JPS6056223B2 - ストリツプ防振装置の制御方法 - Google Patents
ストリツプ防振装置の制御方法Info
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- JPS6056223B2 JPS6056223B2 JP55084020A JP8402080A JPS6056223B2 JP S6056223 B2 JPS6056223 B2 JP S6056223B2 JP 55084020 A JP55084020 A JP 55084020A JP 8402080 A JP8402080 A JP 8402080A JP S6056223 B2 JPS6056223 B2 JP S6056223B2
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- Japan
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- strip
- magnet
- vibration isolator
- welding point
- opening
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0038—Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
- C23C2/51—Computer-controlled implementation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
- C23C2/52—Controlling or regulating the coating processes with means for measuring or sensing
- C23C2/524—Position of the substrate
- C23C2/5245—Position of the substrate for reducing vibrations of the substrate
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Replacement Of Web Rolls (AREA)
- Registering, Tensioning, Guiding Webs, And Rollers Therefor (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はストリップの連続溶融金属めつき設備に係り
、特にストリップの幅方向に張力を付与しストリップの
振動を防止するストリップ防振装置の制御方法に関する
。
、特にストリップの幅方向に張力を付与しストリップの
振動を防止するストリップ防振装置の制御方法に関する
。
ストリップを溶接により連続化し加熱炉で加熱した後
に溶融金属ポットに導き、気体絞りにより所定のめつき
厚みを得る溶融金属めつき法においては、気体絞り部で
のストリップの厚み方向の振動はめつき厚みのムラとな
り製品品質の低下となる。
に溶融金属ポットに導き、気体絞りにより所定のめつき
厚みを得る溶融金属めつき法においては、気体絞り部で
のストリップの厚み方向の振動はめつき厚みのムラとな
り製品品質の低下となる。
この気体絞り部でのストリップの振動を防止するため、
ストリップの幅方向に張力をかけることが有効である。
例えば磁力を発生する装置をストリップに近接させて張
力を作用させる方法がある。 この磁力式ストリップ防
振装置で所望の張力を発生させるためには、磁気作用の
特性から磁力発生器（以下磁石と呼ぶ）はストリップに
近接して設置することが必要である。一方ストリップは
左右の伸び差等の原因により若干の蛇行は避けられない
ので、光学的ストリップ端位置検出器等を設けその位置
信号により磁石がストリップに接触しないように磁石を
移動制御している。こうして磁石がストリップに接触し
てストリップをきずつけたりあるいは磁石が破損するこ
とを防止している。通常の蛇行に対しては上記の制御に
よつて、ストリップと磁石が接触することはない。しか
し別個のストリップコイルを接続した溶接点においては
前後のストリップ幅が異る場合及び同じ幅であつてもす
れて溶接された場合には、段差が生じ前述の蛇行に対す
る追従制御では移動が間に合わずストリップは磁石に接
触してしまうことがある。このような接触を避けるため
オペレータは溶接機から溶接点が走行した距離を監視し
、めつき装置に溶接点が近接したことを判断して予め磁
石を開放する操作を行ない、溶接点の通過後再び磁石を
ストリップに近接させる操作を行なつている。このよう
