある二層構造をなし、これらの
酸化物はCr2O3、(Cr・Fe)203,Fe30
4,NiCr204,NiFe204と考えられる。
に示すように、素地金属の圧延疵がみられるほど薄いス
ケール層をもち、その表面には欠陥も少なく、非常に小
さな結晶で緻密に構成されている。さらに、スケールA
の方がスケールBよりも表面にミクロな凹凸があり、結
晶粒界近傍に欠陥が存在しているように見受けられる。
これらのスケール層は、それをX線回折(CLlKal
4OkVllOOrTlAlモノクロメータ使用)及び
電子線回折(反射法)で固定した結果、スケールAはコ
ランダム型(Me2O3)及びスピネル型(Me3O4
)の酸化物で構成され、内層にコランダム型酸化物、外
層にスピネル型酸化物のある二層構造をなし、これらの
酸化物はCr2O3、(Cr・Fe)203,Fe30
4,NiCr204,NiFe204と考えられる。
一方、スケールBは大部分がスピネル型酸化物(Me3
O4)で、その酸化物の大部分はNlFe2O4及びN
iCr2O4で構成されていると考えられる。
O4)で、その酸化物の大部分はNlFe2O4及びN
iCr2O4で構成されていると考えられる。
このようなSUS3O4ステンレス鋼の脱スケールにつ
いては、各種焼鈍条件に伴つて発生するスケールに応じ
て適切な脱スケール法を適用することが必要である。ま
た、その脱スケールに際しては酸を一切使用せず、Cr
6+の溶出をできるだけ抑.制すると共に、スケール層
のみの溶解による脱スケール損失を少なくすることも必
要である。本発明は、このような必要性に鑑み、SUS
3O4ステンレス鋼の焼鈍により生成される上記スケー
ルAを除去するのに有効な方法を提供しようとす!るも
のであり、また特に廃液の処理が容易で、スケール層の
みの溶解により脱スケール損失も少ないスケール除去方
法を提供しようとするものである。即ち、本発明のスケ
ール除去方法は、SUS3O4・ステンレス鋼における
スケールであつて、内層にコランダム型酸化物、外層に
スピネル型酸化物のある二層構造のスケールを除去する
にあたり、塩化ナトリウムまたは塩化カリウム水溶液か
らなる電解液中で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に
電極を陰極として表面にビットの生成がみられない程度
の低電流密度て電解説スケールを行い、次いで硝酸ナト
リウム水溶液を電解液として同様の電解説スケールを行
うことを特徴とし、または上記スケールを除去するにあ
たり、沃化ナトリウムまたは沃化カリウム水溶液からな
る電解液中で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に電極
を陰極として電解説スケールを行い、次いで硫酸ナトリ
ウノム水溶液を電解液として同様の電解説スケールを行
うことを特徴とするものである。
いては、各種焼鈍条件に伴つて発生するスケールに応じ
て適切な脱スケール法を適用することが必要である。ま
た、その脱スケールに際しては酸を一切使用せず、Cr
6+の溶出をできるだけ抑.制すると共に、スケール層
のみの溶解による脱スケール損失を少なくすることも必
要である。本発明は、このような必要性に鑑み、SUS
3O4ステンレス鋼の焼鈍により生成される上記スケー
ルAを除去するのに有効な方法を提供しようとす!るも
のであり、また特に廃液の処理が容易で、スケール層の
みの溶解により脱スケール損失も少ないスケール除去方
法を提供しようとするものである。即ち、本発明のスケ
ール除去方法は、SUS3O4・ステンレス鋼における
スケールであつて、内層にコランダム型酸化物、外層に
スピネル型酸化物のある二層構造のスケールを除去する
にあたり、塩化ナトリウムまたは塩化カリウム水溶液か
らなる電解液中で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に
電極を陰極として表面にビットの生成がみられない程度
の低電流密度て電解説スケールを行い、次いで硝酸ナト
リウム水溶液を電解液として同様の電解説スケールを行
うことを特徴とし、または上記スケールを除去するにあ
たり、沃化ナトリウムまたは沃化カリウム水溶液からな
る電解液中で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に電極
を陰極として電解説スケールを行い、次いで硫酸ナトリ
ウノム水溶液を電解液として同様の電解説スケールを行
うことを特徴とするものである。
さらに具体的に説明すると、本発明によるSUS3O4
ステンレス鋼の脱スケールにおいては、上述したように
、内層にコランダム型酸化物、外・層にスピネル型酸化
物のある二層構造のスケールを対象とする。
ステンレス鋼の脱スケールにおいては、上述したように
、内層にコランダム型酸化物、外・層にスピネル型酸化
物のある二層構造のスケールを対象とする。
このスケールを除去する第1の方法では、まず、塩化ナ
トリウムまたは塩化カリウムの水溶液からなる電解液中
において、脱スケール処理すべ゛きSUS3O4ステン
レス鋼を陽極にすると共に電極を陰極として直流電流を
流し、電解作用によつて上記スケールがほとんどなくな
るまで脱スケールを行う。
トリウムまたは塩化カリウムの水溶液からなる電解液中
において、脱スケール処理すべ゛きSUS3O4ステン
レス鋼を陽極にすると共に電極を陰極として直流電流を
流し、電解作用によつて上記スケールがほとんどなくな
るまで脱スケールを行う。
この場合の電流密度は一部分にスケールが残つていても
ビットの生成がほとんどみられない程度の脱スケールが
可能な低電流密度であることが必要であり、従つて0.
