JPS6058219B2 - 液晶性エステル化合物 - Google Patents
液晶性エステル化合物Info
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- JPS6058219B2 JPS6058219B2 JP8124780A JP8124780A JPS6058219B2 JP S6058219 B2 JPS6058219 B2 JP S6058219B2 JP 8124780 A JP8124780 A JP 8124780A JP 8124780 A JP8124780 A JP 8124780A JP S6058219 B2 JPS6058219 B2 JP S6058219B2
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な液晶性エステル化合物に関する。
近年の液晶表示体技術の進歩は著しく、特に電界効果型
ツイストネマチツク液晶表示素子(以下FE−TNセル
と称する)については、その使用範囲も時計、電卓用の
表示パルスからマトリックスディスプレイやグラフィッ
クディスプレイの分野などへ拡大されつつある。
ツイストネマチツク液晶表示素子(以下FE−TNセル
と称する)については、その使用範囲も時計、電卓用の
表示パルスからマトリックスディスプレイやグラフィッ
クディスプレイの分野などへ拡大されつつある。
これにつれて、広い液晶温度範囲を有し、温度変化に安
定な液晶材料が要求されてきた。実際にはo℃以下から
少くとも80℃以上の液晶温度範囲が必要とされるが、
従来の液晶材料の有する液晶温度範囲の特に上限の温度
(透明点)は60℃前後であり、要求を満たすためには
不十分である。・ 暑倉 − ι 一 鯉ゝ、−ュ1
&−ーL利用□□j、−rrnJ、l−ッー]閂[近注
目されている液晶の誘電分散効果を利用した二周波駆動
法がある。
定な液晶材料が要求されてきた。実際にはo℃以下から
少くとも80℃以上の液晶温度範囲が必要とされるが、
従来の液晶材料の有する液晶温度範囲の特に上限の温度
(透明点)は60℃前後であり、要求を満たすためには
不十分である。・ 暑倉 − ι 一 鯉ゝ、−ュ1
&−ーL利用□□j、−rrnJ、l−ッー]閂[近注
目されている液晶の誘電分散効果を利用した二周波駆動
法がある。
これに用いられる液晶組成物を形成するにあたつて要求
される条件として、ダイナミック駆動マージンを広くす
るために、やはり広い液晶温度範囲を有することと、誘
電異方性が正から負に変わる分散周波数の低い液晶材料
が必要とされる。従来においては、一般式が00)R’
\ で示される様なジエステル化合物が用いられていた。
される条件として、ダイナミック駆動マージンを広くす
るために、やはり広い液晶温度範囲を有することと、誘
電異方性が正から負に変わる分散周波数の低い液晶材料
が必要とされる。従来においては、一般式が00)R’
\ で示される様なジエステル化合物が用いられていた。
しかし、これらは一般的に粘性が高く、また融点が高い
という欠点を有していた。従つて、二周波駆動用液晶材
料としては、液晶温度範囲が広く、マージンが広く、分
散周波数の低い液晶材料が望まれる。更に、最近、液晶
にレーザ・ビームを走査させ温度変化を与えて、液晶セ
ルに生する光透過率変化(液晶の熱光学効果)を利用し
、投写型の大型表示の研究(A、Sasaki、、に、
KurahashiandT。
という欠点を有していた。従つて、二周波駆動用液晶材
料としては、液晶温度範囲が広く、マージンが広く、分
散周波数の低い液晶材料が望まれる。更に、最近、液晶
にレーザ・ビームを走査させ温度変化を与えて、液晶セ
ルに生する光透過率変化(液晶の熱光学効果)を利用し
、投写型の大型表示の研究(A、Sasaki、、に、
KurahashiandT。
TakagiJ、Appl、Phys、vol、45、
P、4356、oCt、1974)が盛んになされて
おり、特に、スメクチツク液晶を用いると、コントラス
ト及び応答速・度が実用的レベルにまで到達することが
分かつている(F.J.Kahn..Appl.Phy