な操作には以下に示すような欠点がある。
ストリップの幅方向に張力をかけることが有効である。
例えば磁力を発生する装置をストリップに近接させて張
力を作用させる方法がある。 この磁力式ストリップ防
振装置で所望の張力を発生させるためには、磁気作用の
特性から磁力発生器（以下磁石と呼ぶ）はストリップに
近接して設置することが必要である。一方ストリップは
左右の伸び差等の原因により若干の蛇行は避けられない
ので、光学的ストリップ端位置検出器等を設けその位置
信号により磁石がストリップに接触しないように磁石を
移動制御している。こうして磁石がストリップに接触し
てストリップをきずつけたりあるいは磁石が破損するこ
とを防止している。通常の蛇行に対しては上記の制御に
よつて、ストリップと磁石が接触することはない。しか
し別個のストリップコイルを接続した溶接点においては
前後のストリップ幅が異る場合及び同じ幅であつてもす
れて溶接された場合には、段差が生じ前述の蛇行に対す
る追従制御では移動が間に合わずストリップは磁石に接
触してしまうことがある。このような接触を避けるため
オペレータは溶接機から溶接点が走行した距離を監視し
、めつき装置に溶接点が近接したことを判断して予め磁
石を開放する操作を行ない、溶接点の通過後再び磁石を
ストリップに近接させる操作を行なつている。このよう
な操作には以下に示すような欠点がある。
溶接点がめつき設備のどの位置に来ているかは、通常溶
接位置から溶接点が走行した距離と、設備長さと、スト
リップを走行させながら蓄積するルーパーのセット位置
とから計算機で計算し求めている。しかしこの計算には
、ストリップのたるみの差、ルーパーの蓄積量の検出誤
差、炉内におけるストリップの伸び等により３ＷＬ前後
の誤差が生じてしまう。この誤差を見込んで磁石を開放
するため開放時間が長くなりストリップが防振されず品
質の低下したストリップ長が大きくなる欠点が生じる。
また板幅変化量はめつきスケジュールによソー様でない
ため、オペレータがいちいち磁石の開放量をセットしな
ければならない。しかしこのセットには時間を要するこ
とから実施するのは困難である。そのため一定の十分余
裕のある量まで磁石を開放しているので、磁石の開閉に
必−要以上の時間を費し、やはりストリップの品質低下
長が大きくなる欠点がある。本発明の目的は上記の欠点
に鑑み、ストリップの板幅変化に応じて必要最小限の磁
石開き量及び開き時間て溶接点を磁石と接触することな
く通過、させるストリップ防振装置の制御方法を提供す
るにある。
接位置から溶接点が走行した距離と、設備長さと、スト
リップを走行させながら蓄積するルーパーのセット位置
とから計算機で計算し求めている。しかしこの計算には
、ストリップのたるみの差、ルーパーの蓄積量の検出誤
差、炉内におけるストリップの伸び等により３ＷＬ前後
の誤差が生じてしまう。この誤差を見込んで磁石を開放
するため開放時間が長くなりストリップが防振されず品
質の低下したストリップ長が大きくなる欠点が生じる。
また板幅変化量はめつきスケジュールによソー様でない
ため、オペレータがいちいち磁石の開放量をセットしな
ければならない。しかしこのセットには時間を要するこ
とから実施するのは困難である。そのため一定の十分余
裕のある量まで磁石を開放しているので、磁石の開閉に
必−要以上の時間を費し、やはりストリップの品質低下
長が大きくなる欠点がある。本発明の目的は上記の欠点
に鑑み、ストリップの板幅変化に応じて必要最小限の磁
石開き量及び開き時間て溶接点を磁石と接触することな
く通過、させるストリップ防振装置の制御方法を提供す
るにある。
本発明の特徴は、ストリップの溶接部の幅変化量と、連
続溶融金属めつき設備の入側で検出した溶接点の通過信
号と、連続溶融金属めつき設備中！を移動するストリッ
プの走行長さとから、磁石を前記溶接部の幅変化に応じ
てストリップの幅方向外方に移行させて開放する時間を
最適とする磁石の開閉タイミング信号を演算し、この開
閉タイミング信号により防振装置を制御することにより
達・成される。
続溶融金属めつき設備の入側で検出した溶接点の通過信
号と、連続溶融金属めつき設備中！を移動するストリッ
プの走行長さとから、磁石を前記溶接部の幅変化に応じ
てストリップの幅方向外方に移行させて開放する時間を
最適とする磁石の開閉タイミング信号を演算し、この開
閉タイミング信号により防振装置を制御することにより
達・成される。
以下、本発明の一実施例を図面に従つて説明する。
第１図は本発明の一実施例であるストリップ防振装置の
制御方法を適用した防振装置を備えた連続溶融亜鉛めつ
き設備を示すものである。
制御方法を適用した防振装置を備えた連続溶融亜鉛めつ
き設備を示すものである。
２台のコイル巻出機１２は交互にストリップ１４を巻出
す。
