JPS6055621A - 電子ビ−ムの露光装置 - Google Patents
電子ビ−ムの露光装置Info
- Publication number
- JPS6055621A JPS6055621A JP58163133A JP16313383A JPS6055621A JP S6055621 A JPS6055621 A JP S6055621A JP 58163133 A JP58163133 A JP 58163133A JP 16313383 A JP16313383 A JP 16313383A JP S6055621 A JPS6055621 A JP S6055621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- samples
- turn table
- drawn
- electron beam
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、電子ビーム露光装置に係シ、特に、回転移動
及び直線移動を可能ならしめる試料移動台を備えた電子
ビーム露光装置に関する。
及び直線移動を可能ならしめる試料移動台を備えた電子
ビーム露光装置に関する。
近時、ＩＣ−ＬＳＩ・超ＬＳＩ素子製作の担い手として
電子ビーム露光装置が脚光を浴びている。
電子ビーム露光装置が脚光を浴びている。
該装置の一例として、試料台を（ｘ、ｙ）直交座標にて
移動し、該試料台上のウェハ等の試料表面に電子ビーム
を偏向制御して素子パターンを描画する手段が主となっ
ている。
移動し、該試料台上のウェハ等の試料表面に電子ビーム
を偏向制御して素子パターンを描画する手段が主となっ
ている。
しかるに、該手段では試料台の（ｘ、ｙ）面内での断続
反転、ステップ移動が必要であり、かつ該試料台の位置
制御の為に、レーザ測長針等の光学部品を台上に載置す
る必要性から、数十枚の被描画試料の同時ローディング
は不可能であった。
反転、ステップ移動が必要であり、かつ該試料台の位置
制御の為に、レーザ測長針等の光学部品を台上に載置す
る必要性から、数十枚の被描画試料の同時ローディング
は不可能であった。
この為、従来の電子ビーム露光装置においては、数十枚
／時の高スループツト化の達成を望め得なかった。
／時の高スループツト化の達成を望め得なかった。
本発明の目的は、高スループツト化を図ることのできる
電子ビーム露光装置を提供することにある。
電子ビーム露光装置を提供することにある。
本発明は、試料台の断続反転、ステップ移動をなくすた
め、回転移動を主とするターンテーブル型の試料台とし
、かつ電子ビームによる描画制御体系を（Ｘ、Ｙ）直交
座標系から（’＋ θ）極座標系とすることによって該
ターンテーブル上に円周状に配列載置された多数枚試別
を同時に描画することによって数十枚／時の高スループ
ツト化を図ろうというものである。
め、回転移動を主とするターンテーブル型の試料台とし
、かつ電子ビームによる描画制御体系を（Ｘ、Ｙ）直交
座標系から（’＋ θ）極座標系とすることによって該
ターンテーブル上に円周状に配列載置された多数枚試別
を同時に描画することによって数十枚／時の高スループ
ツト化を図ろうというものである。
以下、本発明の実力１１例についてＩ９明する。
第１図には、本発明の一実施例が示されている。
図において、１はターンテーブル、２は試料、３はター
ンテーブル１０回転中心、４は電子線、５．６は電子レ
ンズ、７はブランキング板、８は偏向コイル、９は偏向
板、１０はブランキング電源、１１は偏向電源である。
ンテーブル１０回転中心、４は電子線、５．６は電子レ
ンズ、７はブランキング板、８は偏向コイル、９は偏向
板、１０はブランキング電源、１１は偏向電源である。
いま、電子レンズ５，６によって絞られた電子線４は、
偏向電源１１と偏向コイル８、偏向板９とによって描画
試料２１をスキャンすると同時に、ブランキング電源１
０からの信号によってブランキング板７の動作によって
、電子線４のＯＮ。
偏向電源１１と偏向コイル８、偏向板９とによって描画
試料２１をスキャンすると同時に、ブランキング電源１
０からの信号によってブランキング板７の動作によって
、電子線４のＯＮ。
ＯＦ’Ｆが行なわれる。この時、回転中心３をもつター
ンテーブル（試料台）１はＲ方向へ回転すると共に、Ｘ
方向への左右動を行なう。その結果、ターンテーブル１
上の円周にセットされた多数枚の試料２は、電子線４の
偏向スキャン、ターンテーブル１の回転Ｒ１左右Ｉｇｌ
］Ｘとの組合せによって、連続的に全面描画が完了する
ものである。すなわち、第２図に示す如くターンテーブ
ル１の１回転によって静電偏向幅（９の静電偏向板によ
る）１４だけ描画され、さらに該１回転中にターンテー
ブル１はＸ方向へ上記靜＝＋＝向１１１ｇ１４だけ微動
するものであり、ターンテーブル１０回転に伴なって、
描画領域１２．１３の順に進行し、最終的には試料の全
面描画が完了するものである。また、偏向コイル８によ
る電磁偏向量は、ターンテーブルの回転ＲおよびＸ方向
への微動に伴なう描画領域のズレを補正する働きを有す
るものである。
ンテーブル（試料台）１はＲ方向へ回転すると共に、Ｘ
方向への左右動を行なう。その結果、ターンテーブル１
