JPS6057893B2 - 半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造法 - Google Patents
半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造法Info
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- JPS6057893B2 JPS6057893B2 JP51114923A JP11492376A JPS6057893B2 JP S6057893 B2 JPS6057893 B2 JP S6057893B2 JP 51114923 A JP51114923 A JP 51114923A JP 11492376 A JP11492376 A JP 11492376A JP S6057893 B2 JPS6057893 B2 JP S6057893B2
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- microcapsules
- monomers
- wall
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/02—Making microcapsules or microballoons
- B01J13/06—Making microcapsules or microballoons by phase separation
- B01J13/14—Polymerisation; cross-linking
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)
- Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半透性の高分子壁を有するマイクロカプセルの
製造法に関するものである。
製造法に関するものである。
マイクロカプセルは従来壁の破壊によつて必要な時に内
容物をとりだす目的で使用されてきたが、近年酵素の固
定化あるいは吸着剤の保護コーティングとして選択的物
質の出入りを行う壁物質でのマイクロカプセルが注目さ
れてきた。
容物をとりだす目的で使用されてきたが、近年酵素の固
定化あるいは吸着剤の保護コーティングとして選択的物
質の出入りを行う壁物質でのマイクロカプセルが注目さ
れてきた。
例えば、酵素の固定化においては壁物質の酵素は通過せ
ず、基質生成物は通過するという性能が要請さクロカプ
セル化の手段はコアセルベーションあるいは界面重合法
を用いてマイクロカプセル化し、その高分子の半透性を
用いるにとどまり、半透性膜の製造に見られるような孔
を制御された半透性膜を有するマイクロカプセルの製造
技術はない。本発明者らは壁物質となる高分子の単量体
で内容物をマイクロカプセル化するとそのマイクロカプ
セルが単量体の重合を行わしめる間安定に存在し得るこ
とおよび単量体中に単量体の溶剤として作用し、重合体
を膨潤させない沈澱剤を存在させると重合した重合体中
に均一な孔径の孔を生成せしめることを見いだした。本
発明はかかる知見を基にして半透性を有する高分子壁か
らなるマイクロカプセルの新しい製造法を提供するもの
である。すなわち、本発明は（ａ）１種または２種以上
のモノエチレン系不飽和単量体あるいは非共役関係にあ
る複数個の不飽和基を有する単量体と少なくとも１種の
モノエチレン系不飽和単量体との混合物と、（をにれら
の単量体の溶剤として作用し、かつこれらの単量体から
生成する重合体を膨潤させない沈澱剤との混合物でマイ
クロカプセル化されるべき内容物をマイクロカプセル化
し、しかる後該マイクロカプセルの壁を形成している単
量体を重合せしめることを特徴とする半透膜を壁とする
マイクロカプセルの製造法である。
ず、基質生成物は通過するという性能が要請さクロカプ
セル化の手段はコアセルベーションあるいは界面重合法
を用いてマイクロカプセル化し、その高分子の半透性を
用いるにとどまり、半透性膜の製造に見られるような孔
を制御された半透性膜を有するマイクロカプセルの製造
技術はない。本発明者らは壁物質となる高分子の単量体
で内容物をマイクロカプセル化するとそのマイクロカプ