す。
ストリップは尾端を次のストリップの先端と溶接機１６
で溶接されルーパー１８を経て加熱炉２０で加熱処理さ
れる。加熱処理されたストリップは溶融亜鉛ポット２２
に入り出てきたストリップはクーリングタワーに取付け
られたトップローラー２４により上方に移動しながら気
体絞り装置・２６でストリップ表面に付着した溶融亜鉛
を適当な厚みに絞り取られる。その後クーリングタワー
で冷却され、亜鉛めつきがストリップ上になされる。加
熱炉２０の前方には炉前溶接点検出器２８が設置され検
出した信号は演算装置３０に送られる。またトップロー
ラー２４には測長機３２が設置されていて測定値は演算
装置３０に送られている。この演算装置３０の出力は気
体絞り装置２６の近くに配置された防振装置３４に接続
されている。この防振装置３４は気体絞り装置２６の間
でストリップが板厚方向に振動するのを防止するためス
トリップの幅方向に磁石により張力をかけている。第２
図Ａ及びＢは第１図に示した防振装置３４の詳細を示し
たものである。磁石３６はストリップ１４の端位置を検
出する投受光器より構成された板端検出器３８と共にフ
レーム４０に固定されている。
で溶接されルーパー１８を経て加熱炉２０で加熱処理さ
れる。加熱処理されたストリップは溶融亜鉛ポット２２
に入り出てきたストリップはクーリングタワーに取付け
られたトップローラー２４により上方に移動しながら気
体絞り装置・２６でストリップ表面に付着した溶融亜鉛
を適当な厚みに絞り取られる。その後クーリングタワー
で冷却され、亜鉛めつきがストリップ上になされる。加
熱炉２０の前方には炉前溶接点検出器２８が設置され検
出した信号は演算装置３０に送られる。またトップロー
ラー２４には測長機３２が設置されていて測定値は演算
装置３０に送られている。この演算装置３０の出力は気
体絞り装置２６の近くに配置された防振装置３４に接続
されている。この防振装置３４は気体絞り装置２６の間
でストリップが板厚方向に振動するのを防止するためス
トリップの幅方向に磁石により張力をかけている。第２
図Ａ及びＢは第１図に示した防振装置３４の詳細を示し
たものである。磁石３６はストリップ１４の端位置を検
出する投受光器より構成された板端検出器３８と共にフ
レーム４０に固定されている。
このフレーム４０はモータ４２により回転するスクリュ
ー４４で板幅方向に移動自在となつている。尚、前記モ
ータ及びスクリューに代えて他の駆動及び移動機構を用
いてもよい。次に本実施例の制御方法を上記の第１図及
び第２図並びに後述の第３図及び第４図を用いて説明す
る。
ー４４で板幅方向に移動自在となつている。尚、前記モ
ータ及びスクリューに代えて他の駆動及び移動機構を用
いてもよい。次に本実施例の制御方法を上記の第１図及
び第２図並びに後述の第３図及び第４図を用いて説明す
る。
第３図はストリップの溶接点の板幅変化を示すものであ
る。
る。
図Ａは溶接点で板幅が拡大する場合で、磁石３６は図中
破線で示す如く溶接点４６の手前から開移動を開始しな
ければならない。図Ｂは板幅の変化はないがずれがある
場合で、図中破線の如く磁石３６は溶接点４６の手前か
ら開移動をしなければならない。このような防振装置の
磁石３６の開閉制御は、磁石位置の後方（炉の方向）１
１メートルの位置に溶接点４６が達したことを炉入側に
設置された溶接点検出器２８の通過信号と、トップロー
ラー２４の回転数からストリップ１４の走行長さを検出
する測長機３２の測長量とから検出する。
破線で示す如く溶接点４６の手前から開移動を開始しな
ければならない。図Ｂは板幅の変化はないがずれがある
場合で、図中破線の如く磁石３６は溶接点４６の手前か
ら開移動をしなければならない。このような防振装置の
磁石３６の開閉制御は、磁石位置の後方（炉の方向）１
１メートルの位置に溶接点４６が達したことを炉入側に
設置された溶接点検出器２８の通過信号と、トップロー
ラー２４の回転数からストリップ１４の走行長さを検出
する測長機３２の測長量とから検出する。
この時点から磁石位置までストリップ１４が走行するの
に要する時間Ｔ秒を、１１とストリップ走行速度■５か
ら求め演算装置３０に記憶する。次に板幅変化量ΔＢの
片側分と、板ずれ等を見込んだ余裕αと、磁石の移動速
度■９とから、磁石３６が移動するのに要する時間ＴＡ
秒を（？ｒ＋α）／ＶＭＯ計算式から演算装置３０で演
算し、ＴからＴＡを引いた差ＴＢを求める。即ち、この
ＴＢは溶接点４６が磁石３６の手前１１メートルを通過
した時点から磁石を開移動させるまでの時間を示してい
る。磁石３６に溶接点４６が到達する１１メートル手前
を溶接点４６が通過した信号を受けた時から、Ｔ８秒後
に磁石の開移動を開始するようモータ４２を制御する。
従つて、最短の磁石開放時間で磁石３６を溶接点１４に