05A/d程度が最も望ましく、0.025A/dより
も小さい電流密度ではその後の処理による脱スケールが
困難になる。また、0.1A/Clt以上ではビットの
生成が増大し、その傾向は温度が高くなるほど著しい。
ごく一部に残つたスケールは、硝酸ナトリウム水溶液を
電解液として上記と同様の電解によつて除去するが、こ
の場合、高温液中では脱スケールに寄与する電流が小さ
くなるため、液温度が80℃よりも50℃以下の場合に
低電流密度で脱スケールを行うことができる。前述した
スケールAは、表面のスケール層の粒界近傍に欠陥が多
いため、NaCl水溶液はビットが発生しない電流密度
でスケール層の欠陥を通して素地金属の一部を溶解し、
その後のNaNO3水溶液Kでのスケール層の除去を容
易にするが、上述したように、NaCl水溶液中での電
解でスケール層をかなり除去しておかないと、その後の
NacO3水溶液中での完全な脱スケールが困難になる
。
ビットの生成がほとんどみられない程度の脱スケールが
可能な低電流密度であることが必要であり、従つて0.
05A/d程度が最も望ましく、0.025A/dより
も小さい電流密度ではその後の処理による脱スケールが
困難になる。また、0.1A/Clt以上ではビットの
生成が増大し、その傾向は温度が高くなるほど著しい。
ごく一部に残つたスケールは、硝酸ナトリウム水溶液を
電解液として上記と同様の電解によつて除去するが、こ
の場合、高温液中では脱スケールに寄与する電流が小さ
くなるため、液温度が80℃よりも50℃以下の場合に
低電流密度で脱スケールを行うことができる。前述した
スケールAは、表面のスケール層の粒界近傍に欠陥が多
いため、NaCl水溶液はビットが発生しない電流密度
でスケール層の欠陥を通して素地金属の一部を溶解し、
その後のNaNO3水溶液Kでのスケール層の除去を容
易にするが、上述したように、NaCl水溶液中での電
解でスケール層をかなり除去しておかないと、その後の
NacO3水溶液中での完全な脱スケールが困難になる
。
また、SUS3O4ステンレス鋼は、NaNO3水溶液
中で不働態化し、特に高温液中において脱スケールに寄
与する電流が小さくなるため、低温度領域で良好な脱ス
ケール結果が得られることになる。
中で不働態化し、特に高温液中において脱スケールに寄
与する電流が小さくなるため、低温度領域で良好な脱ス
ケール結果が得られることになる。
上記スケールを除去する第2の方法では、上記第1の方
法と同様に2段階の電解スケール除去を行うが、最初の
電解には沃化ナトリウムまたは沃化カリウムを電解液と
して使用し、第2の段階では硫酸ナトリウム水溶液を電
解液として使用する。第1の方法において用いたCトイ
オンは、金属酸化物の破壊作用が著しく大きいため、脱
スケール条件によつては電解説スケール中に表面にビッ
トが生成することが多く、最適な脱スケール範囲が狭い
。
法と同様に2段階の電解スケール除去を行うが、最初の
電解には沃化ナトリウムまたは沃化カリウムを電解液と
して使用し、第2の段階では硫酸ナトリウム水溶液を電
解液として使用する。第1の方法において用いたCトイ
オンは、金属酸化物の破壊作用が著しく大きいため、脱
スケール条件によつては電解説スケール中に表面にビッ
トが生成することが多く、最適な脱スケール範囲が狭い
。
従つて、同じハロゲンイオンで表面酸化物皮膜の破壊作
用がCl−イオンよりも小さいトイオンを脱スケール電
解液に用いることにより、脱スケール条件を緩和するこ
とができる。沃化ナトリウム水溶液の濃度は50ダ/D
d以上、液温度は常温ないし60′Cが適し、その電解
液中における電解の電流密度は、0.2A/c!l以上