s.Lett.22、111(1973))。従つて、
スメクチツク液晶範囲の広い、そしてその上の温度でネ
マチツク相をとる液晶が望まれている。本発明の目的は
、上述したように、FE−霜用として、液晶温度範囲の
広い特に透明点の高い液晶を、そして二周波駆動用とし
て、マージンが広く、分散周波数の低い液晶を、そして
、熱光学効果を有する広いスメクチツク液晶範囲の液晶
材料を供給することである。
P、4356、oCt、1974)が盛んになされて
おり、特に、スメクチツク液晶を用いると、コントラス
ト及び応答速・度が実用的レベルにまで到達することが
分かつている(F.J.Kahn..Appl.Phy
s.Lett.22、111(1973))。従つて、
スメクチツク液晶範囲の広い、そしてその上の温度でネ
マチツク相をとる液晶が望まれている。本発明の目的は
、上述したように、FE−霜用として、液晶温度範囲の
広い特に透明点の高い液晶を、そして二周波駆動用とし
て、マージンが広く、分散周波数の低い液晶を、そして
、熱光学効果を有する広いスメクチツク液晶範囲の液晶
材料を供給することである。
本発明によつて提供される化合物は下記の構造を有する
液晶性エステル化合物である。
液晶性エステル化合物である。
(但し、Rは炭素数3〜8個の直鎖アルキル基を示す。
)該液晶性エステル化合物は、以下に示す合成ルートで
製造することができる。
製造することができる。
“(但し、Rは炭素数が3〜8個の直鎖アルキル基を示
す。
す。
)以下、その製造方法を簡単に説明する。
StePl
市販のp−フェニルフェノールを水酸化ナトリウム水溶
液に溶かし、硫酸ジメチルと反応させて4−メトキシビ
フェニルを得る。
液に溶かし、硫酸ジメチルと反応させて4−メトキシビ
フェニルを得る。
SteP2
4−メトキシビフェニルとペンチリルクロリドとで常法
によりアシル化し、4−メトキシー4″−ヘキシロイル
ビフエニルを得る。
によりアシル化し、4−メトキシー4″−ヘキシロイル
ビフエニルを得る。
Step3
4−メトキシー4″−ペンチルカルボニルビフェニルと
ヒドラジンヒドレートと、水酸化カリウムをジエチレン
グリコール中で反応させて還元し、4−メトキシー4″
−ヘキシルビフェニルを得る。
ヒドラジンヒドレートと、水酸化カリウムをジエチレン
グリコール中で反応させて還元し、4−メトキシー4″
−ヘキシルビフェニルを得る。
SteP44−メトキシー4′−ヘキシルビフェニルと
、臭化水素を酢酸中で反応させると、P−(P−ヘキシ
ルフェニル)フェノールが得られる。
、臭化水素を酢酸中で反応させると、P−(P−ヘキシ
ルフェニル)フェノールが得られる。
SteP5
P−(P5−ヘキシルフェニル)フェノールと、4−ア
ルキルシクロヘキシルカルボニルクロリドをエチルエー
テル中でトリエチルアミンの存在下で反応させ、P−(
P″−ヘキシルフェニル)フエニル4−アルキルシクロ
ヘキシルカルボネートを得る。
ルキルシクロヘキシルカルボニルクロリドをエチルエー
テル中でトリエチルアミンの存在下で反応させ、P−(
P″−ヘキシルフェニル)フエニル4−アルキルシクロ
ヘキシルカルボネートを得る。
以下、実施例に従い、本発明の詳細な説明する。
実施例1
〔P−(P−ヘキシルフェニル)フェニル)4−ペンチ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕StePl 市販のP−フェニルフェノール30y (4).176m0I)を1.5規定水酸化ナトリウム
水溶液370m1に溶解させ、0〜10℃で攪拌下硫酸
ジメチル44.8yを滴下し、氷冷下で1時間攪拌した
。
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕StePl 市販のP−フェニルフェノール30y (4).176m0I)を1.5規定水酸化ナトリウム
水溶液370m1に溶解させ、0〜10℃で攪拌下硫酸
ジメチル44.8yを滴下し、氷冷下で1時間攪拌した
。
更に、反応を完結させるために、3時間70〜90゜C
に加熱下攪拌した。続いて室温まで冷却し、析出した固