セルが単量体の重合を行わしめる間安定に存在し得るこ
とおよび単量体中に単量体の溶剤として作用し、重合体
を膨潤させない沈澱剤を存在させると重合した重合体中
に均一な孔径の孔を生成せしめることを見いだした。本
発明はかかる知見を基にして半透性を有する高分子壁か
らなるマイクロカプセルの新しい製造法を提供するもの
である。すなわち、本発明は（ａ）１種または２種以上
のモノエチレン系不飽和単量体あるいは非共役関係にあ
る複数個の不飽和基を有する単量体と少なくとも１種の
モノエチレン系不飽和単量体との混合物と、（をにれら
の単量体の溶剤として作用し、かつこれらの単量体から
生成する重合体を膨潤させない沈澱剤との混合物でマイ
クロカプセル化されるべき内容物をマイクロカプセル化
し、しかる後該マイクロカプセルの壁を形成している単
量体を重合せしめることを特徴とする半透膜を壁とする
マイクロカプセルの製造法である。
本発明における適当なモノエチレン系不飽和単量体は、
アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸；アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
３級ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル
酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル、アクリル酸１・４−ブタンジオール、アクリル
酸３−クロルー２−ヒドロキシプロピルおよび上記のア
クリル酸エステルに対応するメタクリル酸のエステルな
どのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル；
アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−
メチロールアクリルアミドーメチルエーテル、Ｎ−メチ
ロールメタクリルアミドーメチルエーテルなどのアクリ
ル酸アミドおよびメタクリル酸アミド；酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、ビニルーｎ−ブチレート、ビニルラ
ウレート、ビニルステアレートなどの脂肪族カルボン酸
のビニルエステル；ビニル−イソブチルエーテル、ビニ
ルーｎ−オクチルエーテルなどのアルコールのビニルエ
ーテル；Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−メチルカルバ
ミン酸エステルなどのＮ−ビニル化合物：塩化ビニル、
塩化ビニリデンなどのハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビ
ニリデン化合物；スチレン、α−メチルスチレン、クロ
ルメチルスチレン、ビニルナフタリンなどのアリールビ
ニルおよびアリールビニリデン化合物；アクリロニトリ
ルなどのビニルニトリル、シアノビニリデン化合物；ビ
ニルピリジン、２−メチルー５−ビニルピリジン、ビニ
ルピロリドンなどの窒素複素環式化合物を有するビニル
、ビニリデン化合物のごときものである。
アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸；アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸
３級ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル
酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプ
ロピル、アクリル酸１・４−ブタンジオール、アクリル
酸３−クロルー２−ヒドロキシプロピルおよび上記のア
クリル酸エステルに対応するメタクリル酸のエステルな
どのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル；
アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−
メチロールアクリルアミドーメチルエーテル、Ｎ−メチ
ロールメタクリルアミドーメチルエーテルなどのアクリ
