JPS6059223B2 - 液晶性化合物 - Google Patents
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Landscapes
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶性化合物に係わり、更に詳しくは液晶温度
範囲の広い、特に液晶−液体転移温度(Cl、p)が高
く、且つ液晶混合系において溶解性に優れる液晶性化合
物に関する。
範囲の広い、特に液晶−液体転移温度(Cl、p)が高
く、且つ液晶混合系において溶解性に優れる液晶性化合
物に関する。
液晶組成物を用いた電気光学的表示素子については従来
より様々な研究がなされている。
より様々な研究がなされている。
中でもねじれ配向をもつネマチツク液晶を用いたTN型
の液晶表示体はその主流として腕時計、電卓などに広く
利用されている。これらに用いられる液晶組成物は、そ
の目的と:R ■〔式中、Rは炭素数が3〜5個の直鎖
アルキル基、R’は炭素数が、3、5又は7個の直鎖ア
ルキル基を示す。
の液晶表示体はその主流として腕時計、電卓などに広く
利用されている。これらに用いられる液晶組成物は、そ
の目的と:R ■〔式中、Rは炭素数が3〜5個の直鎖
アルキル基、R’は炭素数が、3、5又は7個の直鎖ア
ルキル基を示す。
〕で表わされるP−(トランス−◎(←・’:゛する表
示特性に応じて物性の異なる数種類の液晶性化合物を混
合して形成されている。
示特性に応じて物性の異なる数種類の液晶性化合物を混
合して形成されている。
こうした現状において、表示体材料一素材として最低限
に要求されることは、(1) 表示体実用温度範囲を広
く被う液晶温度範囲特に高いCl、pをもつこと。
に要求されることは、(1) 表示体実用温度範囲を広
く被う液晶温度範囲特に高いCl、pをもつこと。
(2)液晶組成物の形成において他の液晶性化合物との
溶解性に優れること。
溶解性に優れること。
(3)湿気、熱、光などに対して安定であること。
などである。本発明ではこれらの要求を満足する。
即ち液晶温度範囲が広く、且つ溶解性、安定性に優れた
液晶性化合物を提供することを目的とした。本発明の化
合物は一般式が ○(←・’ 4−n−アルキルシクロヘキシル)フェニル Pダー(
トランスー4−n−アルキルシクロヘキシル)ベンゾエ
ートである。
液晶性化合物を提供することを目的とした。本発明の化
合物は一般式が ○(←・’ 4−n−アルキルシクロヘキシル)フェニル Pダー(
トランスー4−n−アルキルシクロヘキシル)ベンゾエ
ートである。
該化合物は次のようにして合成できる。
市販の4−(トランスー4″−n−アルキルシクロヘキ
シル)ベンゾニトリル・・・・・〔以下一般式で示す〕
より文献〔MOl.Oryst.Lig.CrystV
Ol.56Letterspp5l〜56,1979〕
の方法に従い4−(トランスー4″−n−アルキルシク
ロヘキシル)アニリン→〔以下一般式:で示す〕を 得、更に常法により4−(トランスー4″−n−アルキ
ルシクロヘキシル)フェノール→〔以下一般式で示す〕
を製取す る。
シル)ベンゾニトリル・・・・・〔以下一般式で示す〕
より文献〔MOl.Oryst.Lig.CrystV
Ol.56Letterspp5l〜56,1979〕
の方法に従い4−(トランスー4″−n−アルキルシク
ロヘキシル)アニリン→〔以下一般式:で示す〕を 得、更に常法により4−(トランスー4″−n−アルキ
ルシクロヘキシル)フェノール→〔以下一般式で示す〕
を製取す る。
一方
を常法により
4−(トランスー4″−n−アルキルシクロヘキシル)
安息香酸一〔以下一般式で示す〕を得、更 に4−(トランスー4″−n−アルキルシクロヘキシル
)安息香酸クロライド→〔以下一般式で示す〕を製取す る。
安息香酸一〔以下一般式で示す〕を得、更 に4−(トランスー4″−n−アルキルシクロヘキシル
)安息香酸クロライド→〔以下一般式で示す〕を製取す る。
最後に
と
をエステル化を行
ない係わる
を製取する。
以下反応工程を示し、その既略を説明する。
を水−エタノール混合溶媒中で水酸化カリウムと煮沸し
4一(トランスー45−n−アルキルシクロヘキシル)
ベンズアミドを得る。
4一(トランスー45−n−アルキルシクロヘキシル)
ベンズアミドを得る。
Step2:このベンズアミドをナトリウム金属を溶か
した乾燥メタノール中に溶解し、臭素を加え混合、加熱