体を沖過した。得られた結晶をエチルアルコールで再結
晶し、4−メトキシビフェニルが17.2y(0.09
3n101)得られ、収率は53.1%であつた。この
生成物の赤外線スペクトルを第1図に示した。SteP
2 4−メトキシビフェニル17.2g(0.093m0り
を二硫化炭素200m1に懸濁させ、0℃以下まで冷却
し、1時間攪拌した。
に加熱下攪拌した。続いて室温まで冷却し、析出した固
体を沖過した。得られた結晶をエチルアルコールで再結
晶し、4−メトキシビフェニルが17.2y(0.09
3n101)得られ、収率は53.1%であつた。この
生成物の赤外線スペクトルを第1図に示した。SteP
2 4−メトキシビフェニル17.2g(0.093m0り
を二硫化炭素200m1に懸濁させ、0℃以下まで冷却
し、1時間攪拌した。
続いて塩化アルミニウムを14.9y(イ)泪MOl)
すばやく加え1時間攪拌した後、ペンチリルクロリド1
2.6q(0.094m01)を、反応混合物の温度が
5゜Cを越えないようにして攪拌下滴下し、氷冷下て1
時間攪拌した。更に室温で1時間攪拌し、一夜放置した
。1時間還流した後、反応混合物を氷冷し、濃塩酸を8
5mt加えた。
すばやく加え1時間攪拌した後、ペンチリルクロリド1
2.6q(0.094m01)を、反応混合物の温度が
5゜Cを越えないようにして攪拌下滴下し、氷冷下て1
時間攪拌した。更に室温で1時間攪拌し、一夜放置した
。1時間還流した後、反応混合物を氷冷し、濃塩酸を8
5mt加えた。
一夜放置後水蒸気蒸留て二硫化炭素を留去し、残留物を
氷冷した。析出した結晶を酒過し、水洗して得た結晶を
エチルアルコールで再結晶し、4ーメトキシー4″−ヘ
キシロイルビフエニルが10.5y(4).037m0
り得られ、収率は40%であつた。S粕P34−メトキ
シー4″−ヘキシロイルビフエニル10.5y(イ).
037m01)をジエチレングリコール100m1に熱
して溶解させ、ヒドラジンヒドレート4.0y(0.0
8n101)のジエチレングリコール25mt溶液を加
え、更に水酸化カリウム5.0y(0.087m01)
を加えた。
氷冷した。析出した結晶を酒過し、水洗して得た結晶を
エチルアルコールで再結晶し、4ーメトキシー4″−ヘ
キシロイルビフエニルが10.5y(4).037m0
り得られ、収率は40%であつた。S粕P34−メトキ
シー4″−ヘキシロイルビフエニル10.5y(イ).
037m01)をジエチレングリコール100m1に熱
して溶解させ、ヒドラジンヒドレート4.0y(0.0
8n101)のジエチレングリコール25mt溶液を加
え、更に水酸化カリウム5.0y(0.087m01)
を加えた。
続いて反応混合物を100〜120℃に加熱し、2時間
攪拌した。続いて、反応装置に蒸留装置を付け、反応混
合物の温度が180゜Cになるまで蒸留し、続いて18
0〜200℃において3時間還流して室温で一夜放置し
た。黄色の結晶が析出したので、これを枦過し、得た結
晶をヘキサンで再結晶した。これで4−メトキシー4″
−ヘキシルビフェニルが6.0ダ得られ収率は60.5
%であつた。この赤外線スペクトルを第2図に示した。
SteP4 4−メトキシー4″−ヘキシルビフェニル6.0y(4
).022rr101)を氷酢酸I5Omtに溶解させ
、臭化水素(47%)41mtを加えた。
攪拌した。続いて、反応装置に蒸留装置を付け、反応混
合物の温度が180゜Cになるまで蒸留し、続いて18
0〜200℃において3時間還流して室温で一夜放置し
た。黄色の結晶が析出したので、これを枦過し、得た結
晶をヘキサンで再結晶した。これで4−メトキシー4″
−ヘキシルビフェニルが6.0ダ得られ収率は60.5
%であつた。この赤外線スペクトルを第2図に示した。
SteP4 4−メトキシー4″−ヘキシルビフェニル6.0y(4
).022rr101)を氷酢酸I5Omtに溶解させ
、臭化水素(47%)41mtを加えた。
続いて1満間還流した後に、反応混合物を200m1の
水に投入し、冷却し、析出した結晶を枦過し、得た結晶
をエチルアルコールで再結晶した。これでP−(P″−
ヘキシルフェニル)フェノールが3.9V得られ収率は