接触させることなくストリップを通過させることができ
る。次に、磁石位置を溶接点４６が通過するタイミング
を知らせる信号により、磁石３６を閉（通常制御）にし
て、溶接点通過後直ちに防振制御を再関する。第４図は
上記の制御内容を示すタイムチャートでＡは防振装置３
４とストリップの溶接点１４との位置関係を示し、Ｂは
炉前溶接点検出器２８を溶接点４６が通過した時点を示
し、Ｃは溶接点４６が防振装置の磁石３６の手前１１メ
ートルを通過した時点を示し、Ｄは磁石３６が開移動を
開始した時点を示し、Ｅは溶接点４６が磁石３６を通過
した時点を示している。なお前述の通常制御とは、板端
検出器３８により検出したストリップ１４の板端が基準
位置からずれた場合にはその信号を制御装置に与えモー
タ４２を回転させ、板端が基準位置に戻るように制御す
ることである。即ち板端検出器３８と一体に固定された
磁石３６とストリップ１４の間隔は一定に制御される。
本実施例によれば、溶接点４６が防振装置３４を通過す
るＴＢ秒前に磁石３６の開放を開始する指令を磁石開閉
装置に与え制御するので、最短の磁石開放時間で、スト
リップ１４と磁石３６が接触することなく溶接点１４を
通過させる効果がある。
に要する時間Ｔ秒を、１１とストリップ走行速度■５か
ら求め演算装置３０に記憶する。次に板幅変化量ΔＢの
片側分と、板ずれ等を見込んだ余裕αと、磁石の移動速
度■９とから、磁石３６が移動するのに要する時間ＴＡ
秒を（？ｒ＋α）／ＶＭＯ計算式から演算装置３０で演
算し、ＴからＴＡを引いた差ＴＢを求める。即ち、この
ＴＢは溶接点４６が磁石３６の手前１１メートルを通過
した時点から磁石を開移動させるまでの時間を示してい
る。磁石３６に溶接点４６が到達する１１メートル手前
を溶接点４６が通過した信号を受けた時から、Ｔ８秒後
に磁石の開移動を開始するようモータ４２を制御する。
従つて、最短の磁石開放時間で磁石３６を溶接点１４に
接触させることなくストリップを通過させることができ
る。次に、磁石位置を溶接点４６が通過するタイミング
を知らせる信号により、磁石３６を閉（通常制御）にし
て、溶接点通過後直ちに防振制御を再関する。第４図は
上記の制御内容を示すタイムチャートでＡは防振装置３
４とストリップの溶接点１４との位置関係を示し、Ｂは
炉前溶接点検出器２８を溶接点４６が通過した時点を示
し、Ｃは溶接点４６が防振装置の磁石３６の手前１１メ
ートルを通過した時点を示し、Ｄは磁石３６が開移動を
開始した時点を示し、Ｅは溶接点４６が磁石３６を通過
した時点を示している。なお前述の通常制御とは、板端
検出器３８により検出したストリップ１４の板端が基準
位置からずれた場合にはその信号を制御装置に与えモー
タ４２を回転させ、板端が基準位置に戻るように制御す
ることである。即ち板端検出器３８と一体に固定された
磁石３６とストリップ１４の間隔は一定に制御される。
本実施例によれば、溶接点４６が防振装置３４を通過す
るＴＢ秒前に磁石３６の開放を開始する指令を磁石開閉
装置に与え制御するので、最短の磁石開放時間で、スト
リップ１４と磁石３６が接触することなく溶接点１４を
通過させる効果がある。
従つてストリップ１４の品質低下長を最小限に抑える効
果ががある。以上の説明から明らかなように本発明によ
れば、改め検出した溶接部の幅変化量と、加熱炉入側で
検出した溶接点通過信号と、ストリップの走行長さとか
ら磁石の開閉タイミングを演算することにより、ストリ
ップの板幅変化に応じて必要最小限の磁石開き量及び開
き時間て溶接点を磁石と接触することなく通過させるス
トリップ防振装置の制御方法を提供することがてきる。
果ががある。以上の説明から明らかなように本発明によ
れば、改め検出した溶接部の幅変化量と、加熱炉入側で
検出した溶接点通過信号と、ストリップの走行長さとか
ら磁石の開閉タイミングを演算することにより、ストリ
ップの板幅変化に応じて必要最小限の磁石開き量及び開
き時間て溶接点を磁石と接触することなく通過させるス
トリップ防振装置の制御方法を提供することがてきる。
第１図は本発明の一実施例であるストリップ防振装置の
制御方法を適用した防振装置を備えた連続溶融亜鉛めつ
き設備を示す説明図、第２図Ａは防振装置の平面図、第
２図Ｂは防振装置の正面図、第３図Ａび第３図Ｂはスト
リップの溶接点の板幅変化を示す説明図、第４図は制御
内容を示すタイムチャート。 １４・・・・ストリップ、２０・・・・・・加熱炉、３
０・・・・・・演算装置、３２・・・・・・測長機。 ３４・・・・・・防振装置、３６・・・・・・磁石、４
２・・・・・・モータ。
制御方法を適用した防振装置を備えた連続溶融亜鉛めつ
き設備を示す説明図、第２図Ａは防振装置の平面図、第
２図Ｂは防振装置の正面図、第３図Ａび第３図Ｂはスト
リップの溶接点の板幅変化を示す説明図、第４図は制御