ル酸アミドおよびメタクリル酸アミド；酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、ビニルーｎ−ブチレート、ビニルラ
ウレート、ビニルステアレートなどの脂肪族カルボン酸
のビニルエステル；ビニル−イソブチルエーテル、ビニ
ルーｎ−オクチルエーテルなどのアルコールのビニルエ
ーテル；Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−メチルカルバ
ミン酸エステルなどのＮ−ビニル化合物：塩化ビニル、
塩化ビニリデンなどのハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビ
ニリデン化合物；スチレン、α−メチルスチレン、クロ
ルメチルスチレン、ビニルナフタリンなどのアリールビ
ニルおよびアリールビニリデン化合物；アクリロニトリ
ルなどのビニルニトリル、シアノビニリデン化合物；ビ
ニルピリジン、２−メチルー５−ビニルピリジン、ビニ
ルピロリドンなどの窒素複素環式化合物を有するビニル
、ビニリデン化合物のごときものである。
非共役関係にある複数個の不飽和基を有する適．当な単
量体とはジビニルベンゼン、ジビニルピリジン、ジビニ
ルトルエン、ジビニルナフタレン、フタル酸ジアリル、
ジアクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸エチ
レングリコール、トリメタクリル酸トリメチロールプ山
ぐン、アクリルー酸トリメチロールプロパン、テトラメ
タクリル酸ペンタエリスリトール、テトラアクリル酸エ
リスリトール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール
、ジアクリル酸トリエチレングリコール、ジメタクリル
酸テトラエチレングリコール、ジアクリル酸テトラエチ
レングリコール、ジアクリル酸ネオペンチルグリコール
、ジメタクリル酸ネオペンチルグリコール、ジビニルキ
シレン、ジビニルエチルベンゼン、ジビニルスルホン、
グリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、グリ
コールのモノチオあるいはジチオ誘導体およびレゾルシ
ン等のポリビニルあるいはポリアリルエーテル、ジビニ
ルケトン、硫化ジビニル、アクリル酸アリｊル、マレイ
ン酸ジアリル、フマル酸ジアリル、コハク酸ジアリル、
炭酸ジアリル、マロン酸ジアリル、シユウ酸ジアリル、
アジピン酸ジアリル、セバシン酸ジアリル、セバシン酸
ジビニル、酒石酸ジアリル、ケイ酸ジアリル、トリカル
バリル酸トリアリル、アコニット酸トリアリル、クエン
酸トリアリル、リン酸トリアリル、Ｎ−Ｎ″−メチレン
ジアクリルアミド、Ｎ−Ｎ″ーメチレンジメタクリルア
ミド、Ｎ−Ｎ″一エチレンジアクリルアミド、１●２−
ジ（α−メチルメチレンスルホン”アミド）エチレン、
トリビニルベンゼン、トリビニルナフタレンおよびポリ
ビニルアンスラセンなどである。
量体とはジビニルベンゼン、ジビニルピリジン、ジビニ
ルトルエン、ジビニルナフタレン、フタル酸ジアリル、
ジアクリル酸エチレングリコール、ジメタクリル酸エチ
レングリコール、トリメタクリル酸トリメチロールプ山
ぐン、アクリルー酸トリメチロールプロパン、テトラメ
タクリル酸ペンタエリスリトール、テトラアクリル酸エ
リスリトール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール
、ジアクリル酸トリエチレングリコール、ジメタクリル
酸テトラエチレングリコール、ジアクリル酸テトラエチ
レングリコール、ジアクリル酸ネオペンチルグリコール
、ジメタクリル酸ネオペンチルグリコール、ジビニルキ
シレン、ジビニルエチルベンゼン、ジビニルスルホン、
グリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール、グリ
コールのモノチオあるいはジチオ誘導体およびレゾルシ
ン等のポリビニルあるいはポリアリルエーテル、ジビニ
ルケトン、硫化ジビニル、アクリル酸アリｊル、マレイ
ン酸ジアリル、フマル酸ジアリル、コハク酸ジアリル、
炭酸ジアリル、マロン酸ジアリル、シユウ酸ジアリル、
アジピン酸ジアリル、セバシン酸ジアリル、セバシン酸
ジビニル、酒石酸ジアリル、ケイ酸ジアリル、トリカル