69.8%であつた。この赤外線スペクトルを第3図に
示した。SteP5 P−(P″−ヘキシルフェニル)フェノール0.9f(
3.5771.m0りとトリエチルアミンLmlをエチ
ルエーテル10m1に溶かし、4−ペンチルシクロヘキ
シルカルボニルクロリド0.77y(3.5rrLm0
1)のエチルエーテル溶液を氷冷攪拌下滴下した。
水に投入し、冷却し、析出した結晶を枦過し、得た結晶
をエチルアルコールで再結晶した。これでP−(P″−
ヘキシルフェニル)フェノールが3.9V得られ収率は
69.8%であつた。この赤外線スペクトルを第3図に
示した。SteP5 P−(P″−ヘキシルフェニル)フェノール0.9f(
3.5771.m0りとトリエチルアミンLmlをエチ
ルエーテル10m1に溶かし、4−ペンチルシクロヘキ
シルカルボニルクロリド0.77y(3.5rrLm0
1)のエチルエーテル溶液を氷冷攪拌下滴下した。
続いて2時間氷冷下攪拌し、更に4時間還流した。一夜
放置後、反応混合物に水を加えエーテル抽出をし、エー
テル層を水、3規定の塩酸、水、10%の水酸化ナトリ
ウム、水の順に洗浄した。エーテル層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、エーテルを留去し、残留物をエタノール
で再結晶した。これで、P−(P′−ヘキシルフェニル
)フェニル4コーペンチルシクロヘキシルカルボネート
が0.9yが得られ、収率は58.6%であつた。液ク
ロマトグラフで純度を測定すると99.7%であつた。
この化合物の赤外線スペクトルを第4図に示す。また、
示差熱量計で液晶温度範囲を測定したところ、以・下の
ような値であつた。(但し、Mp(C−S)は融点すな
わち結晶状態Cノからスメクチツク液晶相Sへの転位点
、S−Nはスメクチツク液晶相からネマチツク液晶相N
への相転移点、Cp(N−1)は透明点すなわちネマチ
ツク液晶相から透方状態1への転移点をそれぞれ示す。
放置後、反応混合物に水を加えエーテル抽出をし、エー
テル層を水、3規定の塩酸、水、10%の水酸化ナトリ
ウム、水の順に洗浄した。エーテル層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、エーテルを留去し、残留物をエタノール
で再結晶した。これで、P−(P′−ヘキシルフェニル
)フェニル4コーペンチルシクロヘキシルカルボネート
が0.9yが得られ、収率は58.6%であつた。液ク
ロマトグラフで純度を測定すると99.7%であつた。
この化合物の赤外線スペクトルを第4図に示す。また、
示差熱量計で液晶温度範囲を測定したところ、以・下の
ような値であつた。(但し、Mp(C−S)は融点すな
わち結晶状態Cノからスメクチツク液晶相Sへの転位点
、S−Nはスメクチツク液晶相からネマチツク液晶相N
への相転移点、Cp(N−1)は透明点すなわちネマチ
ツク液晶相から透方状態1への転移点をそれぞれ示す。
以後の実施例でも同様てある。)実施例2
〔P−(P′−ヘキシルフェニル)フェニル4ープロピ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、P−(P″−ヘキシルフェニル)フェニル4
−プロピルシクロヘキシルカルボネートを得た。
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、P−(P″−ヘキシルフェニル)フェニル4
−プロピルシクロヘキシルカルボネートを得た。
この化合物の赤外線スペクトルを第5図に示す。また、
示差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。ただ
し、この試料の純度は99.4%である。Mp(C−S
):70℃、S−N:132.5℃、CP(N−1):
17.9Sc実施例3 〔P−(P5−ヘキシルフェニル)フェニル4ーブチル
シクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様の
方法で、純度99.2%のP−(P′−ヘキシルフェニ
ル)フェニル4−ブチルシクロヘキシルカルボネートが