しメチルー4−(トランスー4″−n−アルキルシクロ
ヘキシル)フエニルカーバメイトを得る。
した乾燥メタノール中に溶解し、臭素を加え混合、加熱
しメチルー4−(トランスー4″−n−アルキルシクロ
ヘキシル)フエニルカーバメイトを得る。
Step3:このフエニルカーバメイトを80%エタノ
ール中で水酸化カリウムと煮沸、分解して[Z得る。
ール中で水酸化カリウムと煮沸、分解して[Z得る。
iを70%硫
酸と混合し、亜硝酸ソーダ溶液を加えてジアゾ硫酸塩溶
液をつくり、これを加水分解して(を得る。
液をつくり、これを加水分解して(を得る。
をエチレ
ングリコール中で水酸化カリウム水溶液と煮沸、分解し
、4−(トランスー4−n−アルキルシクロヘキシル)
安息香酸のカリウム塩を得る。
、4−(トランスー4−n−アルキルシクロヘキシル)
安息香酸のカリウム塩を得る。
Step6:このカリウム塩を過剰量の塩酸中に入れ数
時間激しく攪拌し■得る。
時間激しく攪拌し■得る。
を塩化
チオニルと反応せしめて
を得る。
SteP8:SteP4で得た
とSteP7で得た
をエーテル中、適
当な塩基性触媒を用いてエステル化し、係わるを製取す
る。
る。
以下、本発明の実施の態様を更に詳しく示すため実施例
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
実施例1
Step1:4−(トランスー4′−n−ペンチルシク
ロヘキシル)ベンゾニトリル25.5yと水酸化カリウ
ム36gを70%エタノール750m1に溶解し16時
間還流下に加熱した。
ロヘキシル)ベンゾニトリル25.5yと水酸化カリウ
ム36gを70%エタノール750m1に溶解し16時
間還流下に加熱した。
還流後析出した結晶を口過し、水で洗浄後、乾燥した。
該化合物は4−(トランスー4′−n−ペンチルシクロ
ヘキシル)ベンズアミドである。SteP2:乾燥メタ
ノール3.9′にナトリウム金属80yを溶解し、室温
迄冷却した。この溶液にStePlで得たベンズアミド
15.2fを溶解し、激しく攪拌しつつ臭素40.5m
1を加え引き続き4時間加熱した。反応後メタノールの
大部分を留去し、残渣に3eの水を加え、析出した沈澱
物を口過し、水で洗浄後、乾燥した。該化合物はメチル
ー4−(トランスー4″−n−ペンチルシクロヘキシル
)フエニルカーバメイトである。SteP3:SteP
2で得たカーバメイト8.6gを水酸化カリウム215
f1を溶解したエタノール佼侶ml一水172m1混合
溶媒に加え、冷却管の上部に窒素を封したゴム風船を備
え、24時間還流下に加熱した。還流後エタノールを留
去し、残留物を300mtの水に注ぎ込み、この水溶液
をエーテル抽出した。エーテル溶液を数回水で洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを留去した
。続いて残渣を減圧蒸留し、Bpl5O〜160℃・2
W1!FtHgの留分を採つた。該化合物は4−(トラ
ンスー4″−n−ペンチルシクロヘキシル)アニリンで
ある。SteP4:SteP3で得たアニリン5.7f
を40%硫酸25mLを加え均一な混合物として氷冷し
た。一方亜硝酸ナトリウム水溶液(NaNO22.7y
l水6m1)をつくり、冷却、攪拌しながら、前記アニ
リンー硫酸混合物に徐々に加えジアゾ硫酸塩溶液をつく
つた。ジアゾ化が進行中50%硫酸を湯浴上で90Cに
加熱し、前記ジアゾ硫酸塩溶液を入れ加水分解した。冷
却固化した結晶を口過、水洗い、乾燥した後、減圧下(
2mHg)て昇華製取した。該化合物は4−(トランス
ー4″−n−ペンチルシクロヘキシル)フェノール・・
・・である。
該化合物は4−(トランスー4′−n−ペンチルシクロ
ヘキシル)ベンズアミドである。SteP2:乾燥メタ
ノール3.9′にナトリウム金属80yを溶解し、室温
迄冷却した。この溶液にStePlで得たベンズアミド
15.2fを溶解し、激しく攪拌しつつ臭素40.5m
1を加え引き続き4時間加熱した。反応後メタノールの
大部分を留去し、残渣に3eの水を加え、析出した沈澱
物を口過し、水で洗浄後、乾燥した。該化合物はメチル
ー4−(トランスー4″−n−ペンチルシクロヘキシル
)フエニルカーバメイトである。SteP3:SteP
2で得たカーバメイト8.6gを水酸化カリウム215
f1を溶解したエタノール佼侶ml一水172m1混合
溶媒に加え、冷却管の上部に窒素を封したゴム風船を備
え、24時間還流下に加熱した。還流後エタノールを留