バリル酸トリアリル、アコニット酸トリアリル、クエン
酸トリアリル、リン酸トリアリル、Ｎ−Ｎ″−メチレン
ジアクリルアミド、Ｎ−Ｎ″ーメチレンジメタクリルア
ミド、Ｎ−Ｎ″一エチレンジアクリルアミド、１●２−
ジ（α−メチルメチレンスルホン”アミド）エチレン、
トリビニルベンゼン、トリビニルナフタレンおよびポリ
ビニルアンスラセンなどである。
架橋剤として公知の、特に推奨されるものはジビニルベ
ンゼンおよびトリビニルベンゼンの如きポリビニル芳香
族炭化水素、ジメタクリル酸エチレングリコールの如き
ジメタクリル酸グリコールなどである。
ンゼンおよびトリビニルベンゼンの如きポリビニル芳香
族炭化水素、ジメタクリル酸エチレングリコールの如き
ジメタクリル酸グリコールなどである。
沈澱剤は単量体、単量体混合物の溶媒であり均質溶液を
生成し、重合体あるいは共重合体に溶媒作用を示さず膨
潤させないもので、重合反応条件の下に化学的に不活性
なものでなければならない。
生成し、重合体あるいは共重合体に溶媒作用を示さず膨
潤させないもので、重合反応条件の下に化学的に不活性
なものでなければならない。
かかる沈澱剤の選択、量の決定は単量体の組成、期待す
る孔の大きさ、透過量により変化する沈澱剤の一般的選
択方法は、特公昭３７−１３７９２″交サ結合共重合体
の製造方法″に記載されている。例を示すとアクリル酸
エステルを用いる場合には沈澱剤として７以上の炭素原
子含量を有するアルキルエステル、ヘプタン、イソオク
タンが有効である。スチレンージビニルベンゼン共重合
体の場合は正ブタノール、第２級ブタノール、ヘプタン
、イソオクタンなどが有効である。沈澱剤は１成分であ
る必要はなく特に共重合体を得る時には１分のみで適当
な沈澱剤を得ることが難しいことが多い。重合方法とし
ては反応開始剤として過酸化ベンゾイル、第３級ーブチ
ルヒドロパーオキシドなどの過酸化物やアゾジイソブチ
ロニトリル、アゾジイソブチルアミドなどのアゾ触媒を
用いた熱重合、ベンゾイン、アゾイソブチロニトリルな
どを触媒とした可視、紫外線を用いた光重合、放射線重
合などの重合方法が可能である。
る孔の大きさ、透過量により変化する沈澱剤の一般的選
択方法は、特公昭３７−１３７９２″交サ結合共重合体
の製造方法″に記載されている。例を示すとアクリル酸
エステルを用いる場合には沈澱剤として７以上の炭素原
子含量を有するアルキルエステル、ヘプタン、イソオク
タンが有効である。スチレンージビニルベンゼン共重合
体の場合は正ブタノール、第２級ブタノール、ヘプタン
、イソオクタンなどが有効である。沈澱剤は１成分であ
る必要はなく特に共重合体を得る時には１分のみで適当
な沈澱剤を得ることが難しいことが多い。重合方法とし
ては反応開始剤として過酸化ベンゾイル、第３級ーブチ
ルヒドロパーオキシドなどの過酸化物やアゾジイソブチ
ロニトリル、アゾジイソブチルアミドなどのアゾ触媒を
用いた熱重合、ベンゾイン、アゾイソブチロニトリルな
どを触媒とした可視、紫外線を用いた光重合、放射線重
合などの重合方法が可能である。
架橋剤としての複数個のエチレン系不飽和基を含有する
単量体の割合は２％以上５０％以下が望ましい。
単量体の割合は２％以上５０％以下が望ましい。
２％以下であると孔径が大なる傾向が強く、孔径の均質
性が悪くなる。
性が悪くなる。
５０％以上であると強度的にもろい壁となる。
沈澱剤の単量体に対する比率は単量体１に対し０．１か
ら２．０の範囲が望ましく、これ以下で十分な透過量が
得られる沈澱剤では孔径が大き過ぎることが多く、これ
以上では強度が強くなり取扱い上好ましくない。触媒量
は単量体あるいは単量体混合物の重量に対し０．０１〜
３％である。壁物質となる単量体の安定なマイクロカプ
セルを作るためには界面活性剤を用いるのが望ましい。
ら２．０の範囲が望ましく、これ以下で十分な透過量が
得られる沈澱剤では孔径が大き過ぎることが多く、これ
以上では強度が強くなり取扱い上好ましくない。触媒量
は単量体あるいは単量体混合物の重量に対し０．０１〜
３％である。壁物質となる単量体の安定なマイクロカプ
セルを作るためには界面活性剤を用いるのが望ましい。
界面活性剤の選択の基準としては疎水性性単量体の場合
は油溶性界面活性剤が望ましい。トＬＢ値としては１０