得られた。
示差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。ただ
し、この試料の純度は99.4%である。Mp(C−S
):70℃、S−N:132.5℃、CP(N−1):
17.9Sc実施例3 〔P−(P5−ヘキシルフェニル)フェニル4ーブチル
シクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様の
方法で、純度99.2%のP−(P′−ヘキシルフェニ
ル)フェニル4−ブチルシクロヘキシルカルボネートが
得られた。
この化合物の赤外線スペクトルを第6図に示す。また示
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):61℃、s−N:14rc1Cp(N−1)
:176、C実施例4 〔P−(P″−ヘキシルフェニル)フェニル4−ヘキシ
ルシクロヘキシルカルボネートの合;成〕実施例1と同
様の方法で、純度99.4%のP一(P″−ヘキシルフ
ェニル)フェニル4−ヘキシルシクロヘキシルカルボネ
ートが得られた。
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):61℃、s−N:14rc1Cp(N−1)
:176、C実施例4 〔P−(P″−ヘキシルフェニル)フェニル4−ヘキシ
ルシクロヘキシルカルボネートの合;成〕実施例1と同
様の方法で、純度99.4%のP一(P″−ヘキシルフ
ェニル)フェニル4−ヘキシルシクロヘキシルカルボネ
ートが得られた。
この化合物の赤外線スペクトルを第7図に示す。またi
ゞ示差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。M
p(C−S):38℃、S−N:162.5℃、Cp(
N−1):174、C実施例5 〔P−(P5−ヘキシルフェニル)フェニル4ーヘプチ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、純度100%のP一7(P′−ヘキシルフェ
ニル)フェニル4−ヘプチルシクロヘキシルカルボネー
トが得られた。
ゞ示差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。M
p(C−S):38℃、S−N:162.5℃、Cp(
N−1):174、C実施例5 〔P−(P5−ヘキシルフェニル)フェニル4ーヘプチ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、純度100%のP一7(P′−ヘキシルフェ
ニル)フェニル4−ヘプチルシクロヘキシルカルボネー
トが得られた。
この化合物の赤外線スペクトルを第8図に示す。また示
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):21.3以C,.S−N:166.(3C1
CP(N−1):173.rC実施例6 〔P−(Pゞ−ヘキシルフェニル)フェニル4ーオクチ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、純度99.0%のP−(P5−ヘキシルフェ
ニル)フェニル4−オクチルシクロヘキシルカルボネー
トが得られた。
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):21.3以C,.S−N:166.(3C1
CP(N−1):173.rC実施例6 〔P−(Pゞ−ヘキシルフェニル)フェニル4ーオクチ
ルシクロヘキシルカルボネートの合成〕実施例1と同様
の方法で、純度99.0%のP−(P5−ヘキシルフェ
ニル)フェニル4−オクチルシクロヘキシルカルボネー
トが得られた。
この化合物の赤外線スペクトルを第9図に示す。また示
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):12.9℃、S−N:159.9.C1Cp
(N−1):163.8℃以上、実施例1〜6で得られ
た液晶性エステル化合物の特性をまとめて表1に示す。
