JPS6183693A - セラミツクス用メタライズ粉体の製造方法 - Google Patents

セラミツクス用メタライズ粉体の製造方法

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JPS6183693A
JPS6183693A JP20109584A JP20109584A JPS6183693A JP S6183693 A JPS6183693 A JP S6183693A JP 20109584 A JP20109584 A JP 20109584A JP 20109584 A JP20109584 A JP 20109584A JP S6183693 A JPS6183693 A JP S6183693A
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JP
Japan
Prior art keywords
powder
parts
weight
solvent
ceramics
Prior art date
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Pending
Application number
JP20109584A
Other languages
English (en)
Inventor
堀部 芳幸
宮 好宏
上山 守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6183693A publication Critical patent/JPS6183693A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は緻密でセラミックスとの接着強度が高く、かつ
表面平滑な金属化層を提供するセラミックス用メタライ
ズ粉体の製造方法に関する。
半導体集積回路用基板、電子回路用基板等に用いられる
セラミック基板の表面に微細な配線を形成又は各種部品
をとりつけるためには、セラミックスとの接着強度が高
く、緻密で表面平滑な金属化層が必要である。
(従来技術とその問題点) このような金属化層の形成法としては、従来からMO+
 Mo −FJH金属化法、W金属化法、Ag。
Pd 、 Au  等の貴金属粉末とガラス粉とを混合
した厚膜ペーストを用いる厚膜法などがある。これらの
方法では、 Mo 、 W 、 Ag 、 P d 、
 Au等の金属粉末にMn、ガラス粉等の無機結合剤粉
末、有機結合剤及び溶剤を添加し、らいかい機や三本ロ
ールミルでペースト化して用いるのが一般的である。
しかしペースト化は高粘度の条件下で行なわれるため、
凝集した粉末を十分に一次粒子化することが困難であり
、また、金属粉末と硬さや比重9粒径の異なる無機結合
剤粉末との均一な混合分散も得難い。このような混合分
散の不十分なペーストを用いて金属化層を形成した場合
、緻密で表面平滑な金属化層が得られず、また接着強度
も低く。
ばらつきも大きくなるという欠点があった。
(発明の目的) 本発明の目的は上記した従来技術の欠点を解消し1金属
粉末及び無機結合剤粉末を有機結合剤溶液中で単一粒子
にまで十分に解粒し、これらの粉末を均一分散させたセ
ラミックス用メタライズ粉体の製造方法を提供するもの
である。
(発明の構成) 本発明は、金属粉末、無機結合剤粉末、有機結合剤及び
溶剤を混合するセラミックス用メタライズ粉体の製造方
法に1、金属粉木無機結合剤粉末、有機結合剤及び溶剤
を混合した混合物の粘度が、金属粉末及び無機結合剤粉
末の解粒を妨げない程度以下で、かつ解粒した粒子が直
接接触するのを妨げる量の有機結合剤を添加、混合して
金属粉末及び無機結合剤粉末が単一粒子になるまで解粒
し、その後溶剤を除去して金属粉末及び無機結合剤粉末
の表面を有機結合剤で被覆するセラミックス用メタライ
ズ粉体の製造方法に関する。
本発明に1、金属粉末とし7ては+ Mo、 W等の高
融点金属粉、 Ag 、 Pd 、 Au等の貴金属粉
Cu、 Ni等の卑金属粉などが用いられ特に制限はな
いが、Mo、W等の比較的硬く延性の小さい高融点金属
粉を用いるのが好ましい。また無機結合剤粉末としては
、 Mn粉末、アルミナ、シリカ、マグネシア、カルシ
ア等の酸化物やこれら酸化物の一種又は二種以上からな
るガラス粉末、はう硅酸系。
亜鉛−鉛系ガラスであっても良く特に制限はなく。
用いる金属粉の種類及び金属化層全形成するセラミック
スの種類に応じて選定すれば良い。
本発明において有機結合剤としては、エチルセルロース
、ニトロセルロース、アクリル樹ML ”チラール樹脂
等が用いられ、さらに必要に応じてフタル酸エステル、
トリエチレングリコール等の可塑剤を加えても良い。溶
剤としては酢酸エチル。
酢酸ブチル、トリクロールエチレン、トルエン。
キシレン、メチルエチルケトン、エタノール、メタノー
ル等の一種又は二種以上の混合溶剤が用いられる。
金属粉末、無機結合剤粉末、有機結合剤及び溶剤を混合
した混合物の粘度は、最大20P(ボイズ)であること
が好ましく、IP〜5Pの範囲であればさらに好ましい
。また有機結合剤の添加量は、金属粉末100重量部に
対し0.5〜6重量部でちることが好ましく、1.0〜
4.0重量部であればさら0・ζ好ましい。
(実施例) 以下実施例により本発明を説明する。
実施例1 金属粉末として平均粒径0,63μInのMo粉末10
0重量部に対し、無機結合剤粉末として平均粒径1.5
μmのMn粉末1.0重量部及びアルミナ。
シリカ、マグネンア、カルンアから成るガラス粉末3.
0重量部、有機結合剤として、エチルセルロース2重量
部及びニトロ七ルロース2重量部、溶剤として酢酸エチ
ルとトルエンの1:1の混合溶剤を200重址片部量し
、これらtボールミルにて200時間混して金属粉末及
び無(幾結合剤粉末を単一粒子にまで十分解粒し、均一
:・τ分散した粘度が2,5Pのスラリーを得t0次て
前記スラリーをらいかい機で、加熱混合しながら乾燥し
