JPS6097766U - スパツタ装置 - Google Patents

スパツタ装置

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Publication number
JPS6097766U
JPS6097766U JP19162683U JP19162683U JPS6097766U JP S6097766 U JPS6097766 U JP S6097766U JP 19162683 U JP19162683 U JP 19162683U JP 19162683 U JP19162683 U JP 19162683U JP S6097766 U JPS6097766 U JP S6097766U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
sputtering device
target body
anode
center
Prior art date
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Pending
Application number
JP19162683U
Other languages
English (en)
Inventor
幹雄 瀬川
喜義 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP19162683U priority Critical patent/JPS6097766U/ja
Publication of JPS6097766U publication Critical patent/JPS6097766U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のスパッタ装置構成をしめず断面、　　図
、第２図はカソードとアノードとの相対的位置関係を示
す平面図、第３図は本考案のターゲツト体を装着した取
付は板平面図と側面図である。 図中、１は装置真空ベルジャ空間、２はカソード、３は
ターゲツト体、４はアノード、５は加工対象基板、６は
４の回転軸、８は真空排気孔、１０は取付は板、１１は
螺子貫通孔、１２は１０のセンタ、及び１３は装着ター
ゲツト体のセンタである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. プラズマガス空間内に平行的に対向するカソード及びア
    ノードを配置するスパッタ装置に於いて、カソード上の
    ターゲツト体は該カソードセンタに対して偏心して装着
    されたことを特徴とするスパッタ装置。
JP19162683U 1983-12-13 1983-12-13 スパツタ装置 Pending JPS6097766U (ja)

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JP19162683U JPS6097766U (ja) 1983-12-13 1983-12-13 スパツタ装置

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JP19162683U JPS6097766U (ja) 1983-12-13 1983-12-13 スパツタ装置

Publications (1)

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JPS6097766U true JPS6097766U (ja) 1985-07-03

Family

ID=30412604

Family Applications (1)

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JP19162683U Pending JPS6097766U (ja) 1983-12-13 1983-12-13 スパツタ装置

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Country Link
JP (1) JPS6097766U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62267726A (ja) * 1986-05-16 1987-11-20 Canon Inc 全固体エレクトロクロミック素子用酸化イリジウム膜の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62267726A (ja) * 1986-05-16 1987-11-20 Canon Inc 全固体エレクトロクロミック素子用酸化イリジウム膜の製造方法

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