が適当で、NaCl水溶液の場合よりも酸化皮膜に対す
る破壊作用が小さいため、第2段階て用いる電解液はN
aNO3水溶液よりもSUS3O4ステンレス鋼に対し
て活性溶解するNa2sO4水溶液が適している。
用がCl−イオンよりも小さいトイオンを脱スケール電
解液に用いることにより、脱スケール条件を緩和するこ
とができる。沃化ナトリウム水溶液の濃度は50ダ/D
d以上、液温度は常温ないし60′Cが適し、その電解
液中における電解の電流密度は、0.2A/c!l以上
が適当で、NaCl水溶液の場合よりも酸化皮膜に対す
る破壊作用が小さいため、第2段階て用いる電解液はN
aNO3水溶液よりもSUS3O4ステンレス鋼に対し
て活性溶解するNa2sO4水溶液が適している。
この場合の電流密度も0.2A/d以上が適当である。
次に、本発明に関連する実験結果について説明する。
次に、本発明に関連する実験結果について説明する。
第3図は実験に用いた装置の概要を示し、1は電解液3
を所定の温度に保つための恒温槽、2は上記電解液3を
満したビーカ、4はスケールを有するSUS3O4ステ
ンレス鋼試験片、6は電極で、上記試験片4が+、電極
6が一となるように電源7に接続し、この間に直流電流
を流すことによつて試験片4の表面スケール除去を行つ
た。
を所定の温度に保つための恒温槽、2は上記電解液3を
満したビーカ、4はスケールを有するSUS3O4ステ
ンレス鋼試験片、6は電極で、上記試験片4が+、電極
6が一となるように電源7に接続し、この間に直流電流
を流すことによつて試験片4の表面スケール除去を行つ
た。
試験片4は、その大きさが2×2cm1厚さが1瓢のも
ので、電極6には2×2CTf1(7)SUS3O4ス
テンレス鋼板を用いた。
ので、電極6には2×2CTf1(7)SUS3O4ス
テンレス鋼板を用いた。
第4図は、200y/DdNaCl水溶液中での電解説
スケール結果を示す。
スケール結果を示す。
脱スケール面は、400倍の金属顕微鏡で観察してスケ
ールの有無を調べ、次のように区分してプロットした。
0:完全に脱スケール ×:ー部分脱スケール A:半分程度脱スケール ロニ大部分脱スケール 同図によれば、高電流密度及び高い液温度で完全に脱ス
ケールされているが、脱スケール面にはCトイオンによ
るビットの生成がみられる。
ールの有無を調べ、次のように区分してプロットした。
0:完全に脱スケール ×:ー部分脱スケール A:半分程度脱スケール ロニ大部分脱スケール 同図によれば、高電流密度及び高い液温度で完全に脱ス
ケールされているが、脱スケール面にはCトイオンによ
るビットの生成がみられる。
そこで、NaCl水溶液中では、完全に脱スケールされ
ないがビットの発生もほとんど見られない低電流密度で
電解を行う必要がある。残つたスケールは硝酸ナトリウ
ム水溶液中で電解説スケールするが、その結果を第5図
に示す。
ないがビットの発生もほとんど見られない低電流密度で
電解を行う必要がある。残つたスケールは硝酸ナトリウ
ム水溶液中で電解説スケールするが、その結果を第5図
に示す。
同図は、200y/DrrlNaCI水溶液中において
電流密度0.05A/C7lfで60秒間電解後、20
0y/D77fNaNO3水溶液中で0.025〜0.
8A/Cflで60秒間電解説スケールを行つた結果を
示している。なお、図中9は完全な脱スケール面に明ら
かなビットの生成が認められた場合を示す。第5図から
明らかなように、NaCl水溶液中のみの電解の場合に
比べて脱スケール範囲は広くなる。
電流密度0.05A/C7lfで60秒間電解後、20
0y/D77fNaNO3水溶液中で0.025〜0.