以下のものが適当である。また、親水性単量体を用いる
時には水溶性界面活性剤のＨＬＢ値として８以上のもの
が適当てある。界面活性剤はポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエ
ーテル、ゾルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステ
ルなどの他親水性単量体を用いる時には陽イオン性、陰
イオン性等のイオン性交面活性剤も用いられる。安定な
単量体のマイクロカプセルを安定化させるもう一つの方
法は粘度の調整である。
は油溶性界面活性剤が望ましい。トＬＢ値としては１０
以下のものが適当である。また、親水性単量体を用いる
時には水溶性界面活性剤のＨＬＢ値として８以上のもの
が適当てある。界面活性剤はポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエ
ーテル、ゾルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステ
ルなどの他親水性単量体を用いる時には陽イオン性、陰
イオン性等のイオン性交面活性剤も用いられる。安定な
単量体のマイクロカプセルを安定化させるもう一つの方
法は粘度の調整である。
分子量の高いもので製造される壁の強度を低下させない
ものをあらかじめ溶かしておくと良い。たとえばポリス
チレン壁のマイクロカプセルの製造の際にポリスチレン
をスチレン単量体に溶解させることによつて粘度の調整
が可能である。壁物質となる単量体を用いたマイクロカ
プセルを作る方法は公知のいずれの方法によつても良い
。
ものをあらかじめ溶かしておくと良い。たとえばポリス
チレン壁のマイクロカプセルの製造の際にポリスチレン
をスチレン単量体に溶解させることによつて粘度の調整
が可能である。壁物質となる単量体を用いたマイクロカ
プセルを作る方法は公知のいずれの方法によつても良い
。
液体芯物質をマイクロカプセル化するには、ダブルエマ
ルジョンの技術を用いる。
ルジョンの技術を用いる。
つまり芯物質と混じらない単量体を選択し、単量体に芯
物質を分散させエマルジョンを作り、しかる後単量体あ
るいはプレポリマーと混ざらない液中に攪拌下加えるこ
とによつてダブルエマルジョンをつくりこの状態で重合
せしめる。かかる方法によつて得られたマイクロカプセ
ルの壁物質は均一の孔径を有する連続孔をもつため壁を
通じての物質の透過の選択性を有する。
物質を分散させエマルジョンを作り、しかる後単量体あ
るいはプレポリマーと混ざらない液中に攪拌下加えるこ
とによつてダブルエマルジョンをつくりこの状態で重合
せしめる。かかる方法によつて得られたマイクロカプセ
ルの壁物質は均一の孔径を有する連続孔をもつため壁を
通じての物質の透過の選択性を有する。
以上の説明によつても明らかな様に単量体の組成、沈澱
剤の種類、量を決定すれは再現性良く均質なる孔を有す
る半透膜を壁とするマイクロカプセルを製造することが
できる。かかる半透膜を壁とするマイクロカプセルは酵
素の固定、吸着剤の選択性付与など広範囲の工業的用途
に適したものである。
剤の種類、量を決定すれは再現性良く均質なる孔を有す
る半透膜を壁とするマイクロカプセルを製造することが
できる。かかる半透膜を壁とするマイクロカプセルは酵
素の固定、吸着剤の選択性付与など広範囲の工業的用途
に適したものである。
実施例１
スチレン７．３ｆ１ジビニルベンゼン（５５％）１２．
７ｆに沈澱剤としてＳｅｃ−ブタノール３．０ｙ１界面
活性剤スパン８５を８ｇ、触媒として過酸化ベンゾイル
０．１５ｆを加え、更に芯物質として水４０ｆを加えた
後激しく攪拌を行つた。
７ｆに沈澱剤としてＳｅｃ−ブタノール３．０ｙ１界面
活性剤スパン８５を８ｇ、触媒として過酸化ベンゾイル
０．１５ｆを加え、更に芯物質として水４０ｆを加えた
後激しく攪拌を行つた。
次にアラビアゴム４．０ｙ１水２００ｆの、８０℃に予
熱した水溶液中に上記エマルジョンを攪拌下、すばやく
投入、以後８０℃で６．５時間の重合を行つた。反応終
了後、ろ過し水およびアセトンで洗浄した後、真空乾燥
を行つた。乾燥後の重量は１９．０ｆであつた。このビ
ーズのカサ密度は０．２９ｆ′Ｃｃで、粒径は２００〜
８００μであつた。第３図に示すような軟Ｘ線写真（倍