去し、残留物を300mtの水に注ぎ込み、この水溶液
をエーテル抽出した。エーテル溶液を数回水で洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを留去した
。続いて残渣を減圧蒸留し、Bpl5O〜160℃・2
W1!FtHgの留分を採つた。該化合物は4−(トラ
ンスー4″−n−ペンチルシクロヘキシル)アニリンで
ある。SteP4:SteP3で得たアニリン5.7f
を40%硫酸25mLを加え均一な混合物として氷冷し
た。一方亜硝酸ナトリウム水溶液(NaNO22.7y
l水6m1)をつくり、冷却、攪拌しながら、前記アニ
リンー硫酸混合物に徐々に加えジアゾ硫酸塩溶液をつく
つた。ジアゾ化が進行中50%硫酸を湯浴上で90Cに
加熱し、前記ジアゾ硫酸塩溶液を入れ加水分解した。冷
却固化した結晶を口過、水洗い、乾燥した後、減圧下(
2mHg)て昇華製取した。該化合物は4−(トランス
ー4″−n−ペンチルシクロヘキシル)フェノール・・
・・である。
Step5:4−(トランスー45−n−ペンチルシク
ロヘキシル)ベンゾニトリル22.5yをエチレングリ
コール410m1に加熱溶解した。
ロヘキシル)ベンゾニトリル22.5yをエチレングリ
コール410m1に加熱溶解した。
この溶液の沸騰中に水酸化カリウム30f1水60m1
溶液を加え、8時間還流下に加熱した。冷却後、析出し
た結晶は4−(トランスー4″−n−ペンチルシクロヘ
キシル)安息香酸のカリウム塩である。SteP6:上
記反応混合物中に水500m1を入れカリウム塩を溶解
した。
溶液を加え、8時間還流下に加熱した。冷却後、析出し
た結晶は4−(トランスー4″−n−ペンチルシクロヘ
キシル)安息香酸のカリウム塩である。SteP6:上
記反応混合物中に水500m1を入れカリウム塩を溶解
した。
この溶液に塩酸の過剰量200m1を加え、3時間攪拌
混合した。結晶を口過し、水で洗い、乾燥後エタノール
により再結晶した。該化合物は4−(トランスー4″−
n−ペンチルシクロヘキシル)安息香酸である。Ste
P7:SteP6で得た安息香酸5yと塩化チオニル2
0m1を混合し、ガスの発生が止むまで還流下に加熱し
た。
混合した。結晶を口過し、水で洗い、乾燥後エタノール
により再結晶した。該化合物は4−(トランスー4″−
n−ペンチルシクロヘキシル)安息香酸である。Ste
P7:SteP6で得た安息香酸5yと塩化チオニル2
0m1を混合し、ガスの発生が止むまで還流下に加熱し
た。
反応後過剰の塩化チオニルをアスピレーター減圧下で完
全に留去した。残渣は4一(トランスー4′−n−ペン
チルシクロヘキシル)安息香酸クロライド・・・である
。
全に留去した。残渣は4一(トランスー4′−n−ペン
チルシクロヘキシル)安息香酸クロライド・・・である
。
SteP8:SteP4で得た
をエーテ
ル20m1に溶解し、トリエチルアミン0.5m1を加
えて冷却した。
えて冷却した。
これにStep7で得た
のエー
テル15m1溶液を少量ずつ滴下し、都度よく振り混ぜ
た。
た。
その後1時間還流下に加熱した。還流後反応混合物中に
50m1の水を注加し、分液ロードを用いてエーテル層
を分離した。エーテル溶液を5%NaOHl水、6NH
C11水で各々洗浄した後エーテルを留去した。残渣を
エタノールにより再結晶した。該化合物は係わるP−(
トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェニル
P−(トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)ベ
ンゾエート・・・である。
50m1の水を注加し、分液ロードを用いてエーテル層
を分離した。エーテル溶液を5%NaOHl水、6NH
C11水で各々洗浄した後エーテルを留去した。残渣を
エタノールにより再結晶した。該化合物は係わるP−(
トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェニル
P−(トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)ベ
ンゾエート・・・である。
該化合物の遷移点を表1に、また赤外線吸収スペクトル
を第1図に示す。実施例2〜9 実施例1と同様にして下記化合物を製取した。
を第1図に示す。実施例2〜9 実施例1と同様にして下記化合物を製取した。