8A/Cflで60秒間電解説スケールを行つた結果を
示している。なお、図中9は完全な脱スケール面に明ら
かなビットの生成が認められた場合を示す。第5図から
明らかなように、NaCl水溶液中のみの電解の場合に
比べて脱スケール範囲は広くなる。
しかしNaCl水溶液ては脱スケールされなかつた低電
流密度、低温電解液領域において、完全に脱スケールさ
れる。高温液中では、脱スケールに寄与する電流が小さ
くなるため、液温度が80℃よりも50℃の場合に、0
.02A/CTlという小さい電流密度で脱スケールが
行われる。一方、表面酸化物皮膜の破壊作用がCl−イ
オンよりも小さいI−イオンを脱スケール電解液として
用いた場合も第6図に示す。
流密度、低温電解液領域において、完全に脱スケールさ
れる。高温液中では、脱スケールに寄与する電流が小さ
くなるため、液温度が80℃よりも50℃の場合に、0
.02A/CTlという小さい電流密度で脱スケールが
行われる。一方、表面酸化物皮膜の破壊作用がCl−イ
オンよりも小さいI−イオンを脱スケール電解液として
用いた場合も第6図に示す。
同図は、100q/DdNaI水溶液中において電流密
度0.25A/dで6中間電解を行つた後、200y/
DdNa2SO4の水溶液中において電流密度0.25
A/dで10〜6囲2間電解した場合の結果を示してい
る。
度0.25A/dで6中間電解を行つた後、200y/
DdNa2SO4の水溶液中において電流密度0.25
A/dで10〜6囲2間電解した場合の結果を示してい
る。
Nae溶液の濃度については、5〜100y/D7Tl
について検討したが、50y/DTrl以上の濃度で好
ましい結果が得られた。
について検討したが、50y/DTrl以上の濃度で好
ましい結果が得られた。
NaCl水溶液に比べて酸化被膜の破壊作用が小さいた
め、ビットの発生がいずれの液温度の場合においても抑
制できるが、ノその後に用いるNa2sO4水溶液によ
つて液温度80゜C16叩2以上になるビットが発生し
た。これらの結果から、液温度20〜50゜C1脱スケ
ール時間は200Cの場合に30〜6@、50CCの場
合に30〜4叩′が最適な脱スケール条件である。なお
、上記実験例は、静止電解液中での実験結果であり、そ
のため液を流動させることにより試料表面から発生する
ガス及び電解生成物をすばやく除去すれば、さらに低電
流密度領域及び短時間で脱スケールできることが期待さ
れる。
め、ビットの発生がいずれの液温度の場合においても抑
制できるが、ノその後に用いるNa2sO4水溶液によ
つて液温度80゜C16叩2以上になるビットが発生し
た。これらの結果から、液温度20〜50゜C1脱スケ
ール時間は200Cの場合に30〜6@、50CCの場
合に30〜4叩′が最適な脱スケール条件である。なお
、上記実験例は、静止電解液中での実験結果であり、そ
のため液を流動させることにより試料表面から発生する
ガス及び電解生成物をすばやく除去すれば、さらに低電
流密度領域及び短時間で脱スケールできることが期待さ
れる。
第1図イ,口及び第2図イ,C]!まSUS3O4ステ
ンレス鋼における異なる組成のスチールを示す図面代用
顕微鏡写真、第3図は電解説スケールの実験に供した装
置の構成図、第4図ないし第6図は実験の結果を示すグ
ラフである。
ンレス鋼における異なる組成のスチールを示す図面代用
顕微鏡写真、第3図は電解説スケールの実験に供した装
置の構成図、第4図ないし第6図は実験の結果を示すグ
ラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 SUS304ステンレス鋼におけるスケールであつ
て、内層にコランダム型酸化物、外層にスピネル型酸化
物のある二層構造のスケールを除去するにあたり、塩化
ナトリウムまたは塩化カリウム水溶液からなる電解液中
で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に電極を陰極とし
て表面にピットの生成がみられない程度の低電流密度で
電解脱スケールを行い、次いで硝酸ナトリウム水溶液を
電解液として同様の電解脱スケールを行うことを特徴と
するSUS304ステンレス鋼のスケール除去方法。 2 SUS304ステンレス鋼におけるスケールであつ
て、内層にコランダム型酸化物、外層にスピネル型酸化
物のある二層構造のスケールを除去するにあたり、沃化
ナトリウムまたは沃化カリウム水溶液からなる電解液中
で上記ステンレス鋼を陽極にすると共に電極を陰極とし
て電解脱スケールを行い、次いで硫酸ナトリウム水溶液
を電解液として同様の電解脱スケールを行うことを特徴
とするSUS304ステンレス鋼のスケール除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15350381A JPS6049720B2 (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | Sus304ステンレス鋼のスケ−ル除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15350381A JPS6049720B2 (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | Sus304ステンレス鋼のスケ−ル除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855597A JPS5855597A (ja) | 1983-04-01 |
| JPS6049720B2 true JPS6049720B2 (ja) | 1985-11-05 |
Family
ID=15563975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15350381A Expired JPS6049720B2 (ja) | 1981-09-28 | 1981-09-28 | Sus304ステンレス鋼のスケ−ル除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6049720B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1265263B1 (it) * | 1993-12-09 | 1996-10-31 | Dario Felisari | Procedimento di lavaggio e condizionamento superficiale ottenuto attraverso un processo di iper-anodizzazione di leghe ossidabili |
-
1981
- 1981-09-28 JP JP15350381A patent/JPS6049720B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5855597A (ja) | 1983-04-01 |
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