内容を示すタイムチャート。 １４・・・・ストリップ、２０・・・・・・加熱炉、３
０・・・・・・演算装置、３２・・・・・・測長機。 ３４・・・・・・防振装置、３６・・・・・・磁石、４
２・・・・・・モータ。
Claims (1)
- １ 連続溶融金属めつき設備中を移動するストリップの
幅方向に、磁石により張力を付与してストリップの振動
を防止するストリップ防振装置の制御方法において、前
記ストリップの溶接部の幅変化量と、前記連続溶接金属
めつき設備の入側で検出した前記溶接点の通過信号と、
連続溶接金属めつき設備中を移動するストリップの走行
長さとから、前記磁石が溶接部でストリップに接触しな
いように前記磁石を前記溶接部の幅変化に応じてストリ
ップの幅方向外方に移行させて開放する時間を最短とす
る開閉タイミングを演算し、この開閉タイミングにより
磁石の開閉を制御することを特徴とするストリップ防振
装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55084020A JPS6056223B2 (ja) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | ストリツプ防振装置の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55084020A JPS6056223B2 (ja) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | ストリツプ防振装置の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5713157A JPS5713157A (en) | 1982-01-23 |
| JPS6056223B2 true JPS6056223B2 (ja) | 1985-12-09 |
Family
ID=13818877
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55084020A Expired JPS6056223B2 (ja) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | ストリツプ防振装置の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6056223B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020129775A1 (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 日本碍子株式会社 | リチウム二次電池 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2521281B2 (ja) * | 1987-03-12 | 1996-08-07 | 三菱重工業株式会社 | 横延伸機 |
| JP2003293111A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-15 | Jfe Steel Kk | 金属帯非接触制御装置 |
| KR101111650B1 (ko) * | 2011-07-25 | 2012-02-14 | 주식회사 삼우에코 | 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치 |
-
1980
- 1980-06-23 JP JP55084020A patent/JPS6056223B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020129775A1 (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | 日本碍子株式会社 | リチウム二次電池 |
| EP3902033A4 (en) * | 2018-12-18 | 2022-11-16 | NGK Insulators, Ltd. | LITHIUM SECONDARY BATTERY |
| US12015117B2 (en) | 2018-12-18 | 2024-06-18 | Ngk Insulators, Ltd. | Lithium secondary cell |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5713157A (en) | 1982-01-23 |
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