JPS6057127U - 電子線描画装置 - Google Patents

電子線描画装置

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JPS6057127U
JPS6057127U JP14891483U JP14891483U JPS6057127U JP S6057127 U JPS6057127 U JP S6057127U JP 14891483 U JP14891483 U JP 14891483U JP 14891483 U JP14891483 U JP 14891483U JP S6057127 U JPS6057127 U JP S6057127U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
beam lithography
data
lithography equipment
magnetic disk
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Pending
Application number
JP14891483U
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English (en)
Inventor
大櫃　憲三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP14891483U priority Critical patent/JPS6057127U/ja
Publication of JPS6057127U publication Critical patent/JPS6057127U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は電子線描画装置のシステム構成図、第２図は本
考案の一実施例を示す回路図である。 １・・・システムバス、２・・・メモリコントロールユ
ニット、３・・・メインメモリ、４・・・処理装置、５
・・・磁気テープ装置、６，７・・・大容量磁気ディス
ク装置、８・・・バッファメモリ、９・・・描画装置、
１０・・・描画制御装置、３７・・・ディスクドライバ
制御回路、３８・・・ＲＡＭバッファ、３９．４０・・
・レジスタ、４１・・・アドレスレジスタ、４２・・・
アドレスコントロール、４３・・・制御回路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 描画データを大容量磁気ディスク装置からバラ゛　　　
    ファメモリへ転送し、該描画データを高速に読出し描画
    を行なう電子線描画装置において、大容量磁気ディスク
    装置からバッファメモリへのデータ転送を計算機のメイ
    ンメモリを介さず直接転送することを特徴とする電子線
    描画装置。
JP14891483U 1983-09-28 1983-09-28 電子線描画装置 Pending JPS6057127U (ja)

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JP14891483U JPS6057127U (ja) 1983-09-28 1983-09-28 電子線描画装置

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JPS6057127U true JPS6057127U (ja) 1985-04-20

Family

ID=30330716

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JP14891483U Pending JPS6057127U (ja) 1983-09-28 1983-09-28 電子線描画装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12282070B2 (en) 2020-02-24 2025-04-22 Nio Co., Ltd. Insulation monitoring method and system for traction battery and apparatus

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