、溶剤を除去してセラミック用メタライズ粉体を得た。
△ 次に上記で得たセラミック用メタライズ粉体△ 108重量部に対し、溶剤としてテルピネオールf 4
 0重量部添加し,らいかい機にて2時間混合後,三本
ロールミルにてペースト化した。得られたペーストをS
iC基板(日立製作新製,商品名SC−101)上にス
クリーン印刷し,ついで弱還元雰囲気中で1300℃で
焼成し, SiC基板上に金属化層を形成した。得られ
た金属化層の表面粗さは3.0μmRzで, 8iC基
板との接着強度は4、 0 kg f /nIDT2以
上であった。
これに対し比較例として前記実施例1で使用したMo粉
末100重量部すて対して,前記実施例1で使用したM
n粉末及びガラス粉末をそれぞれ1重量部,3重量部,
有機結合剤としてエチルセルロース2重量部及びニトロ
セルロース2重η・部,溶剤としてテルピネオール40
重量部を秤部し,こねらをらいかい機で5時間混合した
だけで金属粉末及び無機結合剤粉末を単一粒子に渣で解
粒しない状態で三本ロールミルにてペースト化した。得
られたペーストを用い前記実施例1と同様の工程を経て
SiC基板(日立製作新製、商品名5C−101>上に
金属化層を形成した。得られた金属化層の表面粗さは6
μmRzと粗<、SiC基板との接着強度はZOkgf
/−と前記実施例1に比べ低く、ばらつきも大きいもの
であった。
実施例2 金属粉末として平均粒径1.2重m(DW粉末100重
量部に対し、無機結合剤粉末として実施例1で使用した
ガラス粉末1.0重量部、有機結合剤としてエチルセル
ロース13i量部及びニトロセルロース1重量部、溶剤
として酢酸エチルとトルエンのを 1:1の混合溶剤150X量部秤量し、これらを△ 実施例1と同様の方法で混合、解粒し、均一に分散した
粘度が4.0 Pのスラリーを得た。次に前記スラリー
を実施例1と同様の方法で乾燥しセラミ入 ツタ用メタライズ粉体を得た。
八 及 さらに上記で得たセラミック用メメライズ粉体△ 102重量部に対し、溶剤としてテルピネオール3si
n部添加し実施例1と同様の方法でペースト化した。
一方、アルミナ96:を置部、焼結助剤としてマグネシ
ア粉末1.5重量部、シリカ2,5重*を部、有機結合
剤としてブチラール樹脂6型址部、可塑剤としてブチル
ベンジルフタレート3重量部及び溶剤としてエタノール
とトリクロルエチレ:、’とo共沸混合物40重量部を
加え、ボールミルにて24時間混合を行なった後、テー
プキャスティング法により、セラミックグリーンシート
を得た。
得られたセラミックグリーンシート上に上記で得たペー
ストを印刷し1弱還元雰囲気中で1,540℃で焼成し
、アルミナセラミックス上に金属化層を形成した。得ら
れた金属化層の表面粗さは′2.5μmHzで、アルミ
ナセラミックスとの接着強度は7、0 kg f /m
m”以上であった。
これに対し比較例として前記実施例2で使用したW粉末
100重量部に対して、実施例1で使用したガラス粉末
1型督部、有機結合剤としてエチルセルロース1重量部
、ニトロセルロース11部及び溶剤としてテルピネオー
ル351且部を秤量し、これらをらいかい機で5時間混
合しただけで金属粉末及び無機結合剤粉末を単一粒子に
まで解粒しない状態で三本ロールにてペースト化した。
得られたペーストを前記実施例2と同様の工程を経てア
ルミナセラミックス上に金属化層を形成した。得られた
金属化層の表面粗さは7μmRzと粗く、アルミナセラ
ミックスとの接着強度も2.5に9f/m[lI2と低
く、ばらつきも大きいものであった。
なお本発明の実施例ではボールミルにて混合したものに
ついて説明したが、らいかい機その他の混合法等によっ
ても同様の効果が得られる。
(発明の効果) 本発明は金属粉末、無機結合剤粉末、有機結合剤及び溶
剤を混合した混合物の粘度が、金属粉末及び無機結合剤
粉末の解粒を妨げない程度以下で。
かつ解粒した粒子が直接接触するのを妨げる址の有機結
合剤を添加、混合して金属粉末及び無機結合剤粉末が単
一粒子になるまで解粒し、その後溶剤を除去して、金属
粉末及び無機結合剤粉末の表面を有機結合剤で被覆する
ので、緻密でセラミックスとの接着強度が高く、かつ表
面平滑な金属化層を提供するセラミックス用メタライズ
粉体を製造することができる。
工9可j4> 代理人 弁理士 若 林 邦 彦s、−X−j9・・]
・−1;号1゛

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、金属粉末、無機結合剤粉末、有機結合剤及び溶剤を
    混合するセラミックス用メタライズ粉体の製造方法にお
    いて、金属粉末、無機結合剤粉末、有機結合剤及び溶剤
    を混合した混合物の粘度が、金属粉末及び無機結合剤粉
    末の解粒を妨げない程度以下で、かつ解粒した粒子が直
    接接触するのを妨げる量の有機結合剤を添加、混合して
    金属粉末及び無機結合剤粉末が単一粒子になるまで解粒
    し、その後溶剤を除去して、金属粉末及び無機結合剤粉
    末の表面を有機結合剤で被覆することを特徴とするセラ
    ミックス用メタライズ粉体の製造方法。
JP20109584A 1984-09-26 1984-09-26 セラミツクス用メタライズ粉体の製造方法 Pending JPS6183693A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63206377A (ja) * 1987-02-19 1988-08-25 株式会社東芝 窒化アルミニウム焼結体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63206377A (ja) * 1987-02-19 1988-08-25 株式会社東芝 窒化アルミニウム焼結体の製造方法

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