率６皓、ソ・フテツクス社製、ソフテツクスＣＳＭ型装
置使用）より、このものは壁厚３０〜１００μのマイク
ロカプセルであることが確認された。
熱した水溶液中に上記エマルジョンを攪拌下、すばやく
投入、以後８０℃で６．５時間の重合を行つた。反応終
了後、ろ過し水およびアセトンで洗浄した後、真空乾燥
を行つた。乾燥後の重量は１９．０ｆであつた。このビ
ーズのカサ密度は０．２９ｆ′Ｃｃで、粒径は２００〜
８００μであつた。第３図に示すような軟Ｘ線写真（倍
率６皓、ソ・フテツクス社製、ソフテツクスＣＳＭ型装
置使用）より、このものは壁厚３０〜１００μのマイク
ロカプセルであることが確認された。
窒素脱着法（カルボ●エルバ社製、リープトマチツク１
８叩型装置使用）によつて壁が有する透過・孔を測定し
た。
８叩型装置使用）によつて壁が有する透過・孔を測定し
た。
第１図に示されているように２３人の孔径で見掛け上細
孔容積が急激な増加を示しているが、このことは最大２
３Ａの孔径で内部と外部が通じていることを示し、他の
孔径の細孔容量は壁の有する不透過孔であることがマイ
クロカプセフルを粉砕し、壁だけの測定から明らかにな
つた。実施例２エチルベンゼン４５％とジビニルベンゼ
ン５５％の混合物２０．０ダ、ｎ−ヘプタン２．０ｇの
混合液に界面活性剤としてスパン８５（花王アトラス社
製）を８．０ｙ１触媒として過酸化ベンゾイル０．１５
ｙを加え、更に芯物質として水４０ｆを加え激しく攪拌
を行つた。
孔容積が急激な増加を示しているが、このことは最大２
３Ａの孔径で内部と外部が通じていることを示し、他の
孔径の細孔容量は壁の有する不透過孔であることがマイ
クロカプセフルを粉砕し、壁だけの測定から明らかにな
つた。実施例２エチルベンゼン４５％とジビニルベンゼ
ン５５％の混合物２０．０ダ、ｎ−ヘプタン２．０ｇの
混合液に界面活性剤としてスパン８５（花王アトラス社
製）を８．０ｙ１触媒として過酸化ベンゾイル０．１５
ｙを加え、更に芯物質として水４０ｆを加え激しく攪拌
を行つた。
次にこのものを予め８０℃に保つたアラビヤゴム４．０
ｆ１１水２００ｙの溶液中に攪拌下迅速に投入分散を行
つた。８０℃、６時間の重合を行い、生成したビーズの
泊過、洗浄を行つた。
ｆ１１水２００ｙの溶液中に攪拌下迅速に投入分散を行
つた。８０℃、６時間の重合を行い、生成したビーズの
泊過、洗浄を行つた。
８０℃、２４１１ｆ間の真空乾燥後の重量は１８．０ｙ
であつた。
であつた。
得られたビーズのカサ密度は０．３１８ｙ１ｃｃで壁厚
４０〜１４０μの中空体であつた。また窒素による脱着
試験の結果孔径４５Ａの内部に通じた気孔を有すること
が判つた。第２図に窒素脱着法による見掛けの孔径分布
を示す。
４０〜１４０μの中空体であつた。また窒素による脱着
試験の結果孔径４５Ａの内部に通じた気孔を有すること
が判つた。第２図に窒素脱着法による見掛けの孔径分布
を示す。
第４図に軟Ｘ線写真を示す。
実施例３
アクリル酸エチル１０ｙ１ネオペンチルグリコールジア
クリレート１０ｙとヘプタン６ｆに界面活性剤としてポ
リオキシエチレンオレイルエーテルであるエマルゲン４
０４（花王アトラス社製）１．２ｇ、重合開始剤として
ベンゾフェノン０．１ｙを加、芯物質として水３０ｙを
加えてはげしぐ攪拌を行い、Ｗ／Ｏ型エマルジョンをつ
くつた。
クリレート１０ｙとヘプタン６ｆに界面活性剤としてポ
リオキシエチレンオレイルエーテルであるエマルゲン４
０４（花王アトラス社製）１．２ｇ、重合開始剤として
ベンゾフェノン０．１ｙを加、芯物質として水３０ｙを
加えてはげしぐ攪拌を行い、Ｗ／Ｏ型エマルジョンをつ
くつた。
次にこのＷ／Ｏ型エマルジョンをアラビヤゴム４．０ｙ
１水２００ｙの溶液中に攪拌下、すはやく投入分散させ
、室温のままで紫外線を３紛間照射し、重合せしめた。
重合後沖過し、水、アセトンで洗浄した後真空乾燥を行
つた。乾燥後の重量は１９ｇであつた。このビーズのカ
サ密度は０．２６ｙ１ｃｃで粒径２００〜８００μ、壁
厚５０〜１５０μで、窒素脱着法で測定したところ内部
導通気孔の孔径８０人を有するマイクロカプセルであつ
た。
１水２００ｙの溶液中に攪拌下、すはやく投入分散させ
、室温のままで紫外線を３紛間照射し、重合せしめた。
重合後沖過し、水、アセトンで洗浄した後真空乾燥を行
つた。乾燥後の重量は１９ｇであつた。このビーズのカ
