JPS6059530U - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS6059530U JPS6059530U JP1983151045U JP15104583U JPS6059530U JP S6059530 U JPS6059530 U JP S6059530U JP 1983151045 U JP1983151045 U JP 1983151045U JP 15104583 U JP15104583 U JP 15104583U JP S6059530 U JPS6059530 U JP S6059530U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- reactant gas
- plasma processing
- processing equipment
- gas conduit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図はプラズマ処理装置の従来例を示す模式図、第２
図は本考案の実施例の特徴とする部分を゛示す断面図で
ある。 図において、１２は基板電極、１３は上部電極、１５は
反応ガス導管を示す。
図は本考案の実施例の特徴とする部分を゛示す断面図で
ある。 図において、１２は基板電極、１３は上部電極、１５は
反応ガス導管を示す。
Claims (1)
- 気密封止された反応室内に、上表面が平面である第１の
電極と、該第１の電極の上方に配設されて下表面が水平
面である第２の電極と、該第２の電極の周辺近傍を周回
する反応ガス導管とを備えて、該反応ガス導管から前記
２電極間に、前記第１の電極に直接入射しない小俯角を
もって反応ガスが供給されることを特徴とするプラズマ
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983151045U JPS6059530U (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983151045U JPS6059530U (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059530U true JPS6059530U (ja) | 1985-04-25 |
Family
ID=30334827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983151045U Pending JPS6059530U (ja) | 1983-09-29 | 1983-09-29 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059530U (ja) |
-
1983
- 1983-09-29 JP JP1983151045U patent/JPS6059530U/ja active Pending
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