”実施例2:P−(トランスー4−n−プロピルシクロ
ヘキシル)フェニルP−(トランスー4一n−プロピル
シクロヘキシル)ベンゾエート実施例3:P−(トラン
スー4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェニルP−(
トランスー4一n−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエ
ート実施例4:P−(トランスー4−n−ヘプチルシク
ロヘキシル)フェニルP−(トランスー4一n−プロピ
ルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例5:P−(トラ
ンスー4−n−プロピルシクロヘキシル)フェニルP−
(トランスー4−3n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾ
エート実施例6:P−(トランスー4−n−ペンチルシ
クロヘキシル)フェニルP−(トランスー4一ゞn−ブ
チルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例7:P−(ト
ランスー4−n−ヘプチルシクロヘキシル)フェニルP
−(トランスー4一n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾ
エート実施例8:P−(トランスー4−n−プロピルシ
クロヘキシル)フェニルP−(トランスー4−★n−ペ
ンチルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例9:P−(
トランスー4−n−ヘプチルシクロヘキシル)フェニル
P−(トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)ベ
ンゾエート尚、これらの遷移点を表1に示し、また各々
の赤外線吸収スペクトルを第2図〜第9図に示す。
ヘキシル)フェニルP−(トランスー4一n−プロピル
シクロヘキシル)ベンゾエート実施例3:P−(トラン
スー4−n−ペンチルシクロヘキシル)フェニルP−(
トランスー4一n−プロピルシクロヘキシル)ベンゾエ
ート実施例4:P−(トランスー4−n−ヘプチルシク
ロヘキシル)フェニルP−(トランスー4一n−プロピ
ルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例5:P−(トラ
ンスー4−n−プロピルシクロヘキシル)フェニルP−
(トランスー4−3n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾ
エート実施例6:P−(トランスー4−n−ペンチルシ
クロヘキシル)フェニルP−(トランスー4一ゞn−ブ
チルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例7:P−(ト
ランスー4−n−ヘプチルシクロヘキシル)フェニルP
−(トランスー4一n−ブチルシクロヘキシル)ベンゾ
エート実施例8:P−(トランスー4−n−プロピルシ
クロヘキシル)フェニルP−(トランスー4−★n−ペ
ンチルシクロヘキシル)ベンゾエート実施例9:P−(
トランスー4−n−ヘプチルシクロヘキシル)フェニル
P−(トランスー4−n−ペンチルシクロヘキシル)ベ
ンゾエート尚、これらの遷移点を表1に示し、また各々
の赤外線吸収スペクトルを第2図〜第9図に示す。
表1から明らかな如く、本発明の化合物は、いずれも約
100℃から300℃という高温域で液晶相を示し、か
つスメクチツク液晶相を呈するため、これ単独では現在
広く使用されているツイスト・ネマチツク(TN)型の
液晶表示装置には応用できないが、融解熱エンタルピー
ΔHが、いずれも6.0〜7.5Kca1/MOlと小
さいため、溶解性がすぐれており、他の液晶化合物と容
易に混合することができ、また透明点(Cl.P)が非
常に高いため、周知のネマチツク液晶組成物に添加する
ことにより、その組成物の液晶性温度範囲を広げること
ができる。部より成る液晶組成物の液晶温度範囲はMp
く20℃〜Cl.p7O成Cである。
100℃から300℃という高温域で液晶相を示し、か
つスメクチツク液晶相を呈するため、これ単独では現在
広く使用されているツイスト・ネマチツク(TN)型の
液晶表示装置には応用できないが、融解熱エンタルピー
ΔHが、いずれも6.0〜7.5Kca1/MOlと小