サ密度は０．２６ｙ１ｃｃで粒径２００〜８００μ、壁
厚５０〜１５０μで、窒素脱着法で測定したところ内部
導通気孔の孔径８０人を有するマイクロカプセルであつ
た。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図はそれぞれ実施例１および実施例２
で得られたマイクロカプセルの窒素脱着法による孔径分
布図を示す。
で得られたマイクロカプセルの窒素脱着法による孔径分
布図を示す。
Claims (1)
- １ （ａ）１種または２種以上のモノエチレン系不飽和
単量体あるいは非共役関係にある複数個の不飽和基を有
する単量体と少なくとも１種のモノエチレン系不飽和単
量体との混合物と、（ｂ）これらの単量体の溶剤として
作用し、かつこれらの単量体から生成する重合体を溶解
または膨潤させない沈澱剤との混合溶液中にこれと溶け
合わない液体の芯物質を分散させて分散体をつくり、つ
いで分散媒と溶け合わない液中に該分散体を攪拌下加え
ることによつてマイクロカプセル化し、ついで該マイク
ロカプセルの壁を形成している単量体を重合させること
を特徴とする半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51114923A JPS6057893B2 (ja) | 1976-09-24 | 1976-09-24 | 半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51114923A JPS6057893B2 (ja) | 1976-09-24 | 1976-09-24 | 半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5339978A JPS5339978A (en) | 1978-04-12 |
| JPS6057893B2 true JPS6057893B2 (ja) | 1985-12-17 |
Family
ID=14649997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51114923A Expired JPS6057893B2 (ja) | 1976-09-24 | 1976-09-24 | 半透膜を壁とするマイクロカプセルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6057893B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH029986U (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-23 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55128261A (en) * | 1979-03-26 | 1980-10-03 | Sanyo Electric Co Ltd | Enclosed type alkali zinc storage battery |
| JPS58137963A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-16 | Sanyo Electric Co Ltd | アルカリ亜鉛蓄電池 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5246554B2 (ja) * | 1974-01-22 | 1977-11-25 |
-
1976
- 1976-09-24 JP JP51114923A patent/JPS6057893B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH029986U (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-23 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5339978A (en) | 1978-04-12 |
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