差熱量計での測定結果は以下のとおりであつた。Mp(
C−S):12.9℃、S−N:159.9.C1Cp
(N−1):163.8℃以上、実施例1〜6で得られ
た液晶性エステル化合物の特性をまとめて表1に示す。
実施例7
本発明の化合物P−(P″−ヘキシルフェニル)フェニ
ル4−ペンチルシクロヘキシルカルボネートを、ビフェ
ニル液晶の混合物に添加して透明点の変化を調べたとこ
ろ、表2のようになつた。
ル4−ペンチルシクロヘキシルカルボネートを、ビフェ
ニル液晶の混合物に添加して透明点の変化を調べたとこ
ろ、表2のようになつた。
本発明の化合物を4.5%添加するだけで、透明点が5
6゜Cから60.7Cまで上がるので、液晶温度範囲の
上限を上ける効果がある。また、表2の液晶組成物及び
、表2の本発明の化合物以外のビフェニル液晶だけの液
晶組成物をそれぞれ形成し、厚さ8μmのセルに封入し
て20℃における電圧−コントラスト特性を調べた。
6゜Cから60.7Cまで上がるので、液晶温度範囲の
上限を上ける効果がある。また、表2の液晶組成物及び
、表2の本発明の化合物以外のビフェニル液晶だけの液
晶組成物をそれぞれ形成し、厚さ8μmのセルに封入し
て20℃における電圧−コントラスト特性を調べた。
その図を第10図に示した。実線は表2の液晶組成物の
ものてあり、破線は表2の本発明の化合物以外のビフェ
ニル液晶だけのものである。ビフエニル液晶だけの場合
、Vth(透過率90%の時の電圧)は1.6Vで、V
sat(透過率10%の時の電圧)は2.3Vであり、
応答速度(セルにVsatの1市倍の電圧を印加した時
に、透過率90%になるまてに要する時間)は105m
secであつた。一方、本発明の化合物を添加した液晶
組成物の場合、■山は1.6■で、■Satは2.4■
であり、応答速度は1057nsecであつた。いずれ
の場合もVth及び■Sat及び応答速度に変化がなく
ほぼ同じである。従つて、本発明によつて提供される化
合物は、駆動電圧及び応答時間を変えることなく、液晶
温度範囲を広ける効果を持つ。実施例8 二周波駆動用液晶材料としてよく用いられるP−ペンチ
ルフェニル2−クロロー4−(P−ペンチルベンゾイル
オキシ)ベンゾエートに、本発明によつて提供される化
合物を添加して形成した液晶組成物を表3及び表4に示
した。
ものてあり、破線は表2の本発明の化合物以外のビフェ
ニル液晶だけのものである。ビフエニル液晶だけの場合
、Vth(透過率90%の時の電圧)は1.6Vで、V
sat(透過率10%の時の電圧)は2.3Vであり、
応答速度(セルにVsatの1市倍の電圧を印加した時
に、透過率90%になるまてに要する時間)は105m
secであつた。一方、本発明の化合物を添加した液晶
組成物の場合、■山は1.6■で、■Satは2.4■
であり、応答速度は1057nsecであつた。いずれ
の場合もVth及び■Sat及び応答速度に変化がなく
ほぼ同じである。従つて、本発明によつて提供される化
合物は、駆動電圧及び応答時間を変えることなく、液晶
温度範囲を広ける効果を持つ。実施例8 二周波駆動用液晶材料としてよく用いられるP−ペンチ
ルフェニル2−クロロー4−(P−ペンチルベンゾイル
オキシ)ベンゾエートに、本発明によつて提供される化
合物を添加して形成した液晶組成物を表3及び表4に示
した。
P−ペンチルフェニル2−クロロー4−(P−ペンチル
ベンゾイルオキシ)ベンゾエートの透明点は123であ
るが、表3及び表4に示したように、本発明によつて提
供される化合物を20.1%添加すると透明点は126
.5℃になり、45.4%添加すると透明点は135.
5℃になり、この場合てもやはり透明点を上げる効果を
示している。また、表3及び表4の液晶組成物を厚さ7
μmのセルに封入し、24.00C及び40.0℃にお
いて誘電異方性の周波数依存性を測定すると、第11図
のA,b,cのような誘電分散の現象がみられた。
ベンゾイルオキシ)ベンゾエートの透明点は123であ
るが、表3及び表4に示したように、本発明によつて提
供される化合物を20.1%添加すると透明点は126
.5℃になり、45.4%添加すると透明点は135.