さいため、溶解性がすぐれており、他の液晶化合物と容
易に混合することができ、また透明点(Cl.P)が非
常に高いため、周知のネマチツク液晶組成物に添加する
ことにより、その組成物の液晶性温度範囲を広げること
ができる。部より成る液晶組成物の液晶温度範囲はMp
く20℃〜Cl.p7O成Cである。
実施例10(応用例)
該液晶性組成物に本発明の液晶化合物
を5重量パーセント混合した液晶組成物を形成した。
該液晶組成物の液晶性温度範囲はMpく20℃〜Cl.
p78℃であつた。また、該液晶組成物を厚さ8.92
μmのTN型液晶セルに封止して20℃に於ける電圧V
.sコントラスト特性を測定したところ第10図に示す
結果を得た。
p78℃であつた。また、該液晶組成物を厚さ8.92
μmのTN型液晶セルに封止して20℃に於ける電圧V
.sコントラスト特性を測定したところ第10図に示す
結果を得た。
■Th:1.78V′VSat:2.48Vである。以
上述べた如く、本発明の化合物は、溶解性にすぐれてい
て、かつCl.Pが非常に高いため、ネマチツク液晶組
成物に少量添加することにより、液晶性温度範囲の広い
、TN型液晶表示装置用の液晶材料としてすぐれた特性
を有するネマチツク液晶組成物を提供することができる
ものであり、その実用効果はきわめて大きいものである
。
上述べた如く、本発明の化合物は、溶解性にすぐれてい
て、かつCl.Pが非常に高いため、ネマチツク液晶組
成物に少量添加することにより、液晶性温度範囲の広い
、TN型液晶表示装置用の液晶材料としてすぐれた特性
を有するネマチツク液晶組成物を提供することができる
ものであり、その実用効果はきわめて大きいものである
。
第1図〜第9図は下記に示す本発明の化合物の各々赤外
線吸収スペクトルである。
線吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rは炭素数が3〜5個の直鎖アルキル基、R′
は炭素数が、3,5又は7個の直鎖アルキル基を示す。 )で表わされることを特徴とする液晶性化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249081A JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16249081A JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5865251A JPS5865251A (ja) | 1983-04-18 |
| JPS6059223B2 true JPS6059223B2 (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=15755601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16249081A Expired JPS6059223B2 (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 液晶性化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059223B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5959648A (ja) * | 1982-07-28 | 1984-04-05 | エフ・ホフマン―ラ ロシユ アーゲー | 液晶性化合物 |
| GB2132612B (en) * | 1982-10-30 | 1986-01-22 | Dainippon Ink & Chemicals | Nematic liquid crystalline cyclohexyl esters |
| CN100386406C (zh) * | 2005-09-14 | 2008-05-07 | 西安近代化学研究所 | 四环酯类液晶化合物 |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16249081A patent/JPS6059223B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5865251A (ja) | 1983-04-18 |
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