上の円周にセットされた多数枚の試料２は、電子線４の
偏向スキャン、ターンテーブル１の回転Ｒ１左右Ｉｇｌ
］Ｘとの組合せによって、連続的に全面描画が完了する
ものである。すなわち、第２図に示す如くターンテーブ
ル１の１回転によって静電偏向幅（９の静電偏向板によ
る）１４だけ描画され、さらに該１回転中にターンテー
ブル１はＸ方向へ上記靜＝＋＝向１１１ｇ１４だけ微動
するものであり、ターンテーブル１０回転に伴なって、
描画領域１２．１３の順に進行し、最終的には試料の全
面描画が完了するものである。また、偏向コイル８によ
る電磁偏向量は、ターンテーブルの回転ＲおよびＸ方向
への微動に伴なう描画領域のズレを補正する働きを有す
るものである。
したがって、本実施例によれば、間欠的な作動なしのス
ムーズな円運動と直線運動との組合せによる試料微動が
得られ、同時に数十枚の試料を一度に描画することがで
きる。
ムーズな円運動と直線運動との組合せによる試料微動が
得られ、同時に数十枚の試料を一度に描画することがで
きる。
以上説明したように、本発明によれば、高スルーフット
化を図ることができる。
化を図ることができる。
第１図は本発明の実梅例を示す図、第２図は第１図図示
実施例の描画方式の略説明図である。 １・・・試料台、２・・・試料、４・・・電子ビーム、
１２・・・（５） ９８− 葆１図 算２図
実施例の描画方式の略説明図である。 １・・・試料台、２・・・試料、４・・・電子ビーム、
１２・・・（５） ９８− 葆１図 算２図
Claims (1)
- １゜電子レンズによって絞られた電子ビームを偏向させ
ることによって描画試料上をスキャンすると同時にプラ
ンギング動作によって電子ビームのオン・オフを行う電
子ビーム露光装置において、上記描画試料を載置する台
を、回転移動および該回転運動中心点の直線移動とを組
合せて成るターンテーブル型の試料移動台としたことを
特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58163133A JPS6055621A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 電子ビ−ムの露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58163133A JPS6055621A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 電子ビ−ムの露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6055621A true JPS6055621A (ja) | 1985-03-30 |
Family
ID=15767816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58163133A Pending JPS6055621A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 電子ビ−ムの露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055621A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355935A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Omron Tateisi Electronics Co | 電子ビ−ム描画装置 |
| JPH01308025A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-12 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4910739A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-30 |
-
1983
- 1983-09-07 JP JP58163133A patent/JPS6055621A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4910739A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-30 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6355935A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-10 | Omron Tateisi Electronics Co | 電子ビ−ム描画装置 |
| JPH01308025A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-12 | Fujitsu Ltd | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |
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