5℃になり、この場合てもやはり透明点を上げる効果を
示している。また、表3及び表4の液晶組成物を厚さ7
μmのセルに封入し、24.00C及び40.0℃にお
いて誘電異方性の周波数依存性を測定すると、第11図
のA,b,cのような誘電分散の現象がみられた。
aは、P−ペンチルフェニル2−クロロー4−(P−ペ
ンチルベンゾイルオキシ)ベンゾエートだけの場合であ
り、bは表3の液晶組成物のものてあり、cは表4の液
晶組成物のものてある。また、図において、実線は24
.0℃における誘電異方性であり、破線は40.0゜C
における誘電異方性である。これらから分かるように、
本発明によつて提供される液晶性化合物の混合割合が増
すにつれて、交差周波数Fc(誘電異方性が0になる周
波数)の24.0℃における値に対する40.0℃にお
ける値の増加率が小さくなつている。すなわち本発明に
よつて提供される液晶性エステル化合物は、交差周波数
の温度依存性が小さく、つまり、マージンが広い特質を
持つている。そしてこれらA,b,cにおける交差周波
数は2〜13KHzであり、比較的小さい。また、本発
明によつて提供される化合物は交差周波数の値のわりに
、応答速度が速い。これらの本発明で提供される化合物
の諸特性は、二周波駆動用液晶材料に必要で重要な特性
である。
ンチルベンゾイルオキシ)ベンゾエートだけの場合であ
り、bは表3の液晶組成物のものてあり、cは表4の液
晶組成物のものてある。また、図において、実線は24
.0℃における誘電異方性であり、破線は40.0゜C
における誘電異方性である。これらから分かるように、
本発明によつて提供される液晶性化合物の混合割合が増
すにつれて、交差周波数Fc(誘電異方性が0になる周
波数)の24.0℃における値に対する40.0℃にお
ける値の増加率が小さくなつている。すなわち本発明に
よつて提供される液晶性エステル化合物は、交差周波数
の温度依存性が小さく、つまり、マージンが広い特質を
持つている。そしてこれらA,b,cにおける交差周波
数は2〜13KHzであり、比較的小さい。また、本発
明によつて提供される化合物は交差周波数の値のわりに
、応答速度が速い。これらの本発明で提供される化合物
の諸特性は、二周波駆動用液晶材料に必要で重要な特性
である。
以上実施例で述べてきたように、本発明によつて提供さ
れる液晶性エステル化合物は、透明点が高いので、FE
−TN用においても、二周波駆動用においても、液晶組
成物の液晶温度範囲を広げ、特に、透明点を上げる特性
を持つている。
れる液晶性エステル化合物は、透明点が高いので、FE
−TN用においても、二周波駆動用においても、液晶組
成物の液晶温度範囲を広げ、特に、透明点を上げる特性
を持つている。
更に、二周波駆動用として、マージンが広く、分散周波
数が比較的小さく、応答速度が速いという特性を持ち、
光や熱に対しても安定であるので、エージングの面でも
問題はない。また、ポジ型ゲスト−ホスト表示素子など
、種々の表示体に用いる液晶材料として利用でき、更に
特筆すべきことは、本発明によつて提供される化合物は
非常に広いスメクチツク層を有しているので、液晶の熱
光学効果を利用した、熱書き込みによる投写型の大形表
示などにも利用できる。このように、本発明によつて提
供される液晶性エステル化合物は非常に広い応用が考え
られ、応用例はここに記したものに限るものではない。
数が比較的小さく、応答速度が速いという特性を持ち、
光や熱に対しても安定であるので、エージングの面でも
問題はない。また、ポジ型ゲスト−ホスト表示素子など
、種々の表示体に用いる液晶材料として利用でき、更に
特筆すべきことは、本発明によつて提供される化合物は
非常に広いスメクチツク層を有しているので、液晶の熱
光学効果を利用した、熱書き込みによる投写型の大形表
示などにも利用できる。このように、本発明によつて提
供される液晶性エステル化合物は非常に広い応用が考え
られ、応用例はここに記したものに限るものではない。
第1図から第9図はそれぞれ次の化合物のヌジヨール法
による赤外線吸収スペクトルである。
による赤外線吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rは炭素数が3〜8個の直鎖アルキル基を示す
。 )で表わされることを特徴とする液晶性エステル化合物
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8124780A JPS6058219B2 (ja) | 1980-06-16 | 1980-06-16 | 液晶性エステル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8124780A JPS6058219B2 (ja) | 1980-06-16 | 1980-06-16 | 液晶性エステル化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS577444A JPS577444A (en) | 1982-01-14 |
| JPS6058219B2 true JPS6058219B2 (ja) | 1985-12-19 |
Family
ID=13741064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8124780A Expired JPS6058219B2 (ja) | 1980-06-16 | 1980-06-16 | 液晶性エステル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058219B2 (ja) |
-
1980
- 1980-06-16 JP JP8124780A patent/JPS6058219B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS577444A (en) | 1982-01-14 |
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